测量厚度显微镜

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测量厚度显微镜相关的厂商

  • 400-860-5168转3750
    企业概况 英国工业显微镜有限公司是一家专业从事开发和生产人机工学的体视显微镜和非接触式测量系统的制造厂商。自1958年创立以来,英国Vision已成为世界上最具有创新活力的显微镜制造厂商,其分支机构遍及欧亚及北美。 世界各地的工程人员和科学家广泛地使用着我们的产品系统来从事他们在工业领域以及生物工程的日常的放大、检测和测量应用。迄今为止,已在全球各地安装 超过30万套设备系统。 英国Vision主要的生产基地设立在英国伦顿南部的沃京。商业运行及生产装配部门也设立在附近的厂房。英国Vision的北美生产分部设立在美国康州丹堡丽市,并在美国东岸和西岸的独立机构进行直销和分销网络运作。 本公司分别在日本、中国、法国、德国、意大利、以及比利时-荷兰-卢森堡经济联盟等国家建立了多个分支机构,此外加上由120多个拥有库存并经过专业技术培训的分销代理商所组成的服务网络,在所有其它发达国家里为企业提供解决问题的应用方案。同时我们根据发展,不断地扩大新代理的加盟机会。 出口和分销渠道 英国Vision的产品出口占总产值的80%%以上,所以我们认识健全分销渠道的重要性。在1991 年,英国Vision荣获出口成就的英女皇奖。公司获得的其他荣誉还包括:1997年度科技创新的威尔士亲王奖和 1974 年度技术成就的英女皇奖。 **的光学技术 英国Vision所拥有的世界**光学技术改变了在传统双目显微镜上安装目镜的必要。这些技术来源于采用英国Vision的高能光学® (Dynascope® )装置、扩大光瞳和宽阔成像光学系统、以及先进的人-机工学所带来的舒适使用、光学的清晰度、和减轻眼部疲劳。这一系列的功能改善了客户的生产效益和产品质量。Vision 的 Mantis 体视观察器在各行业得以广泛采用的实例可说明无目镜光学技术的优势效益。 在1994 年推出的第一代Mantis体视观察器主要是填补台式放大镜与显微镜之间的空白。 从此Mantis 就成了所有体视观察器的首选,超过13 万套的Mantis设备已在全球安装使用。 英国Vision的新一代Mantis系列产品于2005年开始在各行业里使用,它秉承原型产品的实用价值,并融合人机工学以进一步优化Mantis的设计。 产品研发 近年来,大量的研发投入已成为取得 成功的关键,它确保了新产品和现有产品的持续的发展,以不断满足科学界和制造领域的需求。英国Vision不断地以研发新产品和新技术在光学革新和技术前沿引领全球。
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  • 400-878-6829
    帕克(Park)公司的创始人是世界上第一台原子力显微镜发明组的一员,1986年研制了世界首台商用原子力显微镜,一直致力于原子力显微镜技术的开发与应用,帕克(Park)在原子力显微镜的发展过程中一直占有重要的一席之地。本公司作为纳米显微镜和计量技术领域的领导革新者,一直致力于新兴技术的开发。我们的总部遍及中国大陆,宝岛台湾,韩国,美国,日本,新加坡和德国等地,我们为研究领域和工业界提供世界上最精确,最高效的原子力显微镜。我们的团队正在坚持不懈的努力,力求满足全球科学家和工程师们的需求。随着全球显微镜市场的迅速增长,我们将持续创新,不断开发新的系统和功能,确保我们的产品始终得到最有效最快捷的使用!Park产品主要有以下特点: 1.非接触工作模式:全球唯一一家真实实现非接触式测量模式的原子力显微镜厂家,非接触模式使原子力针尖磨损大大降低,延长了探针寿命,提高了测量图像的重复性; 2.高端平板扫描器:所有产品型号均采用的高端平板扫描器,远远优于传统的管式扫描器 3.全球最高的测量精度:Z轴精度可达0.02nm; 4.智能扫描Smartscan:仪器操作极其简单,可实现自动扫描,对操作者无特殊要求,并且有中文操作界面; 5.简单的换针方式:换针非常方便,采用磁拖直接吸上即可,不需调整激光光斑; 6.Park拥有全球最广泛的工作模式:可用于光学,电学,热学,力学,磁学,电化学等方面的研究与测试。
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  • 原FEI公司,2016年被赛默飞世尔科技收购,成为赛默飞材料与结构分析(MSD) 电镜事业部,是显微镜和微量分析解决方案的创新者和供应商。 我们提供扫描电子显微镜SEM,透射电子显微镜TEM和双束-扫描电子显微镜DualBeam?FIB-SEM,结合先进的软件套件,运用最广泛的样本类型,通过将高分辨率成像与物理、元素、化学和电学分析相结合,使客户的问题变成有效可用的数据。更多信息可在公司官网上找到:http://thermofisher.com/EM 或扫描二维码,关注我们的微信公众号
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测量厚度显微镜相关的仪器

  • BD-200,金相显微镜,测量LED芯片尺寸,手机粒子爆破,镀层厚度
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  • T0022高蓬松度无纺织纤维厚度测量仪,此仪器用于测量高蓬松度无纺织纤维厚度并以数字显示读数。测试方法:在一定压力下,可动平行面板在垂直方向上的直线运动距离即为测定的厚度。厚度是无纺布的一个基本物理性质。在某些工业应用中,厚度需要控制在一个限度内。 应用:高蓬松度无纺织纤维、纺织品、无纺布 产品特点:压板: 300mm x 300mm量程::200mm可*到:0.01mm基座: 400mm x 400mm数字显示负荷精度: 0.1mm样品大小: 300mm x 300mm样品质量不*过: 288g垂直高度可调 参考标准:ASTM D5736-95 (2001) 电气连接:220/240 VAC @ 50 HZ or 110 VAC @ 60 HZ (可根据客户需求定制) 外形尺寸: H: 500mm W: 450mm D: 450mm重量: 40kg
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  • F40薄膜厚度测量仪 400-860-5168转3827
    Filmetrics-F40薄膜厚度测量仪 结合显微镜的薄膜测量系统Filmetrics的精密光谱测量系统让用户简单快速地测量薄膜的厚度和光学常数,通过对待测膜层的上下界面间反射光谱的分析,几秒钟内就可测量结果。 当测量需要在待测样品表面的某些微小限定区域进行,或者其他应用要求光斑小至1微米时,F40是你的好选择。使用先前足部校正显微镜的物镜,再进行测量,即可获得精准的厚度及光学参数值。只要透过Filmetrics的C-mount连接附件,F40就可以和市面上多数的显微镜连接使用。C-mount上装备有CCD摄像头,可以让用户从电脑屏幕上清晰地看样品和测量位置。* 取决于材料1.使用5X物镜参考2.是基于连续20天,每天在Si基底上对厚度为500纳米的SiO2 薄膜样品连续测量100次所得厚度值的标准偏差的平均值3.是基于连续20天,每天在Si基底上对厚度为500纳米的SiO2薄膜样品连续测量100次所得厚度值的2倍标准偏差的平均值选择Filmetrics的优势桌面式薄膜厚度测量的专家24小时电话,E-mail和在线支持所有系统皆使用直观的标准分析软件附加特性嵌入式在线诊断方式免费离线分析软件精细的历史数据功能,帮助用户有效地存储,重现与绘制测试结果相关应用半导体制造 生物医学原件&bull 光刻胶 &bull 聚合物/聚对二甲苯&bull 氧化物/氮化物 &bull 生物膜/球囊壁厚度&bull 硅或其他半导体膜层 &bull 植入药物涂层微电子 液晶显示器&bull 光刻胶 &bull 盒厚&bull 硅膜 &bull 聚酰亚胺&bull 氮化铝/氧化锌薄膜滤镜 &bull 导电透明膜
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测量厚度显微镜相关的资讯

  • 《Science》大子刊:原位电子显微学用芯片厚度的重大突破!
    原位电镜(in situ transmission electron microscopy)是一种在电子显微镜下实时高空间分辨率观察和记录材料或样品在不同条件下变化的技术,这种技术的应用涵盖了多个领域,包括材料科学、纳米科技、生物学等。特别是得益于气体和液体环境的引入,大大的拓展了原位电镜技术的应用范畴,如腐蚀科学和催化反应等。电子显微镜本身具有非常高的真空工作环境,因此,气相和液相反应介质通常被密封在一个非常小的纳米反应器里面。由于氮化硅(SiNx)具有易于微纳米制造且在一定厚度下仍有可靠的力学特性及适度的电子透明度等优点,被广泛应用于原位电镜中芯片用的密封膜材料。在过去20年,基于像差校正器、单色器及直接探测器等硬件技术的发展,电子显微镜本身的性能包括空间和能量分辨率都得到显著提升。但是原位电子显微学直到目前为止,在空间分辨率上并无显著突破。关键原因是作为密封的SiNx膜材料限制了电镜本身及原位实验的品质因子。目前商用的SiNx膜的厚度一般为50 nm,而气相和液相电子显微学一般需要用两个原位芯片,这样仅密封膜的厚度就高达100 nm。如此厚的密封膜会造成非常高的有害电子散射,大大降低了原位电子显微学实验中采集的各种数据的信噪比。在原位电子显微学领域,学者们都一直认为降低SiNx膜的厚度非常必要,但是直到目前仍很难实现,因为仅通过刻蚀降低SiNx膜厚度,会造成力学性能的显著恶化。针对此问题,美国西北大学的Xiaobing Hu和Vinayak Dravid教授研究团队从自然界蜂窝结构稳定性获得灵感,巧妙利用掺杂浓度对Si的刻蚀速率影响,在观察窗口区域引入了额外的微米尺度Si支撑图案,成功的将SiNx膜的厚度从50 nm降至10 nm以下。这种在窗口区域具有支撑图案的超薄原位芯片具有很多优点,如优异的力学性能、耐电子束辐照、充分大的可观察区域,保证了该超薄芯片在原位电子显微学上的广泛应用。基于Pd的储氢特性,作者系统了探索了超薄芯片对原位实验测量品质因子的影响,及Pd纳米颗粒的吸/析氢行为。图1. 超薄原位电镜用芯片的制备及其优异的力学稳定性和电子束耐辐照性能,插图A、C中标尺分别为10 mm, 100 μm图1A显示超薄芯片的制备过程,图1B显示了具有不同厚度的SiNx窗口的原位芯片。图1C的扫描透射模式下的暗场和明场像显示出超薄芯片窗口区域的蜂窝状特征。图1D显示出这种超薄芯片优异的力学特性,即使在5 nm厚的情况下,仍能承受1个大气压,完全满足绝大多数的气相原位实验。图1E显示出超薄芯片非常好的耐电子束辐照特性,当厚度从50 nm降到10 nm时,临界电子束剂量几乎没有改变。图1E为用光学方法和电子能量损失谱测量的不同厚度的SiNx膜数据。图2. 基于超薄原位芯片的气相电子显微学实验品质因数的显著提升图2A为理论模拟不同厚度的SiNx对Au纳米颗粒明场像信噪比的影响,对于超薄原位芯片而言,即使在电子剂量比较低的情况下,仍可以拥有很好的信噪比,成像质量比较高。图2B、C显示出在一个大气压的Ar环境不同SiNx膜厚度下的高分辨像对比。可以看出与常规50 nm厚的原位芯片相比,超薄芯片的应用不仅提高了图像的信噪比,分辨率也从2.3 Å提高到1.0 Å。图2C显示出了能谱对比结果,可以看出在一个大气压的Ar环境下,当原位芯片窗口区域膜厚度从50 nm 降低到10 nm时,Ar/Si峰值比从0.59%升到8.3%,提高了14倍以上。图2E-G数据显示了超薄原位芯片显著提高了电子能量损失谱分析的灵敏度。图3. 基于超薄原位芯片电子显微学在储氢材料中应用图3A、3B为在不同支撑载体下纳米Pd颗粒的电子衍射对比图,可以看出超薄芯片显著压制了膜材料本身的有害电子散射,提高的电子衍射的信噪比。而这也允许研究人员在原位气相实验中进行定量衍射分析。图3C-D的原位电子衍射,显示出Pd纳米颗粒在原位充氢、放氢过程中的相变行为。图3E的电子能量损失谱分析确认了相变产物PdHx的产生。基于气相超薄原位芯片的设计与探索实验,作者提出这种超薄芯片的设计策略可大规模推广到液相原位及其它基于SiNx的原位芯片上,大大提高原位电子显微学实验的品质因子,从而允许研究人员在原位实验过程中不单单观察形貌变化,可将其它先进电子显微学方法应用到原位实验上来。更进一步,这种超薄芯片也可拓展到原位X射线领域。可以说,超薄芯片的概念提出,将大大的影响整个原位实验领域。这一成果近期发表在Science Advances上,美国西北大学胡肖兵研究副教授,Vinayak Dravid讲席教授为文章的通讯作者,Kunmo Koo博士为文章的第一作者。
  • 瓶口边厚仪是如何测量瓶口边缘厚度的?基于何种技术或原理
    在现代工业生产中,瓶口边厚仪作为一种关键的质量控制设备,广泛应用于医药、化工、食品等多个领域,尤其在玻璃瓶、塑料瓶等包装容器的生产中发挥着至关重要的作用。本文将深入探讨瓶口边厚仪的工作原理、所采用的技术或原理。一、瓶口边厚仪的工作原理概述瓶口边厚仪是一种高精度测试设备,主要用于测量玻璃瓶或塑料瓶瓶口边缘的厚度。其工作原理基于机械接触式测量技术,通过精确的传感器和数据处理系统,实现对瓶口边缘厚度的准确测量。该设备不仅具有高度的测试准确性和重复性,还能在不对被测物体造成损伤的情况下完成测量,确保测试结果的可靠性。二、机械接触式测量技术详解1. 探头组件与传感器的作用瓶口边厚仪的核心部件包括探头组件和传感器。探头组件通常采用碳纤维等轻质高强度材料制成,确保在测量过程中既能稳定接触瓶口边缘,又不会对瓶子造成损伤。传感器则负责将探头接触到的物理信号(如位移、压力等)转换为电信号,供后续数据处理系统分析。2. 信号处理与显示转换后的电信号经过信号放大器放大后,进入数据处理系统。该系统利用先进的数字信号处理技术,对信号进行滤波、去噪、线性化等处理,最终得出瓶口边缘的厚度值。测量结果通过数字显示屏实时显示,便于操作人员读取和记录。三、高精度测量的实现1. 精密的机械结构设计为了实现高精度的测量,瓶口边厚仪的机械结构设计十分精密。探头组件与瓶口边缘的接触点需保持恒定且均匀的压力,以确保测量结果的准确性。同时,设备的整体结构需具备较高的刚性和稳定性,以抵抗外界干扰和振动对测量结果的影响。2. 先进的测量算法除了精密的机械结构外,瓶口边厚仪还采用先进的测量算法对信号进行处理。这些算法能够自动校正测量过程中的系统误差和随机误差,提高测量结果的精度和稳定性。同时,算法还能实现数据的实时处理和统计分析,为质量控制提供有力支持。四、非接触式测量技术的探索虽然机械接触式测量技术在瓶口边厚测量中占据主导地位,但非接触式测量技术也在不断发展和探索中。例如,基于激光或超声波的非接触式测量技术具有不损伤被测物体、测量速度快等优点,但其在瓶口边厚测量中的应用还需进一步研究和验证。五、应用实例与市场需求1. 医药行业的应用在医药行业中,瓶口边厚仪被广泛应用于药品包装容器的质量检测中。通过测量瓶口边缘的厚度,可以评估包装容器的密封性、耐压性等关键性能指标,确保药品在储存和运输过程中的安全性和有效性。2. 化工行业的需求化工行业对包装容器的要求同样严格。瓶口边厚仪在化工瓶罐的生产过程中发挥着重要作用,通过测量瓶口边缘的厚度,可以及时发现并纠正生产过程中的偏差和缺陷,提高产品的整体质量和市场竞争力。3. 市场需求与未来展望随着工业生产的不断发展和消费者对产品质量要求的不断提高,瓶口边厚仪的市场需求将持续增长。未来,随着技术的不断进步和创新,瓶口边厚仪将更加智能化、自动化和便携化,为各行各业提供更加高效、准确的质量控制手段。六、结语瓶口边厚仪作为现代工业生产中的重要质量控制设备,其工作原理和技术特点决定了其在多个领域中的广泛应用和重要地位。通过不断的技术创新和产品优化,瓶口边厚仪将不断提高测量精度和稳定性,为企业的质量控制和市场竞争提供有力支持。同时,我们也期待非接触式测量技术在瓶口边厚测量中的进一步发展和应用,为工业生产的智能化和自动化注入新的活力。
  • 扫描电镜测试法:我国首个光学功能薄膜微观结构厚度测试标准正式实施
    近日,由中国航天科技集团有限公司中国乐凯研究院起草的国家标准GB/T 42674-2023《光学功能薄膜 微结构厚度测试方法》正式实施。(文末附下载链接)该标准规定了通过扫描电子显微镜(SEM)检测光学功能薄膜横截面微结构厚度的方法,适用于微米、纳米级光学功能薄膜各功能层微观结构测试。这是我国首个覆盖光学功能薄膜全领域的微米-纳米级各功能层微观结构的测试标准。该标准的制定与实施,对于准确测定光学功能薄膜微结构厚度、规范行业测定方法、促进行业发展具有重要意义。GB/T 42674-2023《光学功能薄膜 微结构厚度测试方法》详细内容标准下载链接:https://www.instrument.com.cn/download/shtml/1198352.shtml

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  • 【求助】测微米尺度半导体薄膜的厚度需要什么显微镜?

    请大家帮我分析一下,我想在玻璃或者硅上生长一层或多层金属氧化物薄膜,这些薄膜多数是半透明的,厚度在0.5-2微米之间,我希望能依靠一种光学显微镜对厚度有个大致的测量,然后根据结果改进我的实验参数,这就需要放大倍数在500倍以上,最好能达到1000倍甚至更高,但必须不能使用油镜。我看了江南永新和上海长方的显微镜资料,发现金相显微镜和偏光显微镜似乎对我有用,我对这两种显微镜的用途不甚了解,不知道该买哪一款。请热心的网友们帮我参谋参谋,谢谢了。

  • 【原创大赛】SGS材料说: 显微镜法测量金属和氧化物覆盖层厚度

    【原创大赛】SGS材料说: 显微镜法测量金属和氧化物覆盖层厚度

    [align=center][b]显微镜法测量金属和氧化物覆盖层厚度[/b][/align][b][/b][align=center]SGS 王晓卫[/align][align=left][b]1 前言:[/b][/align][align=left]在产品表面处理中,通过采用物理或者化学等方法(多数为化学方法),在金属或非金属材料的表面形成一层或多层具有一定厚度的金属和氧化物覆盖层,从而起到对产品外表美观、装饰,导电,防腐蚀等作用。[/align][align=left]覆盖层又分为金属覆盖层和氧化物覆盖层。金属覆盖层中常见的多为电镀层,如铜合金表面镀镍镀锡;氧化物覆盖层多为化学转化膜,如铝合金表面生成的氧化膜。[/align][align=left]覆盖层厚度和均匀性是表征覆盖层性能的重要参数,在科学研究、工艺控制、产品质量检测中常常对覆盖层厚度进行测量,测量方法主要有涡流法、磁性法、库仑法、显微镜法、扫描电子显微镜法、轮廓仪法,X射线法。显微镜法测量覆盖层厚度简单且直观,是较早使用的光学测量法。显微镜法测量厚度是一种破坏性测量方法,由于测量精确度高,也被作为厚度测量的仲裁方法。[/align][align=left][b]2 测量原理:[/b][/align][align=left]从待测件上切割一块试样,镶嵌后,采用适当的技术对横断面进行研磨、抛光和侵蚀。用校正过的标尺测量覆盖层横断面的厚度。[/align][align=left][b]3 测量流程:[/b][/align][align=left]取样→清洗→吹干→试样镶嵌→研磨→抛光→清洗→吹干→侵蚀→清洗→吹干→上校准过得金相显微镜观察拍照→使用测量软件,测量厚度。[/align][align=left][b]4 测试举例[/b][/align][align=left]4.1 铜合金表面电镀镍+电镀锡厚度测量[/align][align=center][img=,690,517]http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2018/07/201807271415160847_2204_2883703_3.jpg!w690x517.jpg[/img][/align][align=left]使用双氧水氨水水溶液腐蚀,各层显示出清晰的分界面。铜合金表面电镀镍层厚度在3.3-4.6um之间,平均值为3.9um;最外层相对疏松电镀锡,厚度相对不均匀,在3.8-7.5um之间,平均值为4.9um。[/align][align=left][b]4.2 铝合金表面氧化膜厚度测量[/b][/align][align=center][b][img=,690,517]http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2018/07/201807271416246565_4483_2883703_3.jpg!w690x517.jpg[/img][/b][/align][align=left]使用keller试剂腐蚀,清晰显示处氧化层与基体分界线。铝合金表面生成氧化膜厚度在15.3-15.8um,平均值为15.6um。[/align][align=left][b]5 测量心得[/b][/align][align=left]1.显微镜法测厚度的关键是制备符合要求的横断面。如果制备的横断面不符合要求,无论多么精密的设备都不能测量出厚度的真实值。样品横断面制备过程需考虑横断面斜度,覆盖层变形,表面粗糙度等。[/align][align=left]2.选择合适的试剂进行适当的侵蚀,在两种物质的界面上产生细而清晰地黑线,准确测量覆盖层厚度,如果不侵蚀或者侵蚀过度,界面线会不清晰或者线条变宽,产生测量误差。[/align]

测量厚度显微镜相关的耗材

  • 原子力显微镜基片(镀金基片)
    1、不锈钢基片 原子力显微镜AFM基片用于原子力显微镜承载样本之用,边缘光滑,表面平整,不锈钢材料,适合各种品牌的原子力显微镜。 货号产品名称规格75010-1212 mm Specimen Metal Discs for AFM50/pk75010-1515 mm Specimen Metal Discs for AFM50/pk 2、镀金基片镀金样本台具有抗电迁徙、高导电性、高导热性等优秀性能,所以可以作为AFM/STM(原子力显微镜/扫描隧道显微镜)等电镜样本支撑的首选。黄金是最惰性的金属,它和聚合物的粘合是很困难的,除非使用UV光和等离子辉光处理。 金膜厚度0.25微米,全包被。4种直径大小可选。不锈钢本体厚度大约0.76mm。订购信息:货号产品描述规格TP16207镀金样本基片(镀金样本台),10mm20个TP16208镀金样本基片(镀金样本台),12mm20个TP16218镀金样本基片(镀金样本台),15mm16个TP16219镀金样本基片(镀金样本台),20mm4个其它基片简介: 1)镀金硅片可用作纳米领域的基片、扫描电镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)及其它扫描探针显微镜的测距,以及细胞培养,蛋白质DNA 微阵列和反射计等方面。尽管很多实验室拥有镀金能力,但由于很多用户共同使用的原因,设备难免受到不同程度的污染。有资料表明即使轻微污染,也会对细胞成长表层特性造成影响。直径100mm,金镀层10nm,基片厚度525un。 2)镀金云母片 通过将金蒸镀到刚剥离的云母基片制成。建议使用前先进行退火处理。基片的原子表层一经生产便会有玷污发生,退火的金基片也不例外。建议在收到产品后立即使用,可能基片还未被玷污,处于待用状态。但在到货三至四个月后,基片会发生玷污,即使我们将其封装在一个惰性无尘的环境中。通常原子能平台约为300nm宽。经氢焰退火后,尺寸略有增大。原材料为厚度100μm至150μm的云母条。它接下来会被剥离成两片,形成两片厚度大约在50μm至75μm的薄条。
  • 显微薄膜测量仪配件
    显微薄膜测量仪配件是一款超级紧凑而功能多样的薄膜测试仪系统,可以结合显微镜测量薄膜的吸收率,透过率,反射率以及测量点的荧光。薄膜测试仪通过反射率的测量,测量点处的薄膜厚度,薄膜光学常量(n &k)以及thick film stacks都能在瞬间测量出来。整套显微薄膜测量仪的组成是:光栅光谱仪(200-1100nm)+显微镜目镜 适配器+软件+显微镜(可选)。其中目镜适配器包含镜头,可增加光的收集。标准的40X物镜可做到测量点直径约200微米。更高倍数的物镜的测量点更小。整套薄膜测量仪和薄膜测试仪到货即可使用,仅仅需要用户准备一台计算机提供USB接口即可,操作非常方便。 安装到显微镜上的薄膜测量仪照片 薄膜测试仪SiO2薄膜测量结果(20X物镜)薄膜厚度测试仪配件软件 这款薄膜测试仪配备专业的仪器控制,光谱测量和薄膜测量功能的软件,具有广阔的应用范围。该薄膜厚度测试仪软件能够实时采集吸收率,透过率,反射率和荧光光谱,并且能够能够快速计算出结果。对于吸收率/透过率模式的配置,所有的典型参数如 A, T可快速计算出来。其他的非标准参数,如signal integration也能测量出来。对于反射率测量,该薄膜厚度测试仪软件能够精确测量膜层小于10层薄膜厚度(《10nm到100微米), 光学常量(n & k)。 薄膜厚度测试仪配件参数 可测膜厚: 10nm-150微米; 波长范围:200-1100nm 精度:0.5% 分辨率:0.02nm 光源:使用显微镜光源 光斑大小:由显微镜物镜决定 计算机要求:Windows XP, vista, Win7均可,USB接口; 尺寸:120x120x120mm 重量:1.2kg 薄膜厚度测试仪配件应用 测量薄膜吸收率,透过率 测量化学薄膜和生物薄膜测量 光电子薄膜结构测量 半导体制造 聚合物测量 在线测量 光学镀膜测量
  • 硅片厚度测量仪配件
    硅片TTV厚度测试仪配件是采用红外干涉技术的测量仪,能够精确给出衬底厚度和厚度变化 (TTV),也能实时给出超薄晶圆的厚度(掩膜过程中的晶圆),非常适合晶圆的研磨、蚀刻、沉淀等应用。 硅片厚度测量仪配件采用的这种红外干涉技术具有独特优势,诸 多材料例如,Si, GaAs, InP, SiC, 玻璃,石英以及其他聚合物在红外光束下都是透明的,非常容易测量,标准的测量空间分辨率可达50微米,更小的测量点也可以做到。硅片厚度测量仪配件采用非接触式测量方法,对晶圆的厚度和表面形貌进行测量,可广泛用于:MEMS, 晶圆,电子器件,膜厚,激光打标雕刻等工序或器件的测量,专业为掩膜,划线的晶圆,粘到蓝宝石或玻璃衬底上的晶圆等各种晶圆的厚度测量而设计,同时,硅片厚度测试仪还适合50-300mm 直径的晶圆的表面形貌测量。硅片厚度测试仪配件具有探针系统配件,使用该探针系统后,硅片TTV厚度测试仪可以高精度地测量图案化晶圆,带保护膜的晶圆, 键合晶圆和带凸点晶圆(植球晶圆),wafers with patterns, wafer tapes,wafer bump or bonded wafers 。 硅片TTV厚度测试仪配件直接而精确地测量晶圆衬底厚度和厚度变化TTV,同时该硅片厚度测量仪能够测量晶圆薄膜厚度,硅膜厚度(membrane thickness) 和凸点厚度(wafer pump height).,沟槽深度 (trench depth)。
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