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薄膜与相关的耗材

  • Atlas™ 标准薄膜制样机与高温薄膜制样系统
    Atlas™ 标准薄膜制样机与高温薄膜制样系统Specac的等厚度薄膜制样工具主要用于高分子材料的光谱测定,根据热压制膜原理,所得到的样品是纯样品,谱图中只出现样品信息。Specac公司为满足客户的不同需求,提供三种等厚度薄膜制样工具,不仅可以将较厚的聚合物变成更薄的薄膜,还能将粒状,块状或板材,如药包材料,包装材料,特殊包裹材料等不规则的聚合物变成可以检测的薄膜。 GS15800高温薄膜制样系统技术参数: 最高操作温度高达400℃ 满足高端科研的要求 一周期40分钟 通过CE安全认证 集成的供热制冷设备? 2T的载荷极限 0.015, 0.025, 0.050, 0.100, 0.250, 0.500mm 薄膜直径29mm 压力范围0-2吨 一体式加热盘系统 双数字显示,精度1度 安全切换装置:70℃ 切断加热希同/55℃ 重启加热系统 一体式冷却盘高温薄膜制样机P/N GS15800有一组加热板是嵌入到薄膜制样机中的,所以当P/N GS15800装载在压 片机上时, 是不需要额外的Atlas 加热压盘P/NGS15515的。订购信息GS15640标准薄膜制样机特点:独立加热压盘,满足不同直径薄膜需要独立冷却盘,可缩短制膜周期重现性哈,制备过程简单 制膜过程无需化学品,成本低6种不同厚度的垫圈,适合各种高分子材料技术参数: 操作温度高达300℃ 一周期30分钟 4T的载荷极限 0.015, 0.025, 0.050, 0.100, 0.250, 0.500mm 薄膜直径29mm 双数字显示,精度℃ 可配套加热板P/N GS15515使用 冷却系统停止时切断加热系统 冷却水流速大于0.2/min时重启加热系统 独立冷却盒订购信息GS15640 Atlas™ 标准薄膜制样机包括: 0.015, 0.025, 0.050, 0.100, 0.250和0.500 mm 垫圈铝膜 直径40mm(200 片)Specacards 卡夹式,圆形通光孔直径10mm,样品架(20张)不锈钢镊子GS15800 Atlas™ 高温薄膜制样系统包括: 0.015, 0.025, 0.050, 0.100, 0.250and 0.500 mm 垫圈铝膜直径40mm(200 片)制作铝膜样品杯的工具Specacards 卡夹式,圆形通光孔直径10mm,样品架(20张)不锈钢镊子高稳定性及高精度的温度控制器(400℃) 薄膜制样套装GS15631 Atlas™ 标准型薄膜制样套装1包括: 薄膜制样系统(GS15640) 加热板和加热压盘以及数字全自动温控器(300°C) (GS15515)GS15633 Atlas™ 标准型薄膜制样套装2包括: 薄膜制样系统(GS15640)加热板和加热压盘以及数字温控器(300oC) (GS15515)15T手动液压机(GS15011)(对于GS15800,GS15631和GS15633,请指定220V或110V电压和使用的国家。)GS15800 Atlas™ 高温薄膜制样系统套装 包括: 高温薄膜制样系统(GS15800) 15T手动液压机(GS15011)(请指定220V或110V电压和使用的国家。)备件及耗材GS03800 卡夹式,圆形通光孔直径10mm,样品架 (100张/盒)GS03805 用于固定易伸缩薄膜样品的尼龙卡簧(20)GS03810 10mm x 25mm 矩形通光孔Specacards (100)GS03820 磁性薄膜样品架 圆形通光孔直径25mmGS15627 直径为40mm的铝膜(200)GS15641 冷却盒 用于标准薄膜制样系统 替换GS15642 标准薄膜制样压盘套装GS15629 标准薄膜制样机可替换的垫圈组件GS15805 高温薄膜制样机可替换的垫圈组件
  • 薄膜厚度测量系统配件
    薄膜厚度测量系统配件是一种模块化设计的薄膜厚度测量仪,可灵活扩展成精密的薄膜测量仪器,可在此基础上衍生出多种基于白光反射光谱技术的薄膜厚度测试仪,比如标准吸收/透过率,反射率的测量,薄膜的测量,薄膜温度和厚度的测量。薄膜厚度测量系统配件:核心模块----光谱仪;外壳模块----各种精密精美的仪器外壳;工作面积模块----测量工作区域;光纤模块----根据不同测量任务配备各种光纤附件;测量室-/环境罩---给测量带去超净工作区域。薄膜厚度测量仪核心模块---光谱仪孚光精仪提供多种光谱仪类型,不同光谱范围和光源,满足各种测量应用
  • SE-1薄膜电极
    金/铂是惰性金属,不容易发生氧化、水解和其它表面反应。普通金/铂电极制作需要反复抛光磨制,稳定性和重现性较差,不利于生物传感器的小型化和商品化。 Micrux公司采用100%金属材料(非金属/油墨印刷)制作的铂和金薄膜电极 - 适用于修饰和研发传感器或生物传感器 - 前处理方便,节省时间 - 可以多次重复使用,成本低廉 - 尺寸小,提供了很好的可靠性和可重复性,性噪比(S/N)佳。 电极设计: 1、SE-1设计,应用于铂和金薄膜电极,工作电极(WE)直径为1mm. 2、交叉指环型阵列电极(IDRA),由2对交叉的12电极组成。 3、交叉阵列电极(IDA),由2对交叉的12电极组成。 微电极设计,工作电极线宽和间隙都为10&mu m,和SE-1设计一样应用于铂和金薄膜电极。 电极适配器,使得薄膜(微)电极易于操作。 电极通过连接器可与各品牌电化学工作站匹配。 电极保存:干燥环境,旁边可以放置硅胶

薄膜与相关的仪器

  • Moorfield Nanotechnology是英国材料科学领域高性能仪器研发公司,成立二十多年来专注于高质量的薄膜生长与加工技术,拥有雄厚的技术实力,推出的多种高性能设备受到科研与工业领域的广泛好评。高精度薄膜制备与加工系统 - MiniLab是英国Moorfield Nanotechnology公司经过多年技术积累与改进的旗舰型系列产品。MiniLab系列产品的定位是配置灵活、模块化设计的PVD系统,可用于高质量的科学研究和中试生产。高精度薄膜制备与加工系统 - MiniLab自推出以来销售已突破200套。这些设备已经进入了欧洲各大学和科研单位实验室,诸如曼彻斯特大学、剑桥大学、帝国理工学院、诺森比亚大学、巴斯大学、埃克塞特大学、伦敦玛丽女王大学、哈德斯菲尔德大学、莱顿大学、亚森工业大学、西班牙光子科学研究所、英国物理实验室等著名单位都是Moorfield Nanotechnology的用户和长期合作者。诸多的用户与合作者让产品的性能和设计理念得到了高速发展,并迈入全球化的进程。如今Quantum Design中国子公司与Moorfield Nanotechnology正式合作,作为中国的总代理和战略合作伙伴,将为中国用户提供高性能的设备与优质的服务。除了MiniLab系列之外我们还提供多种高性能的台式设备和定制服务。设备型号MiniLab 026MiniLab 026系统是小型落地式真空镀膜设备,具有容易操作的“翻盖”式真空腔。适用于金属、电介质和有机物的蒸发和溅射沉积镀膜。MiniLab 026采用一体化设计方案,真空腔的一部分向下插入支撑框架内。腔室可以采用翻盖式或钟罩式。该系统可配备多种沉积技术,热蒸发和低温蒸发源(生长金属和有机物),磁控溅射源(金属和无机)。沉积源通常安装在腔室底部,样品他安装在部,可容纳直径达6英寸的基片。可提供基片加热、旋转和Z-shift。MiniLab 026还与手套箱兼容,是MiniLab系列中可以轻松与用户现有手套箱集成的系统。薄膜生长方式可选:热蒸发(金属)、低温热蒸发(有机物)、磁控溅射(金属、氧化物、氮化物、缘体)MiniLab 060MiniLab 060系统是MiniLab系列中受欢迎的通用平台,具有前开门式的箱式腔室,适用于多源磁控溅射,也适用于热蒸发和电子束蒸发。MiniLab 060采用一体化设计方案,真空腔体安装在控制系统电子机柜上。系统可以配备各种沉积技术,包括热蒸发和低温蒸发源(生长金属和有机物),磁控溅射源(金属和无机),电子束源(除有机物外的大多数材料类别)。沉积源通常安装在腔室底部,但溅射源也可以采用部安装的方式。样品台可容纳的基片尺寸高达11英寸,可提供基片加热、旋转、偏压和Z-shift。可配置行星式样品台、源挡板和基片挡板。系统配置可从手动操作的热蒸发系统到具有全自动过程控制的多种生长方案。必要时MiniLab 060系统可提供快速进样室。薄膜生长方式可选:热蒸发(金属)、低温热蒸发(有机物)、电子束蒸发、磁控溅射(金属、氧化物、氮化物、缘体)MiniLab 080MiniLab 080采用高腔体设计,非常适合热蒸发、低温热蒸发和电子束蒸发,更长的工作距离以获得更好的薄膜均匀性。MiniLab 080真空腔体安装于控制系统电子机柜上。该系统非常适用于需要较长的工作距离以获得更好均匀性的蒸发技术。蒸发入射角接近90°,对于光刻器件获得好的lift off效果。除了热蒸发、有机物热蒸发和电子束蒸发外,该系统还可以用于磁控溅射(用做复合生长系统)。样品台通常在腔室的部,可以容纳基片尺寸高达11英寸直径。可提供基板加热、旋转、偏压和Z-shift。可配置行星式样品台、源挡板和基片挡板。系统配置可从手动操作的热蒸发系统到具有全自动过程控制的多种生长方案。必要时MiniLab 080系统可提供快速进样室。薄膜生长方式可选:热蒸发(金属)、低温热蒸发(有机物)、电子束蒸发、磁控溅射(金属、氧化物、氮化物、缘体)MiniLab 090MiniLab 090系统是为兼容手套箱开发的,适用于对大气敏感的薄膜生长。高腔室设计方案是高性能蒸发的理想选择,同时也可以采用磁控溅射方式。MiniLab 090系统是用于金属、电介质和有机物沉积的落地PVD系统。系统包含一个箱式不锈钢腔体,前、后双开门设计可与手套箱集成,允许通过手套箱中前门或者外部的后门对系统进行操作。真空腔体具有大的高宽比,非常适合通过蒸发技术进行长工作距离的高均匀性涂层,但系统也可以配备磁控溅射。真空度优于5×10-7mbar。针对客户的预算和需求可提供非常灵活的配置。系统配置可从手动操作的热蒸发系统到具有全自动过程控制的多种生长方案。薄膜生长方式可选:热蒸发(金属)、低温热蒸发(有机物)、电子束蒸发、磁控溅射(金属、氧化物、氮化物、缘体)MiniLab 125MiniLab 125系统将模块化设计概念带进了中试规模。大的腔室允许增加组件的尺寸,进而满足大面积涂层需求,结合快速进样室设计方案,可提高样品的吞吐量。同时,系统是完全可定制化的,以匹配特定的镀膜需求。MiniLab 125系统是落地式真空镀膜设备可用于金属、电介质和有机薄膜沉积。系统包含一个带有前门的箱式不锈钢腔体,用于取放样品。大的腔室体积可以用于中试规模的涂层或采用较为复杂的配置满足灵活多变的实验需求。系统可安装所有主要的沉积组件或定制的组件。系统的本底真空可达5×10-7mbar。可根据用户的预算和具体应用采用灵活的配置方案。薄膜生长方式可选:热蒸发(金属)、低温热蒸发(有机物)、电子束蒸发、磁控溅射(金属、氧化物、氮化物、缘体)
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  • 柔性材料与器件测试系统--薄膜扭转一、产品简介 柔性电子的出现为经典电子学的发展提供了新的方向,触发了新形态电子设备的产生。然而,电子材料与器件由刚向柔转变过程中,传统的刚性测试方法变得无法完全适应,而相匹配的柔性测试体系对推进柔性电子行业的发展变得必不可少。 在柔性电子材料与器件的测试过程中,尤其是在柔性电子材料与器件开发验证的初期阶段,发展一种高自由度的模块化柔性材料与器件测试系统,对于提升开发验证效率和降低测试成本具有重要意义。 二、产品特性 高可靠性(百万次)样品自适应性 (过程中受拉力相同,无弯折)可扩展性(光学、电学性能测试辅助系统) 三、适用范围 薄膜、涂层、柔性显示屏、有机发光器件、平面可穿戴产品、柔性印刷电路、扁平电缆等柔性材料与器件的扭转测试。 四、运行方式 五、产品参数项目参数样品厚度(mm)0-1样品大小(mm2)Max(210* 300)弯曲角度(° )0-90°弯曲力(N)5.0弯曲速度( ° /s)0-1080重复次数(次)10000000重量(Kg)16 六、产品尺寸
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  • 台式高精度薄膜制备与加工系统Moorfield Nanotechnology是英国材料科学领域高性能仪器研发公司,成立25年来专注于高质量的薄膜生长与加工技术,拥有雄厚的技术实力,推出的多种高性能设备受到科研与工业领域的广泛好评。Moorfield公司近十年来与曼彻斯特大学诺奖技术团队紧密合作,推出的台式高精度薄膜制备与加工系列产品由于其体积小巧、性能、易于操作更是受到很多科研单位的赞誉。Moorfield Nanotechnology推出的台式设备体积小巧,但性能已经可以和大型设备相媲美。这些设备已经进入了欧洲的实验室,诸如曼彻斯特大学、剑桥大学、帝国理工学院、诺森比亚大学、巴斯大学、埃克塞特大学、伦敦玛丽女王大学、哈德斯菲尔德大学、莱顿大学、亚森工业大学、西班牙光子科学研究所、英国物理实验室等著名单位都是Moorfield Nanotechnology的用户和长期合作者。诸多的用户与合作者让产品的性能和设计理念得到了高速发展,并迈入全球化的进程。如今Quantum Design中国子公司与Moorfield Nanotechnology正式合作,作为中国的代理和战略合作伙伴,将为中国用户提供高性能的设备与优质的服务。除了台式设备之外我们还提供多种大型设备和定制服务。全系列产品即将上线,敬请期待… … 台式高性能CVD石墨烯/碳纳米管快速制备系列—nanoCVD超快速高质量石墨烯生长设备,整个过程30分钟内搞定!CVD被公认为是石墨烯具有应用前景的制备手段。NanoCVD系列台式设备是专为制备高质量的石墨烯与碳纳米管而开发的高性能台式CVD系统。与曼彻斯特大学诺奖团队的长期合作使得该系列产品在制备石墨烯等碳基纳米材料方面具有雄厚的技术积累。该系列产品操作简便,生长条件控制,生长迅速、制备出的样品具有高质量、高可重复性,可清楚的观测到分数量子霍尔效应。尤其适合于需要快速得到高质量石墨烯或碳纳米管用于高端学术研究的团队。点击查阅详细信息台式高性能多功能PVD薄膜制备系列—nanoPVD可媲美大型PVD的台式高性能PVD系统 ,爆款热销中!基于多年大型薄膜制备系统的设计与研发所积累的丰富经验,Moorfield Nanotechnology推出了台式高性能多功能PVD薄膜制备系列产品。该系列产品是为高水平学术研究研发的小型物理气相沉积设备。该系列产品包含磁控溅射、金属/机物热蒸发系统。这些设备虽然体积小巧但是性能,能够快速实现高质量纳米薄膜、异质结的制备,通常在大型设备中才有的共溅射功能也可以在该系列产品上实现。便捷的操作、智能的控制、高效的制备效率让您的学术研究进入快车道。点击查阅详细信息台式超二维材料等离子软刻蚀系统—nanoETCH用于超刻蚀二维材料与样品表面处理的等离子体刻蚀系统,诺奖团队都在用!石墨烯等二维材料的微纳加工与刻蚀需要很高的精度,而目前成熟的传统半导体刻蚀系统在面对单层材料的高精度刻蚀需求时显得力不从心。为了解决目前维纳加工中常用的蚀系统功率较大、难以精细控制的问题,Moorfield Nanotechnology 推出了台式超二维材料等离子软刻蚀系统 - nanoETCH。该系统对输出功率的分辨率可到达毫瓦量,对二维材料可实现超的逐层刻蚀,也可实现对二维材料进行层内缺陷制造,此外还可对石墨基材等进行表面处理。点击查阅详细信息台式气氛\压力控制高温退火系统—ANNEAL从高真空到各种气氛都能控制的高端热处理系统Moorfield Nanotechnology专门为制备高质量的样品而推出的台式气氛\压力控制高温退火系统,该系统可以满足从高真空到各种气氛的退火需求。对气压和温度都能进行控制,该系统不仅仅是普通的退火系统更是二维材料、基片等进行可控热处理的重要保障。该系统颠覆了传统箱式、管式炉的粗放退火方式,开创了退火的新篇章。点击查阅详细信息多功能高磁控溅射喷金仪—nanoEM是一台喷金仪,但不仅仅是喷金仪!多功能高磁控溅射喷金仪—nanoEM是Moorfield Nanotechnology为SEM、TEM样品的表面导电处理以及普通样品的高质量电生长而设计的金属溅射系统。系统配备SEM样品托、TEM样品网、普通薄膜样品等多种专用样品台。虽然该系统主要为溅射金属而设计,但是该设备的性能已经达到了高质量薄膜样品的制备标准。通过选择不同的配置可以兼顾样品的表面导电处理、电制备与学术研究型薄膜样品的制备。因此nanoEM是一台不可多得的多功能高磁控溅射喷金仪。点击查阅详细信息部分单位及用户评价意大利比萨大学(nanoPVD S10A)Moorfield近在意大利比萨大学安装了另一台nanoPVD-S10A磁控溅射系统。在这里,它将被Giuseppe Barillaro副教授领导的团队用于为新型器件生长保护性和功能性涂层。该小组的研究应用包括纳米医学、生物传感、微电子学和光子学。诺森比亚大学(nanoPVD S10A,MiniLab)DR. GUILLAUME ZOPPI对Moorfield的评价:在诺森比亚大学,我们正在研究各种材料的应用,特别是光伏材料。作为不可或缺的部分,Moorfield近安装的用于磁控溅射和电子束蒸发的nanoPVD和MiniLab系统发挥了关键作用。Moorfield专家的专业建议确保了我们得到为合适的设备,我们对设备的质量和快速、高效的技术支持留下了深刻的印象。很高兴能和Moorfield的团队一起工作。巴斯大学(nanoPVD-T15A)DR. PETRA CAMERON对Moorfield的评价:我们的研究重点是电化学材料、能源材料和钙钛矿光伏材料。我们之前一直在寻找一个可靠且易于使用的台式蒸发设备。现在,我们新的Moorfield nanoPVD-T15A热蒸发系统可以高质量的沉积金属电和钙钛矿光伏材料的接触层。让我们喜欢的另一方面是,该系统是模块化的,可以很容易地升低温有机物蒸发模块。我们的nanoPVD-T15A已经迅速成为一个关键设备,现在每天都在使用。DR MATTHEW COLE(副教授)对Moorfield的评价:Moorfield的服务速度快如闪电。他们的产品支持是的,屈一指的。丹麦技术大学(MiniLab090手套箱集成系统)为了满足Tim Booth在二维材料和异质结的合成和应用研究,系统在MiniLab090的基础上集成了手套箱,允许在惰性气体环境下进行完整的设备操作。系统配置包括软刻蚀、热蒸发和磁控溅射。Tim Booth教授对Moorfield的评价:在DTU,我们近从Moorfield采购了一套手套箱集成系统,系统配置包括软蚀刻系统、热蒸发和磁控溅射功能,用于我们研究二维材料和异质结的合成和应用。该系统允许我们在高精度控制的低氧和水气条件下执行2D材料器件的大部分微加工步骤。Moorfield团队在设计和安装过程中至关重要并且非常专业,如果有任何疑问,他们总是可以立即提供技术支持。他们在提供2D材料技术支持方面有多年的经验,所以我们知道我们有了得力的助手。系统的高质量和设计方案让我们印象深刻,我们期待着在未来的许多年里与设备和Moorfield团队一起工作。强烈推荐!”MiniLab090手套箱集成系统,图中红色部分为集成系统的控制屏幕和主机部分。曼彻斯特大学(手套箱集成退火和刻蚀系统)DR. ROMAN GORBACHEV对Moorfield的评价:我的团队近与Moorfield合作,为我们的应用方向定制了一个集成手套箱的热退火和软蚀刻组合系统。它安装于新的National Graphene Institute (NGI),现在被用于石墨烯和2D材料的研究。我们一直对Moorfield的专业技术和提高客户满意度的奉献印象深刻,这次也不例外!西班牙光子研究所(手套箱集成退火和刻蚀系统)位于西班牙巴塞罗那Castelldefels 的ICFO (光子科学研究所)是一个致力于光学领域科学和技术的研究中心。DR. STIJN GOOSSENS对Moorfield的评价:在ICFO,我们正在努力建立一个的新材料研究中心。近安装的Moorfield 手套箱集成热退火系统、电子束沉积系统,以及新的nanoETCH系统,起到了关键作用。我们对他们专业的销售建议、他们系统的质量和可靠性以及他们快速、有效的支持印象深刻。很高兴能和他们的团队一起工作!Evonetix公司(MiniLab 026 热蒸发系统)Evonetix公司致力于利用基因合成技术,促进合成生物学领域的快速发展。Evonetix的优势是基因合成的高保真性和并行性。DR. DAN BRATTON PH.D对Moorfield的评价:在Evonetix,我们正在开创一种可扩展和高保真基因合成的创新方法。我们想拥有一种将金属蒸发到各种基材上的设备,我们联系了Moorfield Nanotechnology公司,该公司根据我们的要求定制了一个Minilab 026蒸发系统。在整个过程中,Moorfield Nanotechnology团队非常友好且知识渊博,在安装前后都提供现场培训。在Evonetix, Minilab 026已经被证明是非常有用的设备。特别是,我们喜欢它的紧凑设计,它的易用性,以及它所带来的样品数量的增加。我们愿意向任何人推荐该设备和团队。Evonetix团队与新安装的MiniLab026热蒸发系统曼彻斯特城市大学(MiniLab 060)DR. JUSTYNA KULCZYK对Moorfield的评价:在MMU,我们近成立了曼彻斯特燃料电池创新中心,以开发利用可再生能源的创新技术方案。为此,我们采购了Moorfield MiniLab 060磁控溅射系统,该系统具有快速进样室、衬底偏压和等离子清洗、脉冲直流和射频电源以及共沉积功能。在系统设计过程中,Moorfield提供了非常宝贵的建议。我们对系统和软件的质量,以及他们团队的专业知识、沟通和技术支持都留下了深刻的印象。我们将推荐给任何现在或将来考虑使用PVD系统的人。曼彻斯特城市大学正在利用Moorfield Nanotechnology公司的MiniLab 060系统进行先进的燃料电池的研究
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薄膜与相关的试剂

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  • 求XRD测量薄膜残余应力问题

    不知道有没有用XRD测量过薄膜残余应力朋友,求指点一下,我的薄膜是TiAlN/CrN多层膜,厚度只有1um,本人采用sin2(fai)法的方法测过,但是过程由于薄膜太薄,没有薄膜的峰信息,只有基底峰,不知有没有人遇到过类似情况,求指导!!或者能告诉我北京哪里可以做这方面的测试?谢谢!!

  • 【求助】薄膜的残余应力测定

    请问有没有哪位了解薄膜残余应力的测定?本人现在急需做这方面的测试,就是不了解全国哪里有比较完善的设备和配套数据处理软件。十分感谢您的帮助!

  • 【求助】做薄膜残余应力的技巧

    本人最近做了一些薄膜样品的残余应力检测,感觉得到的谱图都不是特别好,好像织构对数值的影响比较大,请教各位老师有什么方法可以改进,感谢赐教。[em04]

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薄膜与相关的资讯

  • 薄膜摩擦系数仪新标准与旧标准在测试原理上的改进与新增测试方法
    在材料科学与工程领域,薄膜摩擦系数仪作为评估薄膜材料表面摩擦性能的关键设备,其测试标准的更新对于提高产品质量、优化工艺流程以及推动科技创新具有重要意义。近年来,随着科技的进步和测试需求的多样化,薄膜摩擦系数仪的测试标准也经历了从旧到新的演变。本文将从测试原理的角度,详细探讨新标准相比旧标准在测试原理上的改进及新增的测试方法。一、测试原理的基础变革1.1 传统测试原理的局限性旧标准下的薄膜摩擦系数仪主要基于库仑摩擦定律,即摩擦力与正压力成正比,与接触面积无关。这种传统的测试方法通过测量试样在摩擦过程中的摩擦力与正压力之比来计算摩擦系数,方法简单直接,但存在诸多局限性。例如,它难以全面反映薄膜材料在不同条件下的摩擦行为,特别是动态和复杂工况下的性能表现。1.2 新标准引入的先进测试原理新标准则引入了更为先进的测试原理,如动态摩擦测试、静态摩擦测试、滑动摩擦测试以及旋转摩擦测试等。这些新方法不仅丰富了测试手段,还提高了测试的全面性和准确性。动态摩擦测试能够模拟材料在实际使用过程中的动态摩擦行为,静态摩擦测试则关注材料在静止状态下的摩擦特性,而滑动摩擦测试和旋转摩擦测试则分别适用于不同类型的摩擦场景,为薄膜材料的摩擦性能评估提供了更多维度的数据支持。二、新增测试方法的详细解析2.1 动态摩擦测试动态摩擦测试是新标准中新增的重要测试方法之一。它通过模拟材料在实际使用中的动态摩擦过程,如包装膜在包装机械中的运动状态,来评估材料的动态摩擦性能。这种方法能够更真实地反映材料在实际工况下的摩擦行为,为产品的设计和优化提供更为可靠的依据。2.2 静态摩擦测试静态摩擦测试则关注材料在静止状态下的摩擦特性。它通过在试样与对磨副之间施加一定的正压力并保持相对静止,然后逐渐增加水平力直至试样开始滑动,来测量静态摩擦系数。这种方法对于评估材料的启动阻力和稳定性具有重要意义,特别是在需要精确控制摩擦力的场合,如精密机械和电子设备中。2.3 滑动摩擦测试与旋转摩擦测试滑动摩擦测试和旋转摩擦测试是两种常见的摩擦测试方法,它们在旧标准中已有应用,但在新标准中得到了进一步的优化和完善。滑动摩擦测试通过使试样在水平面上做直线运动来测量滑动摩擦系数,适用于评估材料的滑动性能和耐磨性。而旋转摩擦测试则通过使试样与旋转的摩擦轮接触并相对运动来测量旋转摩擦系数,这种方法更适用于评估材料在旋转部件中的摩擦性能。三、测试原理改进带来的优势3.1 提高测试的全面性和准确性新标准引入的先进测试原理和新增的测试方法使得薄膜摩擦系数仪的测试能力得到了显著提升。它不仅能够更全面地评估材料的摩擦性能,还能够提供更准确、更可靠的测试数据。这对于材料科学的研究和工程应用具有重要意义。3.2 促进技术创新和产业升级随着测试原理的改进和测试方法的丰富,薄膜摩擦系数仪在材料研发、产品设计、工艺优化等方面将发挥更加重要的作用。它不仅能够为科研人员提供更为精准的测试数据支持,还能够促进技术创新和产业升级,推动相关行业向更高质量、更高效率的方向发展。3.3 提升产品质量和市场竞争力通过采用新标准进行测试,企业可以更加准确地评估其产品的摩擦性能,从而在生产过程中采取相应的改进措施以提升产品质量。高质量的产品不仅能够满足用户的实际需求,还能够提升企业的市场竞争力,为企业带来更大的经济效益和社会效益。四、结论与展望综上所述,薄膜摩擦系数仪新标准相比旧标准在测试原理上进行了显著的改进和新增了多种测试方法。这些改进不仅提高了测试的全面性和准确性,还促进了技术创新和产业升级。未来,随着科技的不断进步和测试需求的不断变化,薄膜摩擦系数仪的测试标准还将继续发展和完善。我们期待在不久的将来能够看到更多先进的测试原理和方法被引入到这一领域中来,为材料科学的研究和工程应用提供更加全面、准确和高效的测试支持。
  • 欲报从速!“薄膜沉积与外延技术与应用”主题网络研讨会日程公布
    采用一定方法,使处于某种状态的一种或几种物质(原材料)的基团以物理或化学方式附着于衬底材料表面,在衬底材料表面形成一层新的物质,这层新物质就是薄膜。薄膜制备的方法众多,其中薄膜沉积与外延技术已成为其中的主流,特别是在半导体产业中,占据着重要的地位。薄膜沉积是半导体器件制造过程中的一个重要环节可以在晶圆上生长出 各种导电薄膜层和绝缘薄膜层为后续工艺打下基础。根据工作原理不同,薄膜沉积工艺可分为物理气相沉积 (PVD)、化学气相沉积(CVD)和原子层沉积(ALD)三大类,所需的设备是薄膜沉积设备。根据Maximize Market Research数据,全球薄膜沉积设备整体规模稳定增长,2020年市场 规模为172亿美元,受益于Foundry厂、存储、AMOLED以及太阳能电站等需求的增加,预计到2025年将达到340亿美元。分类型来看,CVD设备应用最广,占比57%;其次是PVD,占比为25%;ALD及其他镀膜设备占比18%。而外延就是在单晶衬底上淀积一层薄的单晶层。新淀积的这层称为外延层。外延为器件设计者在优化器件性能方面提供了很大的灵活性,例如可以控制外延层掺杂厚度、浓度、轮廊,而这些因素是与硅片衬底无关的。这种控制可以通过外延生长过程中的掺杂来实现。外延层还可以减少CMOS器件中的闩锁效应。针对于此,仪器信息网拟于2021年9月23日举办“薄膜沉积与外延技术与应用”主题网络研讨会,依托“网络讲堂”栏目,邀请业内专家以及技术人员参与本次网络研讨会,就薄膜沉积与外延技术与应用等话题共同探讨,为广大从事薄膜沉积与外延技术研发等方面的专家学者和技术人员提供一个交流的空间。会议由牛津仪器赞助。牛津仪器是一家世界领先的高科技系统设备供应商。设计制造的设备可以在原子和分子层面,制造、分析和操控物质,并广泛应用于研究和工业领域为客户提供完美的解决方案。会议报名链接:https://www.instrument.com.cn/webinar/meetings/cvd2021/会议日程:
  • “薄膜沉积与外延技术与应用”网络会成功召开,回放视频上线!
    2021年9月23日,由仪器信息网主办的“薄膜沉积与外延技术与应用”主题网络研讨会成功举办,会议进行了了4个精彩报告,吸引领域内近400位听众报名参会。采用一定方法,使处于某种状态的一种或几种物质的基团以物理和化学方法附着于衬底材料表面形成一种新的物质,这层新物质就是薄膜。薄膜的制备主要技术包括薄膜沉积和外延技术。薄膜沉积和外延技术是半导体制造工艺中的非常重要的技术。基于此,仪器信息网于2021年9月23日举办了本次“薄膜沉积与外延技术与应用”主题网络研讨会,依托“网络讲堂”栏目,邀请业内专家以及技术人员参与本次网络研讨会,就薄膜沉积与外延技术与应用等话题共同探讨,为广大从事薄膜沉积与外延技术研发等方面的专家学者和技术人员提供了一个交流的空间。本次会议,邀请到云南大学杨鹏教授、牛津仪器科技(上海)有限公司高级应用科学家刘志文博士、中国科学院半导体研究所王晓东研究员和中国科学院微电子研究所杨妍研究员做报告,受到牛津仪器科技(上海)有限公司的大力支持,会议过程中,听众积极参与,直播间氛围热烈。会议的4个报告,经征求报告嘉宾意见,3个报告将设置视频回放(“薄膜沉积与外延技术与应用”主题网络研讨会),便于广大网友温故知新,详情见下表:2021年9月23日上午报告题目报告嘉宾链接几种二维及少层材料的生长与物性表征杨鹏云南大学 教授回放链接如何用原子力显微镜评价高质量薄膜刘志文牛津仪器科技(上海)有限公司 高级应用科学家回放链接离子束溅射镀膜技术及其应用王晓东中国科学院半导体研究所 研究员不回放硅光芯片工艺流程及对薄膜工艺的需求杨妍中国科学院微电子研究所 研究员回放链接
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