高纯硅样品

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高纯硅样品相关的耗材

  • 纯硅窗口
    硅窗口纯Pure Silicon Windows纯硅膜的厚度有5nm, 9nm, 15nm, 35nm,利用溅射沉积纯硅,允许对含氮和/或碳的样品进行元素分析。单晶纯硅具有1-0-0取向,制作35 nm的薄膜,用于衍射研究和其它需要从单晶薄膜中获得均匀的背景应用。无孔硅薄膜轻微起皱,大约100微米间距有5微米或更少的偏转,这对于高分辨率成像来说通常是没有问题的。纳米多孔硅Nanoporous采用P30膜使多孔窗口更加多孔,孔径一般在10-60纳米范围。 l 纳米级别的厚度-成像窗口的厚度为5到35 nm,降低背景的干扰,以更高的对比度成像。5nm厚的无孔纯硅窗口比市面上最薄的非晶碳膜更薄。l 可等离子清洗-可以强力等离子清洗,去除有机污染,不像传统的碳膜l 场到场的均匀性-非多孔纯硅窗口比碳膜更薄,减少了场到场的可变性.(注:多孔窗口确实具有固有的结晶特征,但具有无背景纳米尺度的孔隙)。l 降低色彩模糊-与市面上最薄的无定形碳膜相比,5nm无孔纯硅窗口的色彩模糊减少一半。这种巨大的差异是由于电子通过硅窗口的薄膜的非弹性散射减少了两倍。反过来,减少的色彩模糊提供了一个潜在的成像分辨率的两倍提高。l 纳米尺寸孔-纯硅窗口可作为孔径为5~50 nm的多孔薄膜。孔隙允许简单和稳定的悬浮纳米材料进行成像,而不干涉背景。l 硅成分优点- 纯硅窗口的元素硅组分在高束流和高退火温度下显著提高了稳定性。纯硅成分还引入了最小的背景信号,使含有氮和/或碳的样品的元素分析可以通过EDX和EELS进行。l 孤立的多晶体硅-多孔纯硅窗口的多晶特性为x射线衍射研究提供了内部校准标准。孤立的晶体特征也为高分辨率尺寸测量提供了一个方便可靠的尺度,硅的晶格特征也很好。 l 亲水性-无孔和多孔纯硅窗口的亲水性可通过等离子体和/或臭氧处理来调节,从而使样品的制备变得更加容易,特别是在水溶液中的样品。l 高稳定性能-在高束流和高退火温度下(无孔600°C,纳米孔1000°C) 货号产品描述窗口尺寸膜厚度规格76042-70Single Crystal Pure Si TEM Window(8) 100μm, (1) 100x350μm35nm10/pk76042-71Non-Porous Pure Si TEM Window25μm sq.5nm10/pk76042-72Non-Porous Pure Si TEM Window(8) 50μm sq., (1) 50x100μm5nm10/pk76042-73Non-Porous Pure Si TEM Window(2) 50x1500μm5nm10/pk76042-74Non-Porous Pure Si TEM Window(8) 100 sq., (1) 100x350μm9nm10/pk76042-75Non-Porous Pure Si TEM Window(2) 100x1500μm9nm10/pk76042-76Non-Porous Pure Si TEM Window(8) 100 sq., (1) 100x350μm15nm10/pk76042-77Non-Porous Pure Si TEM Window(2) 100x1500μm15nm10/pk76042-78Nanoporous Pure Si TEM Window500μm sq.-10/pk76042-79Nanoporous Pure Si TEM Window(8) 100 sq., (1) 100x350μm-10/pk
  • 4L酸纯化系统高纯酸提纯器CH系列纯化装置
    酸纯化器一、 产品简介: NJ-ZH酸纯化器:又称酸纯化系统,高纯酸提纯器,酸试剂提纯器,高纯酸蒸馏纯化器等,实验室工作中常常由于酸的纯度不够,造成分析结果的偏差与错误。市售的纯酸往往由于价格贵,很难满足日常分析中对酸的大量需求。因此,提纯优化酸的质量,为经济可行的途径,我厂的酸纯化器可用于实验室如HNO3、HCl、HF、碱溶液和有机溶剂的纯化,实验后期可配套我单位Teflon特氟龙系列试剂瓶收取高纯酸。二、工作原理:酸纯化器是利用热辐射原理,保持液体温度低于沸点温度蒸发,再将其酸蒸气冷凝从而制备高纯水和高纯试剂,应用于样品处理及分析实验中。温度控制:经实验证明HCl:110℃、HNO₃ +HF:175-180℃温度高、效率高,温度低酸的纯度会较好我厂高纯酸蒸馏纯化器优势:1、密闭环境下提纯酸,不受环境污染,确保酸纯度;2、节约成本、方便实验:较短时间内纯化低成本的酸试剂以达到痕量分析要求;3、可以满足ICP、ICP-MS低的检测限需要及苛刻的分析应用中提供实验室超纯酸,所用容器均采用Teflon耐腐蚀无吸附塑料,可处理如HNO3、HCl、HF等实验室的常用酸;4、实验证明将金属杂质含量约10ppb的酸经过一次蒸馏后,金属杂质含量可以降低到0.01ppb左右。若对酸要求还高,可增加提纯次数;5、可拆卸清洗,避免腔体里面长期提纯,造成金属杂质含量沉积越来越多,影响提纯的质量;
  • 高纯酸蒸馏纯化器NJ-CH2000ml硝酸用酸纯化仪
    酸纯化器(优惠价自咨询后有效期1个月)一、 产品简介: NJ-ZH酸纯化器:又称酸纯化系统,高纯酸提纯器,酸试剂提纯器,高纯酸蒸馏纯化器等,实验室工作中常常由于酸的纯度不够,造成分析结果的偏差与错误。市售的纯酸往往由于价格贵,很难满足日常分析中对酸的大量需求。因此,提纯优化酸的质量,为经济可行的途径,我厂的酸纯化器可用于实验室如HNO3、HCl、HF、碱溶液和有机溶剂的纯化,实验后期可配套我单位Teflon特氟龙系列试剂瓶收取高纯酸。二、工作原理:酸纯化器是利用热辐射原理,保持液体温度低于沸点温度蒸发,再将其酸蒸气冷凝从而制备高纯水和高纯试剂,应用于样品处理及分析实验中。温度控制:经实验证明HCl:110℃、HNO₃ +HF:175-180℃温度高、效率高,温度低酸的纯度会较好我厂高纯酸蒸馏纯化器优势:1、密闭环境下提纯酸,不受环境污染,确保酸纯度;2、节约成本、方便实验:较短时间内纯化低成本的酸试剂以达到痕量分析要求;3、可以满足ICP、ICP-MS低的检测限需要及苛刻的分析应用中提供实验室超纯酸,所用容器均采用Teflon耐腐蚀无吸附塑料,可处理如HNO3、HCl、HF等实验室的常用酸;4、实验证明将金属杂质含量约10ppb的酸经过一次蒸馏后,金属杂质含量可以降低到0.01ppb左右。若对酸要求还高,可增加提纯次数;5、可拆卸清洗,避免腔体里面长期提纯,造成金属杂质含量沉积越来越多,影响提纯的质量;

高纯硅样品相关的仪器

  • 【磐诺-高纯气体在线气相色谱仪】仪器采用吹扫阀技术、零死体积零泄漏技术、二维中心切割技术、高纯气体类分析专用色谱柱技术和脉冲氦离子化检测器(PDD)技术相结合进行高纯氦、高纯氢、高纯氮、高纯氩、高纯甲烷、高纯二氧化碳、高纯氧等在线检测。样品采集到定量环并置换干净后,切换进样阀,在载气的带动下样品进入色谱柱中分离并将主组分切割放空后依次进入PDD检测器检测得到。【仪器特点】(1)采用高纯气专用色谱柱技术,测量多种无机和有机杂质组分,符合国标要求;(2)仪器具有开机自检功能、断气保护功能、断电自动重启功能、自动标定功能和报警功能,保证系统安全和稳定性;(3)采用带吹扫保护的膜阀和零泄漏管道接头设计,系统漏率<1*10-8m3.pa.s-1;(4)PDD检测器具有专利技术和宽量程数字化输出,其中CH4检测限≤5ppb;(5)核心部件均使用国际知名品牌,可靠性高,使用寿命长。【应用领域】空分装置在线监测【技术参数】检测能力H2、Ar、O2、N2、CH4、CO、CO2、Kr、Xe等量程CH4(1ppb-1000ppm)检测器脉冲氦离子化检测器(PDD)检出限5ppb(CH4)重复性RSD≤3%分析周期10min功率电源<300W,220V AC/50Hz工作环境温度:(-10~50)℃,湿度:(10%~90%)RH气源要求载气:高纯氦(≥99.999%)?输出4-20mA、RS232/RS485、以太网尺寸19"标准机箱,5UA、测定成分测定组分检测气体H2Ar/O2N2CH4COCO2He是是是是是是H2否是是是是是O2是Ar是是是是Ar是否是是是是N2是是否是是是CO2是是是是是否Kr是是是是是是Xe是是是是是是B、测定范围测定成分测定范围H210ppb—100ppmAr/O210ppb—100ppmN215ppb—100ppmCH45ppb—100ppmCO25ppb—100ppmCO210ppb—100ppmKr10ppb—100ppmXe20ppb—100ppm
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  • 二硅化钼复合材料属于金属化合物,是一类介于金属与陶瓷间的新型材料,其典型代表是二硅化钼发热元件,二硅化钼粉涂层.作为一种重要的髙温发热材料和结构材料,二硅化钼在高温下稳定的物理性能引起国际材料界的兴趣,近十年来成为高温结构陶瓷的研究热点.二 硅化钼不但具有熔点高、密度低、高温抗氧化性及抗热 腐蚀性等性能,同时又有较好的高温韧性,因此被誉为 有前途的高温材料之一.目前,国内外在对二硅化钼的研究上,集中在髙温发热体、高温结构材料、功能,涂层材料等方向. 二硅化钼电热元件(硅钼棒)在氧化气氛中使用时,表面能形成一层致密、气密性好的玻璃态二氧化硅膜,二氧化硅膜减弱了氧向内部的扩散,有效阻止了硅钼棒的进一步氧化,这是硅钼棒氧化气氛中使用时能维持较长的高温寿命的原因.因此,高温下硅钼棒表面保护膜的质量和稳定性对二硅化钼的使用性能具有重要的意义,同时二硅化钼的高、低温力学性能、抗热震性、冷热端结合性能等也是影响二硅化钼使用性能的重要因素。
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  • 硅钼棒从形状上有U型硅钼棒,U型直角硅钼棒(L型硅钼棒),I型(直型)硅钼棒,新工艺热弯直角硅钼棒、冷弯直角硅钼棒,压弯硅钼棒,异型硅钼棒(圆形,w型,螺旋形,多弯型等),环保节能,安装更换方便,耐温高,在1400-1700的电炉中使用广泛,管式炉,箱式炉,气氛炉,推板窑,隧道窑,升降炉,马弗炉等 在氧化气氛下,更能发挥硅钼棒耐高温的性能,硅钼棒也能在氢气,氮气,惰性气体中使用。氢气的露点越低 (即水分含量越低),硅钼棒的允许使用温度越低。硫、氟、氯和碱对元件有害,酸类对元件发生反应,应避免接触。U型硅钼棒是各高温电炉常用的二硅化钼加热棒,我司1700型,1800型半成品充足,订做加工快,产品发热均匀,质量稳定,行业经验丰富,提供技术服务,欢迎咨询
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高纯硅样品相关的试剂

高纯硅样品相关的方案

  • 使用 Agilent 8800 三重四极杆 ICP-MS 分析高纯硅样品中的 S 元素
    Agilent 8800 ICP-MS/MS(采用 MS/MS 模式)可以准确、高效地测定不同浓度(30 ppm 和 2000 ppm)高纯硅基质中的 P、Ti 和其他痕量元素。所有元素的 BEC 和 DL都非常低,MS/MS 模式可以确保将目标产物离子与其他分析物生成的潜在干扰产物离子分离。这是 8800 ICP-MS/MS 的 MS/MS 模式所独有的功能。即使在使用超低流量雾化器的条件下,仍然可以获得优异的灵敏度和超低的检测限,对于 2000 ppm Si 基质样品可连续测定超过 3 小时,表明仪器具有出色的信号稳定性。
  • 使用 Agilent 8800 三重四极杆 ICP-MS 分析高纯硅样品中的 Be 元素
    Agilent 8800 ICP-MS/MS(采用 MS/MS 模式)可以准确、高效地测定不同浓度(30 ppm 和 2000 ppm)高纯硅基质中的 P、Ti 和其他痕量元素。所有元素的 BEC 和 DL都非常低,MS/MS 模式可以确保将目标产物离子与其他分析物生成的潜在干扰产物离子分离。这是 8800 ICP-MS/MS 的 MS/MS 模式所独有的功能。即使在使用超低流量雾化器的条件下,仍然可以获得优异的灵敏度和超低的检测限,对于 2000 ppm Si 基质样品可连续测定超过 3 小时,表明仪器具有出色的信号稳定性。
  • 使用 Agilent 8800 三重四极杆 ICP-MS 分析高纯硅样品中的 As 元素
    Agilent 8800 ICP-MS/MS(采用 MS/MS 模式)可以准确、高效地测定不同浓度(30 ppm 和 2000 ppm)高纯硅基质中的 P、Ti 和其他痕量元素。所有元素的 BEC 和 DL都非常低,MS/MS 模式可以确保将目标产物离子与其他分析物生成的潜在干扰产物离子分离。这是 8800 ICP-MS/MS 的 MS/MS 模式所独有的功能。即使在使用超低流量雾化器的条件下,仍然可以获得优异的灵敏度和超低的检测限,对于 2000 ppm Si 基质样品可连续测定超过 3 小时,表明仪器具有出色的信号稳定性。

高纯硅样品相关的论坛

  • 【讨论】高硅样品对氩气的要求更高?

    最近我在做中低合金钢时发现了一个奇怪的现象,同一台仪器有的样品激发正常,凝聚放电,激发点有金属光泽,周围黑圈正常;而有的样品激发很不正常,扩散放电,表面无侵蚀,明显的白点,重新磨样,激发很多次,还是如此,现象比较奇怪。首先怀疑的是氩气质量,但同一台仪器对于不同的样品激发点相差这么明显,还是有点搞不明白比对样品成分时发现,激发点为白点的样品有一个相同的特性:硅含量较大(Si为1.5%~1.9%)又选了几块硅含量比较高的样品进行分析,依旧是白点,而选择硅含量低于0.5%的样品,激发点均正常原因似乎找到了,高硅的样品不易激发,对氩气的要求更高,重新换了一瓶液氩,冲洗过后,所有样品激发均正常,OK查找资料发现“样品中如含有易氧化的元素如硅,铝,碳, 铬等含量高时生成稳定化合物,往往导致扩散放电”高硅的样品为什么不易激发呢?难道是熔点较高的物质,当其含量也高时就不易激发了?除了硅钢、铸铁等硅、碳元素含量高外,还有哪些元素比较难测量,欢迎各位大侠讨论分享一个常见材料的熔点(℃)(网上搜索拼凑的,不一定准确) 金刚石3550 钨3410钼2622铌2468 钒1919铬1855铂1772 钛1668 纯铁1535 钴1495镍 1452硅1410 钡1285锰1245铜1083金1064 银:962钙839铝660 镁649 锑630 锌419.5 铅327铋271锡:232各种钢:1300~1400 各种铸铁:1200左右铸钢 1425 低碳钢 1400-1500 灰铸铁1200 黄铜 950 青铜 995

  • 高纯三氯氢硅中痕量砷的测定方法

    多晶硅工业生产中间体高纯三氯氢硅中痕量砷的测定方法新年新气象,今天我把我们测定三氯氢硅(TCS)的方法拿出来分享给大家。希望能够起到抛砖引玉,互通有无的作用。欢迎同事们批评指正。摘要: 多晶硅生产中,控制原料中砷元素具有十分重要的意义。特别是用于电子及太阳能电池组件制造原料,往往需要测定ng/L级别的砷含量。 本方法采用Agilent 7700s 为平台,在0.1% HCl溶液中测定三氯氢硅中的As元素。具有较好的回收率,本方法可用于工业化生产中大批量样品的检测工作。一、仪器及环境1) 本方法需要采用1000级洁净工作间作为工作区域,100级层流罩作为样品制备操作区域,人员应着高纯服,行为受限。进入工作区域需经风淋。2) 样品所涉及器皿应使用HNO3蒸汽回流8小时。样品所涉及非直接接触器皿应清洗达到100级净化水平。实验用水为实验室一级用水。试剂采用AA-10纯度。3) 本方法采用Agilent 7700s 标准配置机型,PFA进样组件,该机应具备ORS碰撞反应池或类似技术,采用He气作为碰撞反应气。Agilent 7700s 仪器参数如下:Plasma: Normal RF: 1600W Sample uptake rate : ~160uL/min free aspirationSampling depth: 8mm Carrier gas flow rate: 0.7L/min Makeup gas: 0.5L/minHe cell gas: 5ml/min KED: 5V二、样品制备TCS的杂质含量极低且活性,因此我们首先考虑的是去除基质的方法来进行样品制备。为了待测元素损失,我们通常采用室温(32摄氏度)来进行分解。2SiHCl3+3H2O → (HSiO) 2O+6HCl在氮气保护下使水蒸气与样品充分混合水解。水解物经氢氟酸溶解后蒸干,除去硅基。样品中的硅基以四氟化硅的形式除去后,残渣采用0.1%HCl溶液溶解。 1) 视样品情况,对估计检出含量为10-2ppb级样品可取样8-12ml;对较大含量可缩小至2-5ml(例如粗馏产品);2) 在干净的聚四氟乙烯坩埚中,加入量好的样品,在高纯氮气保护下水解;3) 在坩埚中滴加氢氟酸溶液溶解固体,置于电热板上以120摄氏度蒸干;4) 蒸干后,加入2.00ml 0.1% HCl溶液溶解。定容至2-10g后待测。三、校正方式该样品基体除去较完全,因此采用标准曲线法进行校正测定。一般采用0、1、2和5ppb的0.1% HCl 溶液作为校准点,无需内插标准物校正。在特别情况下可采用标准加入法进行测定。四、结果检出限:尽管As会被ArCl在75质量下有较严重的干扰,但本方法采用了He碰撞技术来避免可能出现的干扰因素。从大量检测结果来看,砷元素的检出限可以低至0.01ppb,在高Fe、Ni或Cr含量样品中,并未见显著干扰。[font=Cambri

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高纯硅样品相关的资讯

  • 岛津高纯硅材料研究和质量控制提供解决方案
    高纯硅材料是电子工业和太阳能光伏产业的基础原料,在未来的多年内是难以替代的电子和光伏产业主要原材料。随着信息技术和太阳能产业的飞速发展,全球对高纯硅材料的需求增长迅猛,而且我国已经成为太阳能电池的最大生产国,对于高纯硅材料有着大量的需求。太阳能光伏市场也已经成为高纯硅材料的最大市场。 国内外多晶硅的生产方法主要有以下几种:改良西门子法、硅烷法、流化床法;目前除了以上方法之外,也涌现出几种由国外企业开创的专门生产太阳能级多晶硅的新工艺技术:冶金法生产太阳能级多晶硅、气液沉积法生产粒状太阳能多晶硅。目前全球范围内,改良西门子法仍然是主流,采用此方法生产的多晶硅约占全球总产量的85%以上。 石英中的众多元素影响了石英的品质。在半导体用石英玻璃和光导纤维中,微量的铝会促进光导石英玻璃纤维析晶,铝和硼结合增强石英玻璃的析晶作用。重金属和扩散系数大的钠、钙、钾等碱金属能降低半导体的使用寿命,影响石英玻璃的热学特性和光学特性,降低石英玻璃的使用温度,增大石英玻璃的介电系数和介电损失,降低石英玻璃的机械强度和光的传播速度等。因此,测定这些影响元素是为保证石英品质而不可或缺的重要工作。岛津公司以雄厚的技术力量和宽泛的产品线,为高纯硅材料研究和质量控制提供了解决方案。在此介绍其中的“ICP-AES 检测工业硅中八种杂质元素”。 本方法采用HF和HNO3(6:2) 微波消解工业硅样品,用ICP-AES 法同时测定工业硅中的Cu、Mn、Fe、Ni、Ti、Al、P和B等八种杂质元素。该方法快速简便、准确率高、精密度好,对产品质量控制及检验杂质元素含量,具有可操作性和很好地应用价值。 岛津全谱ICP 发射光谱仪ICPE – 9000,以其卓越的性能得到中国各行业用户的广泛好评。其特点: 高效率、低分析成本• 采用快速测定的中阶梯分光器和高像素大型1英寸CCD 检测器。• 采用岛津独有的微型炬管。与通用型炬管相比较,氩气消耗量减半。 分光器内无需吹扫气• 在使用半导体检测器的ICP发射光谱仪中,首次采用真空型分光器。而且分光器内无需使用吹扫气,这样实现了快速启动与分析成本的降低,实现真空紫外区谱线简便测定。 可放心地测定高浓度样品• 重视ICP 发射光谱仪的基本性能,即便轴向观测方式,也不采用长炬管,炬管的位置始终保持垂直位置。 可简便地进行所有类型的样品测定• 中阶梯分光器波长选择很重要,可利用软件功能进行简便的操作。可准确地分析基本成分复杂的样品。 欲知详情,请您点击“ICP-AES检测工业硅中八种杂质元素”。 关于岛津 岛津国际贸易(上海)有限公司是(株)岛津制作所为扩大中国事业的规模,于1999年100%出资,在中国设立的现地法人公司。 目前,岛津国际贸易(上海)有限公司在中国全境拥有12个分公司,事业规模正在不断扩大。其下设有北京、上海、广州分析中心;覆盖全国30个省的销售代理商网络;60多个技术服务站,构筑起为广大用户提供良好服务的完整体系。 岛津作为全球化的生产基地,已构筑起了不仅面向中国客户,同时也面向全世界的产品生产、供应体系,并力图构建起一个符合中国市场要求的产品生产体制。 以“为了人类和地球的健康”为目标,岛津人将始终致力于为用户提供更加先进的产品和更加满意的服务。更多信息请关注岛津公司网站www.shimadzu.com.cn。
  • 岛津为高纯硅材料研究和质量控制提供解决方案
    高纯硅材料是电子工业和太阳能光伏产业的基础原料,在未来的多年内是难以替代的电子和光伏产业主要原材料。随着信息技术和太阳能产业的飞速发展,全球对高纯硅材料的需求增长迅猛,而且我国已经成为太阳能电池的最大生产国,对于高纯硅材料有着大量的需求。太阳能光伏市场也已经成为高纯硅材料的最大市场。 国内外多晶硅的生产方法主要有以下几种:改良西门子法、硅烷法、流化床法;目前除了以上方法之外,也涌现出几种由国外企业开创的专门生产太阳能级多晶硅的新工艺技术:冶金法生产太阳能级多晶硅、气液沉积法生产粒状太阳能多晶硅。目前全球范围内,改良西门子法仍然是主流,采用此方法生产的多晶硅约占全球总产量的85%以上。 石英中的众多元素影响了石英的品质。在半导体用石英玻璃和光导纤维中,微量的铝会促进光导石英玻璃纤维析晶,铝和硼结合增强石英玻璃的析晶作用。重金属和扩散系数大的钠、钙、钾等碱金属能降低半导体的使用寿命,影响石英玻璃的热学特性和光学特性,降低石英玻璃的使用温度,增大石英玻璃的介电系数和介电损失,降低石英玻璃的机械强度和光的传播速度等。因此,测定这些影响元素是为保证石英品质而不可或缺的重要工作。岛津公司以雄厚的技术力量和宽泛的产品线,为高纯硅材料研究和质量控制提供了解决方案。在此介绍其中的&ldquo ICP-AES 检测石英砂中常见金属元素的含量&rdquo 。 本实验采用ICP-AES法同时测定了石英砂中的Al、Ca、Fe、Na、Li 和K,试样用HF和H2SO4加热分解,HCI 溶解盐类。试样的处理只需一次便可做多元素的分析。测定结果准确、快速,相对偏差小,在操作上更易掌握。适用于太阳能光伏产业的质量检测。 欲知详情,请您点击&ldquo ICP-AES 检测石英砂中常见金属元素的含量&rdquo 。 关于岛津 岛津国际贸易(上海)有限公司是(株)岛津制作所为扩大中国事业的规模,于1999年100%出资,在中国设立的现地法人公司。 目前,岛津国际贸易(上海)有限公司在中国全境拥有12个分公司,事业规模正在不断扩大。其下设有北京、上海、广州分析中心;覆盖全国30个省的销售代理商网络;60多个技术服务站,构筑起为广大用户提供良好服务的完整体系。 岛津作为全球化的生产基地,已构筑起了不仅面向中国客户,同时也面向全世界的产品生产、供应体系,并力图构建起一个符合中国市场要求的产品生产体制。 以&ldquo 为了人类和地球的健康&rdquo 为目标,岛津人将始终致力于为用户提供更加先进的产品和更加满意的服务。 更多信息请关注岛津公司网站www.shimadzu.com.cn。
  • 标准品和高纯试剂的区别
    标准品,国内和国际上有很多叫法,不同体系的称呼也不同,这里只是遵循国际上常规的称呼,即用RM即Reference Materials作为标准品的统称。在ISO体系中有参考物质(RM)和认证参考物质(CRM)两种计量的标准物质。根据ISO Guide 30规定, 参考物质/标准物质是含有一种或多种特定属性值并且足够均匀和稳定的物质,专用于测量过程,评价测量方法或给材料赋值的材料或物质。认证参考物质的特点是通过可计量的有效程序指定一个或多个属性,并连同一证书,提供指定属性的值,相关的不确定度,以及计量的可追溯性的声明。认证参考物质和参考物质的相同点和不同点主要见下表:标准品是按照ISO 17034:2016《标准物质/标准样品生产者能力认可准则》来指导生产,那么什么是ISO 17034?• ISO 17034是标准物质/标准样品生产者能力认可的国际标准。• 从原材料选择、生产、质量控制、运输和储存到售后实行质量监管。• 生产:原材料选择和纯化,生产计划和控制;• 描述:检测方法、不确定度、溯源性;• 批次稳定性评估;• ISO Guide 34 从2016年11月已经正式更名ISO 17034。试剂规格基本上按纯度(杂质含量的多少)划分,共有高纯、光谱纯、基准、分光纯、优级纯、分析和化学纯等7种。国家和主管部门颁布质量指标的主要优级纯、分级纯和化学纯3种。1.优级纯(GR:Guaranteed reagent),又称一级品或保证试剂,99.8%,这种试剂纯度zui高,杂质含量zui低,适合于重要jing密的分析工作和科学研究工作,使用绿色瓶签。2.分析纯(AR),又称二级试剂,纯度很高,99.7%,略次于优级纯,适合于重要分析及一般研究工作,使用红色瓶签。3.化学纯(CP),又称三级试剂,≥99.5%,纯度与分析纯相差较大,适用于工矿、学校一般分析工作。使用蓝色(深蓝色)瓶签。4.实验试剂(LR:Laboratory reagent),又称四级试剂。纯度远高于优级纯的试剂叫做高纯试剂(≥99.99%)。高纯试剂是在通用试剂基础上发展起来的,它是为了专门的使用目的而用特殊方法生产的纯度zui高的试剂。它的杂质含量要比优级试剂低2个、3个、4个或更多个数量级。因此,高纯试剂特别适用于一些痕量分析,而通常的优级纯试剂就达不到这种jing密分析的要求。除对少数产品制定国家标准外(如高纯硼酸、高纯冰乙酸、高纯氢氟酸等),大部分高纯试剂的质量标准还很不统一,在名称上有高纯、特纯(ExtraPure)、超纯、光谱纯等不同叫法。[1]高纯试剂通常应用于色谱使用的色谱纯试剂、光谱使用的光谱纯试剂,此外,电路、液晶等领域都有各自行业标准的高纯试剂。但是高纯试剂通常不使用在分析纯试剂使用的领域,如配制标准溶液、滴定剂等,高纯的单质例外。也就是说高纯试剂不是一个计量学概念的物质,而标准品是在计量学范畴内的。高纯试剂遵循的生产标准是ISO9001。不同行业使用的高纯试剂有各自的标注方式,通用的标注是用9的数目来表示。例如,纯度为99.999%,含五个九则表示为5N;纯度为99.995%,含四个九一个五,表示为4.5N。高纯试剂不需要确定不确定度,溯源性,主要是对试剂的纯度和杂质的控制,没有计量学的要求,所以标准品的生产在jing准方面,要求会更高。月旭提供的A2S在生产有机标准品方面已经通过ISO9001, ISO Guide 34 (现ISO17034)资质认证,目前可以提供高品质纯品型标准品、单标溶液、混标溶液,并且可以为客户提供混标个性化定制服务,如GB2763、GB23200系列多农残查混标定制,欢迎大家咨询选购!
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