2020光刻设备中标盘点:疫情之后,市场活力回升!
p style="text-align: justify text-indent: 2em "span style="text-indent: 28px "光刻机被业界誉为集成电路产业皇冠上的明珠,又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等,是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术,把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。出于众所周知的原因,中芯国际2018年订购、原预计2019年到货的ASML EUV光刻机,在2021年即将到来之际,依然听不到何时能发货的消息;近日,有消息人士透露,中芯国际新上任董事会副董事长蒋尚义将与ASML公司就EUV光刻设备进行谈判,谋求EUV光刻机发货。目前,中国光刻机技术至少落后国际先进水平2代以上,为解决中国半导体制造面临的困难,中科院率先士卒,白春礼院长表示:将光刻等卡脖子技术列入院里紧急的科研任务清单。/spanbr//pp style="text-indent: 28px text-align: justify "除了前述的紫外光刻技术外,广义的光刻设备还包括电子束光刻和离子束光刻等,在spanASML/span之外,还有众多其他生产厂商。此外,不同的应用(如:掩膜版、功率芯片等)对光刻机的制程要求也不同,中国市场上对span14nm/span以上的支撑的光刻机也有广泛的需求。硅芯片对先进制程光刻机要求很高,对于石墨烯晶圆发展出的碳基芯片而言,存在一种可能性:基于石墨烯的性能,在制造方面绕开了复杂的高端光刻技术,也可以理解为,对光刻技术的要求不像span5nm/span硅基芯片那么高的要求。span2019/span年,国际石墨烯创新大会上,中科院首次展示开发完成的span8/span英寸石墨烯晶圆,无论是在质量上或是尺寸上,该成果都达到了最顶尖的水平。仪器信息网近期特对一年内的光刻设备的中标讯息整理分析,供广大仪器用户参考。span style="color: rgb(165, 165, 165) font-size: 14px "(注:本文搜集信息全部来源于网络公开招投标平台,不完全统计分析仅供读者参考。)/span/pp style="text-align: center text-indent: 0em "span img style="max-width: 100% max-height: 100% width: 400px height: 240px " src="https://img1.17img.cn/17img/images/202012/uepic/34802fd0-c374-449f-9e6c-c4ac8e833df1.jpg" title="1.png" alt="1.png" width="400" height="240" border="0" vspace="0"//span/pp dir="ltr" style="text-align: center text-indent: 0em "strongspan style="font-family:' 微软雅黑' ,sans-serif color:#444444"各月中标量占比/span/strong/pp style="text-indent: 28px text-align: justify "span2019/span年span10/span月至span2020/span年span9/span月,根据统计数据,光刻设备的总中标数量为span104/span台,涉及金额上亿元。span2019/span年span10/span月至span2020/span年span1/span月,平均中标量约span9/span台每月。span2020/span年span2/span月,由于疫情影响,光刻设备市场低迷,无成交量。从span2020/span年span3/span月起,随着国内疫情稳定以及企业复产复工和高校复学的逐步推进,光刻设备市场逐渐回暖,其中span9/span月产品中标量高达span20/span台。 /pp style="text-indent: 0em text-align: center "img style="max-width: 100% max-height: 100% width: 400px height: 240px " src="https://img1.17img.cn/17img/images/202012/uepic/e0baace5-ac38-47dc-b240-776c8f3cb4a3.jpg" title="2.png" alt="2.png" width="400" height="240" border="0" vspace="0"//pp style="text-indent: 0em text-align: center "strongspan style="font-family:' 微软雅黑' ,sans-serif color:#444444"采购单位性质分布/span/strong/pp style="text-indent: 28px text-align: justify "从光刻设备的招标采购单位来看,高校是采购的主力军,采购量占比高达span55%/span,企业和科研院所的采购量分别占比span23%/span和span22%/span。值得注意的是,企业和科研院所采购设备的单价较高,集中于高端设备和量产型设备,而高校采购以科研为主,多采购无掩膜激光直写设备。其中,在企业采购中,华虹半导体是主力。/pp style="text-align: center text-indent: 0em "img style="max-width: 100% max-height: 100% width: 400px height: 240px " src="https://img1.17img.cn/17img/images/202012/uepic/3c69022a-3cd3-43ee-81d6-f0ac3b9e7b91.jpg" title="3.png" alt="3.png" width="400" height="240" border="0" vspace="0"//pp style="text-align: center text-indent: 0em "strongspan style="font-family:' 微软雅黑' ,sans-serif color:#444444"招标单位地区分布/span/strong/pp style="text-indent: 28px text-align: justify "本次盘点,招标单位地区分布共涉及span21/span个省份、自治区及直辖市。北京、上海、广东、江苏、浙江为光刻设备采购排名前span5/span的地区,其中北京的中标量最多,达span21/span台。在这些地区中,北京和广东以高校和科研院所采购为主,主要用于科研领域;上海以企业采购为主,这主要由于上海是我国集成电路产业发达地区;江苏以高校和企业采购为主,而浙江以科研院所采购为主。/pp style="text-indent: 0em text-align: center "img style="max-width: 100% max-height: 100% width: 400px height: 235px " src="https://img1.17img.cn/17img/images/202012/uepic/80044ef4-742c-4cb2-8c07-afdd52cb1f69.jpg" title="4.png" alt="4.png" width="400" height="235" border="0" vspace="0"//pp style="text-align: center text-indent: 0em "strongspan style="font-family:' 微软雅黑' ,sans-serif color:#444444"不同类型光刻设备占比/span/strong/pp style="text-indent: 28px text-align: justify "广义上的光刻设备还包括了电子束光刻和离子束光刻,根据搜集到的中标数据可知,传统光刻占据了中标光刻设备的主流、占比高达span92%/span。电子束光刻又称电子束曝光机,在采购中仅占span7%/span,主要用于科研领域和掩模版制作,但由于其刻蚀速率太低,无法用于量产,因此采购量较少,但span style="color: rgb(0, 0, 0) "stronga href="https://www.instrument.com.cn/news/20201106/564008.shtml"电子束曝光机是半导体制造的基础设备/a/strong/span。/pp style="text-indent: 28px text-align: justify "本次光刻设备中标盘点,涉及品牌有卡尔蔡司、spanRaith B.V./span、spanRAITH GmbH/span、span style="font-size:15px color:black"sigma、日本电子株式会社、spanSUSS MicroTec/span、spanHeidelberg Instruments/span、spanDurham Magneto Optics Ltd/span、/span span style="font-size:15px color:black"Nikon、spanEVG/span、spanTEL/span/span等。/pp style="text-indent:28px"其中,各品牌比较受欢迎的产品型号有:/pp style="text-align: center text-indent: 0em "img style="max-width:100% max-height:100% " src="https://img1.17img.cn/17img/images/202009/pic/c40ad352-119d-45d6-9361-9be039fcb2aa.jpg!w300x300.jpg" width="400"//ppbr//pp style="text-indent: 0em text-align: center "a href="https://www.instrument.com.cn/netshow/SH104744/" target="_self" style="text-decoration: none "span style="text-decoration: none color: rgb(0, 0, 0) "strong style="font-size: 16px text-decoration: underline "德国海德堡无掩膜直写设备/strong/spanstrong style="font-size: 16px text-decoration: underline "/strong/a/pp style="text-indent: 28px text-align: justify "span style="font-size: 16px "德国海德堡设备(Heidelberg Instruments),创始于1984年,在激光直写设备的发展和设计上持续地改良、在各种应用上客制化。海德堡区别于过去传统的工艺技术而开发的无掩膜激光直写技术,将设计图形直接曝光到涂覆有光刻胶的衬底材料上;曝光后,如果需要修改图形结构,可以直接通过CAD软件修改原始图形,然后重新曝光即可,无需花费重新制版的时间。主要产业应用有:生命科学、微流体、MEMS、微光学、传感器、材料研究等有微纳米结构需求的科研领域。/span/pp style="text-align:center"img style="max-width:100% max-height:100% " src="https://img1.17img.cn/17img/images/202009/pic/4b1e075e-81ff-4c18-90f1-bd342d67b07a.jpg!w300x300.jpg" width="400"//pp style="text-align:center"a href="https://www.instrument.com.cn/netshow/C435461.htm" target="_self" style="font-size: 16px text-decoration: underline "strongspan style="font-size: 15px color: black "URE-2000/35型光刻机/span/strong/a/pp style="text-indent: 29px text-align: justify "span style="font-size: 15px color: black "URE-2000/35型光刻机非常适合工厂(效率高,操作傻瓜型,自动化程度高)和高校教学科研(可靠性好,演示方便)采用自动找平,具备真空接触曝光、硬接触曝、压力接触曝以及接近式曝光四种功能,自动分离对准间隙和消除曝光间隙,采用 350W 进口(德国)直流汞灯,可调节光的能量密度。设备外形美观精制,性能非常可靠,自动化程度很高,操作十分方便。/span/pp style="text-align:center"img style="max-width:100% max-height:100% " src="https://img1.17img.cn/17img/images/201906/pic/eaf3b9a8-4055-486b-b31d-432241c0c564.jpg!w300x300.jpg" width="400"//pp style="text-align:center"a href="https://www.instrument.com.cn/netshow/C327949.htm" target="_self" style="font-size: 16px text-decoration: underline "span style="font-size: 16px "strongspan style="font-size: 15px color: black "EVG610单面/双面光刻机/span/strong/span/a/pp style="text-indent: 29px text-align: justify "span style="font-size: 15px color: black "EVG610是一款非常灵活的、适用于研发和小批量试产的对准系统,可处理200mm之内的各种规格的晶片。EVG610支持各种标准的光刻工艺,例如:真空、软、硬接触和接近曝光;也支持其他特殊的应用,如键合对准、纳米压印光刻、微接触印刷等。EVG610系统中的工具更换非常简便快捷,每次更换都可在几分钟之内完成,而不需要专门的工程人员和培训,非常适合大学、研究所的科研实验和小批量生产。/span/pp style="text-indent: 28px text-align: justify "点击此处进入span style="color: rgb(0, 176, 240) "【a href="https://www.instrument.com.cn/zc/2507.html"光刻机/a】/span专场,获取更多产品信息。/pp style="text-align: left text-indent: 0em "br//pp style=" margin-bottom:0 text-align:center"strongspan style="font-family:' 微软雅黑' ,sans-serif color:#444444"更多资讯请扫描下方二维码,关注【材料说】/span/strong/pp style="margin-bottom: 0px text-align: center "img style="max-width: 100% max-height: 100% width: 344px height: 344px " src="https://img1.17img.cn/17img/images/202012/uepic/2692bb86-ec9d-4332-9deb-ddc25bdcac7f.jpg" title="材料说.jpg" alt="材料说.jpg" width="344" height="344"//p