双模式三维形貌仪

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双模式三维形貌仪相关的厂商

  • 苏州西博三维科技有限公司位于苏州工业园区独墅湖科教创新区,是专门从事光学测量系统研发、生产和光学测量综合解决方案的高科技公司,公司依托西安交通大学模具与先进成形研究所、西安交通大学苏州研究院,在三维形貌、变形分析领域已开发出系列成熟的、具有自主知识产权光学测量系统,关键技术达到国际先进水平,获得了10多项国家发明专利,2013年度国家技术发明二等奖,2011年陕西省科技进步一等奖,主持制定国家标准3项。 公司致力于研发和销售光学测量系统并提供综合光学测量解决方案,主要研发内容包括:工业近景摄影测量、数字图像相关法三维全场应变测量、三维坐标测量、点云与CAD数模比对检测、大尺寸静态变形测量、动态变形测量、板料成形网格应变检测等技术,涵盖了从大视场大尺寸宏观测量到微观微应变变形测量、从静态三维外形测量到动态高速高频测量、高温变形测量等多个应用领域和环境。目前产品已广泛应用于众多中大型企业、大学及科研机构,如英国纽卡斯尔大学、美国普渡大学,清华大学、南京航空航天大学、中国试飞院、成都飞机设计院、陕汽集团、天津汽车模具公司、奇瑞汽车、华普汽车、长城汽车、比亚迪模具公司等企业中的生产开发、质量保证及构件测试等工作。
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  • 苏州临点三维科技有限公司是一家专业提供研发生产白光、激光检测系统和设备的科技型企业,是国内相关技术领域研究较早、综合实力最强、应用领域最广、技术种类和服务能力最强的科技型公司。公司位于苏州工业园区,依托西安交通大学模具与先进成形研究所、西安交通大学苏州研究院,长期潜心于三维光学测量的基础及应用研究,拥有完全独立自主的知识产权,关键技术达到国际先进水平,制定了三维光学测量领域的第一个国家标准,项目技术获得国家技术发明二等奖一项,陕西省科学技术奖一项等。充分利用了西安交通大学的研发优势,基于产学研相结合的平台成立的新型科技型企业。公司在西安交通大学研究的基础上,经过多年的积累,在光学测量和工程领域取得了一批高水平的研究成果,形成产业化链。公司目前的产品种类齐全、实现了产品的系列化和多样化,在三维形貌、变形光学测量领域已开发出数款成熟的产品,多项产品填补国内空白并成为国内唯一供应商。目前公司已形成包括XTDIC三维数字散斑应变测量分析系统、XTDA动态变形测量分析系统、XTOM三维光学面扫描系统、XTDP三维光学摄影测量系统、XTSM板料成形应变测量分析系统等在内十多个三维光学测量系统产品。公司的系列非接触式三维光学测量系统成功应用于航天航空,汽车,重型机械等行业和机械、材料、力学、土木工程等10多个学科。应用于国防、航天、汽车、模具、医疗仪器、服装、人体扫描、文物复原、玩具、工艺品、动画等等诸多领域,已为众多中大型企业、大学及科研机构,如清华大学、南京航空航天大学、北京科技大学、三一重工股份有限公司、苏州海陆重工股份有限公司、东方电机有限公司、中国飞行试验研究院、中国飞机强度所、成都飞机设计研究所、中船重工708所、长城汽车公司、比亚迪模具公司、重庆模具城、吉利汽车、英国Newcastle大学、美国Purdue大学、英国Glasgow大学等高校及企业提供产品与服务。
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  • HOLON华朗科技从事三维数字化扫描系统的公司,是专业三维结构光扫描系统运营企业。我们致力于先进制造技术领域内的高技术装备的研发生产和销售、数字化制造解决方案、三维技术支持、三维技术服务的专业公司,尤其精研三维非接触扫描、快速成型、逆向工程。HOLON华朗科技提供三维光栅(结构光)式扫描仪、拍照式三维扫描仪、三维摄影测量系统、三维人体扫描仪、三维手持式扫描仪等产品。提供三维数字化制造技术解决方案、逆向工程、模具设计、质量检测、人体扫描测量等领域的技术支持与服务。我们将不断研发先进的数字化设备,为发展民族高科技制造业做出贡献!公司理念: “科技报国,自强不息”我们坚持以科技报国为已任,自强不息,积极进行技术创新。为三维数字化制造技术的应用、传统产业的改造与生产力的提高做出贡献,竭诚为用户提供完善的产品,周到的服务。服务内容:“精益求精,永无止境”华朗科技提供三维光栅(结构光)式扫描仪、拍照式三维扫描仪、三维摄影测量系统、三维人体扫描仪等产品。提供三维数字化制造技术解决方案、逆向工程、模具设计、质量检测、人体测量等领域的技术支持与服务。成功案例:“立足中华,服务四海” 产品以其先进的技术、可靠的质量、优秀的技术支持与完善的服务,受到广大用户的好评与欢迎。我们为众多著名企业、大专院校及科研机构提供产品与服务。华朗三维科技供应:三维扫描仪,三维激光扫描仪,抄数机, ,拍照式三维扫描仪,三维立体扫描仪,三维光学扫描仪,三维人体扫描仪,逆向工程,抄数服务 ,手持式三维扫描仪华朗三维扫描仪应用行业:汽车、游艇行业,制鞋行业,玩具、手机、陶瓷、雕塑行业,人体测量领域,女士内衣及服装行业,彩色扫描,文物扫描领域,检测领域,模具设计
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双模式三维形貌仪相关的仪器

  • NANOMAP D光学探针双模式轮廓仪/三维形貌仪美国AEP Technology公司主要从事半导体检测设备, MEMS检测设备, 光学检测设备的生产制造,是表面测量解决方案行业的领先供应者,专门致力于材料表面形貌测量与检测。NANOMAP D光学双模式轮廓仪/三维形貌仪集白光干涉非接触测量法和大面积SPM扫描探针接触式高精度扫描成像于一个测量平台。是目前功能最全面,技术最先进的表面三维轮廓测量显微镜。既有高精密度和准确度的局部(Local)SPM扫描,又具备大尺度和高测量速度;既可用来获得样品表面垂直分辨率高达0.05nm的三维形态和形貌,又可以定量地测量表面粗糙度及关键尺寸,诸如晶粒、膜厚、孔洞深度、长宽、线粗糙度、面粗糙度等,并计算关键部位的面积和体积等参数。样件无须专门处理,在高速扫描状态下测量轮廓范围可以从1nm 到10mm。由于采用独特的缝合技术,无论怎样的表面形态、粗糙程度以及样品尺寸,一组m× n图像可以被缝合放大任何倍率,在高分辨率下创造一个大的视场,并获得所有的被测参数。该仪器的应用领域覆盖了薄膜/涂层、光学,工业轧钢和铝、纸、聚合物、生物材料、陶瓷、磁介质和半导体等几乎所有的材料领域。随着微细加工技术的不断进步,微电路、微光学元件、微机械以及其它各种微结构不断出现,对微结构表面形貌测量系统的需求越发迫切, NanoMap-D所具备的双模式组合,结合了白光干涉非接触测量及SPM扫描探针高精度扫描成像于一体,克服了光学测量及扫描探针接触式的局限性,并具有操作方便等优点成功地保证了其在半导体器件,光学加工以及MEMS/MOEMS技术以及材料分析领域的领先地位。NANOMAP D光学双模式轮廓仪/三维形貌仪经过广泛严格的检测,确保其作为测量仪器的标准性和权威性,并保证设备的各种功能完好,各个部件发挥出色。用NIST标准可以方便快捷地校验系统的精度,所校准用的标样为获得美国国家标准局( NIST) 的计量单位的认可。NanoMap-D配备的软件提供了二维分析、三维分析、表面纹理分析、粗糙度分析、波度分析、PSD分析、体积、角度计算、曲率计算、模拟一维分析、数据输出、数据自动动态存储、自定义数据显示格式等。综合绘图软件可以采集、分析、处理和可视化数据。表面统计的计算包括峰值和谷值分析。基于傅立叶变换的空间过滤工具使得高通、低通、通频带和带阻能滤波器变的容易。多项式配置、数据配置、扫描、屏蔽和插值。交互缩放。X-Y和线段剖面。三维线路、混合和固定绘图。用于阶越高度测量的地区差异绘图。NANOMAP D光学双模式轮廓仪/三维形貌仪主要功能及应用:多种测量功能精确定量的面积(空隙率,缺陷密度,磨损轮廓截面积等)、体积(孔深,点蚀,图案化表面,材料表面磨损体积以及球状和环状工件表面磨损体积等)、台阶高度、线与面粗糙度,透明膜厚、薄膜曲率半径以及其它几何参数等测量数据。薄/厚膜材料薄/厚膜沉积后测量其表面粗糙度和台阶高度,表面结构形貌, 例如太阳能电池产品的银导电胶线蚀刻沟槽深度, 光刻胶/软膜亚微米针尖半径选件和埃级别高度灵敏度结合,可测量沟槽深度形貌。材料表面粗糙度、波纹度和台阶高度特性分析软件可轻易计算40多种的表面参数,包括表面粗糙度和波纹度。计算涵盖二维或三维扫描模式。表面光滑度和曲率可从测量结果中计算曲率或区域曲率薄膜二维应力测量薄膜应力,能帮助优化工艺,防止破裂和黏附问题表面结构和尺寸分析无论是二维面积中的坡度和光滑度,波纹度和粗糙度,还是三维体积中的峰值数分布和承载比,本仪器都提供相应的多功能的计算分析方法。缺陷分析和评价先进的功能性检测表面特征,表面特征可由用户自定义。一旦检测到甚至细微特征,能在扫描的中心被定位和居中,从而优化缺陷评价和分析。其他仪器选择请点击亿诚恒达官方网站:
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  • 三维形貌仪/台阶仪 400-860-5168转1329
    三维形貌仪概述Rtec 形貌仪在加利福尼亚硅谷制造。已被多个知名实验室、大学和行业使用。UP系列在一个头上组合了4种成像模式。能够在同一测试平台上运行多种测试,只需单击按钮,就能转换成像模式。这种组合可以轻松地对任何表面进行成像如透明、平坦、黑暗、扁平、弯曲的表面等。每种成像模式都具有各自的优势,并且各项技术彼此互补。该项整合技术不仅有利于数据的综合分析,也可以减少维护成本,从而提高效率。 3D光学轮廓仪组合l白光干涉仪l旋转盘共聚焦显微镜 l暗视野显微镜l明视野显微镜 主要平台规格 产品规格l标准电动平台150x150mm(可选210x310mm)l标准转塔,电动转塔可选l垂直范围可达100mml倾斜阶段6度lXY舞台分辨率0.1uml自动拼接楷模lSigma头 - 白光干涉仪lLambda头 - 白光干涉仪+共焦+暗场+明场 应用 ●粗糙度 ●体积磨损 ●台阶高度 ●薄膜厚度 ●形貌 测试图像示例 DLC涂层球 粗糙涂层表面 圆球磨斑 金刚石 生物膜 微流体通道 聚合物涂层 墨痕 硬币 研磨垫 铝的失效痕迹 划痕 涂层失效痕迹 芯片通道 晶圆 以上为双模式三维表面轮廓仪拍出的样品形貌。在同一平台上结合使用多种光学技术,测试仪可以测量几乎任何类型的nm分辨率样品。该表面轮廓仪配有功能强大的分析软件,符合多种标准。双模式三维表面轮廓仪能够在同一测试平台上运行多种测试,产品的组合可根据不同的技术应用要求而改变。针对样品的同一区域可进行不同模式的实验检测,模式切换可实现自动化。多项技术的整合能够使不同技术在同一检测仪上充分发挥各自的优势。该项整合技术不仅有利于数据的综合分析,也可以减少维护成本,从而提高效率。
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  • NANOMAP 500LS轮廓仪/三维形貌仪,既有高精密度和准确度的局部(Local)SPM扫描,又具备大尺度和高测量速度;既可用来获得样品表面垂直分辨率高达0.05nm的三维形态和形貌,又可以定量地测量表面粗糙度及关键尺寸,诸如晶粒、膜厚、孔洞深度、长宽、线粗糙度、面粗糙度等,并计算关键部位的面积和体积等参数。样件无须专门处理,在高速扫描状态下测量轮廓范围可以从1nm 到10mm。该仪器的应用领域覆盖了薄膜/涂层、光学,工业轧钢和铝、纸、聚合物、生物材料、陶瓷、磁介质和半导体等几乎所有的材料领域。美国AEP Technology公司主要从事半导体检测设备, MEMS检测设备, 光学检测设备的生产制造,是表面测量解决方案行业的领先供应者,专门致力于材料表面形貌测量与检测。NANOMAP 500LS轮廓仪/三维形貌仪技术特点常规的接触式轮廓仪和扫描探针显微镜技术的完美结合。双模式操作(针尖扫描和样品台扫描),即使在长程测量时也可以得到最优化的小区域三维测图。针尖扫描采用精确的压电陶瓷驱动扫描模式,三维扫描范围从10&mu m X 10&mu m 到500&mu m X 500&mu m。样品台扫描使用高级别光学参考平台能使长程扫描范围到50mm。在扫描过程中结合彩色光学照相机可对样品直接观察。针尖扫描采用双光学传感器,同时拥有宽阔测量动态范围(最大至500&mu m)及亚纳米级垂直分辨率 (最小0.1nm )软件设置恒定微力接触。简单的2步关键操作,友好的软件操作界面。应用 三维表面轮廓测量和粗糙度测量,即适用于精密抛光的光学表面也可适用于质地粗糙的机加工零件。薄膜和厚膜的台阶高度测量。划痕形貌,磨损深度、宽度和体积定量测量。空间分析和表面纹理表征。平面度和曲率测量。二维薄膜应力测量。微电子表面分析和MEMS表征。表面质量和缺陷检测。北京亿诚恒达科技有限公司:
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双模式三维形貌仪相关的资讯

  • 成果:正-反双模式哈达玛变换离子迁移谱新技术方法
    p style=" text-align: justify "   近期,中国科学院合肥物质科学研究院医学物理与技术中心光谱质谱研究室在离子迁移谱新技术研究方面取得进展。科研人员发展的正-反双模式哈达玛变换离子迁移谱新技术方法,实现了离子迁移谱灵敏度的增强,研究结果发表在Analytica Chimica Acta上。 /p p style=" text-align: justify "   灵敏度是离子迁移谱的重要指标,哈达玛变换离子迁移谱可以提高迁移谱的信噪比或者灵敏度,但长期以来,哈达玛变换离子迁移谱一直受到虚假峰信号的困扰,多出的假峰不但干扰了对物质的分析定性,也制约了迁移谱的探测灵敏度。 /p p style=" text-align: justify "   光谱质谱研究室科研人员在哈达玛变换正常离子迁移谱、哈达玛变换反向离子迁移谱技术比较研究中发现:在真实离子峰方向发生颠倒的同时,虚假离子峰强度和方向几乎保持不变。为此,研究室发展了正-反双模操作的哈达玛变换离子迁移谱新技术: strong 将哈达玛变换正常离子迁移谱减去哈达玛变换反向离子迁移谱,获得的差值离子迁移谱,不但可消除虚假离子峰,而且真实离子峰信号也得到了增强。 /strong 与常规的离子迁移谱相比,在不降低分辨率的情况下检测三氯甲烷时,离子迁移谱的信噪比增强了876%。该技术为离子迁移谱的高灵敏检测提供了一种新的技术方案。 /p p style=" text-align: justify "   该项工作申请了发明专利,并得到国家自然科学基金等的支持。 /p p style=" text-align: center " img title=" 640.webp.jpg" alt=" 640.webp.jpg" src=" https://img1.17img.cn/17img/images/201812/uepic/3bc63b91-5467-4562-827d-6bf2eb1e6fad.jpg" / /p p style=" text-align: center "   正-反双模式哈达玛变换离子迁移谱提高信噪比 /p p style=" text-align: justify " 文章链接: /p p style=" text-align: justify line-height: 16px " img style=" margin-right: 2px vertical-align: middle " src=" /admincms/ueditor1/dialogs/attachment/fileTypeImages/icon_pdf.gif" / a title=" 正反模式离子迁移谱新技术.pdf" style=" color: rgb(0, 102, 204) font-size: 12px " href=" https://img1.17img.cn/17img/files/201812/attachment/6a40062e-33d7-4d55-aee3-2a01195e232f.pdf" 正反模式离子迁移谱新技术.pdf /a /p p style=" text-align: justify line-height: 16px " & nbsp /p p style=" text-align: justify " & nbsp /p
  • 近红外双模式单光子探测器----单光子探测主力量子通讯
    一. 近红外双模式单光子探测器介绍SPD_NIR为900nm至1700 nm的近红外范围内的单光子检测带来了重大突破。 SPD_NIR建立在冷却的InGaAs / InP盖革模式单光子雪崩光电二极管技术上,是NIR单光子检测器的第一代产品,可同时执行同步“门控”(GM)和异步“自由运行”(FR )检测模式。 用户通过提供的软件界面选择检测模式。冠jun级别的器件具有低至800 cps的超低噪声,高达30%的高校准量子效率,100 ns最小死区,100 MHz外部触发,150 ps的快速成帧分辨率和极低的脉冲 。 当需要光子耦合时,标准等级可提供非常有价值且经济高效的解决方案。基于工业设计,该设备齐全的探测器不需要任何额外的笨重的冷却系统和控制单元。 经过精心设计的紧凑性及其现代接口使SPD_NIR非常易于集成到最苛刻的分析仪器和Quantum系统中。OEM紧凑型 多通道控制器软件界面二. 近红外双模式单光子探测器原理TPS_1550_type_II是基于远程波长自发下变频的双光子源。TPS_1550_type_II采用波导周期性极化铌酸锂(WG-ppln)晶体,用于产生光子对。波导- ppln的转换效率比任何块状晶体都高2到3个数量级,并确保与单模光纤的高效耦合。0型和II型双光子的产生三. 近红外双模式单光子探测器应用特点特点: ▪ 自由模式 & 门模式▪ 集成电子计数▪ 校准后 QE可达 30%▪ TTL和NIM信号兼容▪ 暗记数 ▪ 盖革模式激光雷达▪ 量子密钥分发▪ 高分辨率OTDR▪ 光子源特性▪ FLIM 成像▪ 符合测试▪ 光纤传感四. 近红外双模式单光子探测器技术规格五. Aura 介绍AUREA Technology是法国一家知名的探测器供应商,公司致力于尖端技术的研发,基于先进的单光子雪崩光电二极管,超快激光二极管和快速定时电子设备,设计和制造了新一代高性能,功能齐全的近红外探测器。作为全球技术领导者之一,AUREA技术提供盖革模式单光子计数,皮秒激光源,快速时间关联和光纤传感仪器。此外,AUREA Technology直接或通过其在北美,欧洲和亚洲的专业分销渠道为200多个全球客户提供一流的专业支持。并与客户紧密合作,以应对当今和未来在量子安全,生命科学,纳米技术,汽车,医疗和国防领域的挑战。昊量光电作为法国AUREA公司在中国区域的独家代理商,全权负责法国Aurea公司在中国的销售、售后与技术支持工作。AUREA技术提供了新一代的光学仪器,使科学家和工程师实现卓越的测量结果。奥瑞亚科技与全球的客户和合作伙伴紧密合作,共同应对量子光学、生命科学、纳米技术、化学、生物医学、航空和半导体等行业的当前和未来挑战双光子是展示量子物理原理的关键元素,并实现新的量子应用。例如,双光子使量子密钥分发技术得以发展,以确保数百公里范围内的数据网络安全。在生物成像应用中,双光子光源产生原始的无色散测量。 更多详情请联系昊量光电/欢迎直接联系昊量光电关于昊量光电:上海昊量光电设备有限公司是光电产品专业代理商,产品包括各类激光器、光电调制器、光学测量设备、光学元件等,涉及应用涵盖了材料加工、光通讯、生物医疗、科学研究、国防、量子光学、生物显微、物联传感、激光制造等;可为客户提供完整的设备安装,培训,硬件开发,软件开发,系统集成等服务。
  • 得泰仪器发布FV64 UP全自动智能双模式氮吹仪新品
    FV64 UP全自动智能双模式氮吹仪FV64 UP全自动智能双模式氮吹仪是全球目前唯一一款集合了涡旋式氮吹和针追随式氮吹两种氮吹模式的智能氮吹浓缩仪。根据需要浓缩的样品体积、基质不同,以及节省氮气、使用习惯等,用户可以自由选择采用涡旋式或者针追随式的氮吹浓缩模式。FV64 UP采用10.1寸彩色大屏控制,智能终端集合了涡旋式氮吹和针追随式氮吹双控制系统,图形化界面显示。最多可以同时浓缩64位样品,平行性好,同时具备远程监视、控制和自动报警、通知信息自动推送功能,令繁琐的浓缩过程变得更智能、更高效。★ 双模式,用户可以自由选择涡旋式氮吹或者针追随式氮吹;★ 三面全透视玻璃水浴设计,用户可随时观察浓缩的状态;★ 仪器根据不同的工作状态显示不同颜色灯光,一目了然;★ 轻松实现远程监控功能,浓缩参数实时显示,远程推送通知信息;★ 超高通量,最多支持64位样品同时进行浓缩;★ 兼容大小体积浓缩管,体积范围2-200ml,可定制专属尺寸浓缩管架 ★ 采用10.1寸触摸大彩屏控制,双控制界面,图形化界面直观显示;★ 温度和压力均采用PID控制方式,控温精确,浓缩平行性好;★ 紧凑一体化设计,多维度可调控制终端;★ 实时显示水浴温度、氮气压力和浓缩时间;1、 双氮吹模式设计,用户可以根据需要浓缩的样品体积、样品基质等因素自由选择涡旋式氮吹或针追随式氮吹;2、 涡旋氮吹模式时,用户可以选择自动模式或者手动模式,可以设定恒压、多段梯度程序升压等气压控制方式,优化浓缩过程,提高浓缩效率;3、 针追随浓缩模式时,氮吹针可随液面自动下降,并可自动升起。氮吹针升降速度快慢程序可调,在提高浓缩速率的同时,也让用户使用起来更方便;4、 水浴采用三面全透视玻璃设计,并具有多色照明功能,自动根据不同的浓缩状态显示不同颜色的灯光,方便用户多角度全方位观察浓缩过程;5、 高通量,最多可以同时浓缩8×8共64位样品,第一排通道采用ABCD分组设计,灵活兼容不同位数的样品浓缩,方便用户使用;6、 氮气压力采用PID精确控压方式,控压精度:±0.5psi;压力范围:1~72.5psi,每个通道的氮气压力一致,确保浓缩的平行性;7、 氮吹针采用快速更换设计,适用于不同浓缩模式、不同浓缩体积和位数的需求,操作方便简单;8、 浓缩管支架和水浴槽均采用全身喷涂PTFE防腐蚀防生锈工艺,美观耐用;9、 水浴采用PID精确控温方式,控温精度:±0.1℃;控温范围:室温~100℃,确保受热的均匀性;10、 一键式智能自动排水开关,方便快捷。自带强力排气装置,保护实验室环境;11、 采用10.1寸触摸彩屏控制,双模式控制界面,图形化直观显示,实时显示水浴温度、氮气压力和浓缩时间等,支持浓缩方法在线保存与调用;12、 仪器采用多维度可调控制终端,用户可以根据操作人员的实际情况调整合适的高度和角度,确保最佳操作视觉。 ★采用10.1寸彩色触摸屏,人机交互界面,图形化直观显示;★涡旋模式和针追模式控制界面自由切换,中英文界面自由切换;★各个通道独立控制,可以随时开始、暂停或停止任意通道,操作灵活简单。涡旋模式:自动模式和手动模式可选,可以设定恒压、多段梯度程序升压等控制方式,实时显示氮吹的压力和氮吹剩余时间等信息;针追随模式:针升降速度高低可调,实时显示针下降速度(mm/min),氮吹时间等信息;两个氮吹模式均可保存64种或以上的浓缩方法,方法名称中英文自由设置,方法用户随时调用与保存。智能控制终端联网后可以实现远程监控功能,实时显示浓缩的氮气压力、水浴温度和浓缩时间等信息,可以远程开始、暂停或停止浓缩操作。远程推送通知信息功能:浓缩完成后,可以远程推送通知信息,用户可以随时掌握浓缩进程,更智能,更高效!创新点:FV64 UP全自动智能双模式氮吹仪是全球目前唯一一款集合了涡旋式氮吹和针追随式氮吹两种氮吹模式的智能氮吹浓缩仪。根据需要浓缩的样品体积、基质不同,以及节省氮气、使用习惯等,用户可以自由选择采用涡旋式或者针追随式的氮吹浓缩模式。FV64 UP采用10.1寸彩色大屏控制,智能终端集合了涡旋式氮吹和针追随式氮吹双控制系统,图形化界面显示。最多可以同时浓缩64位样品,平行性好,同时具备远程监视、控制和自动报警、通知信息自动推送功能,令繁琐的浓缩过程变得更智能、更高效。FV64 UP全自动智能双模式氮吹仪

双模式三维形貌仪相关的方案

  • 石河子大学研究团队开发出用于格链孢酚检测的电化学和电化学发光双模式适配体传感器
    本研究团队创新性地构建了一种基于二茂铁羧酸-DNA2(Fca-DNA2)作为猝灭电化学发光(ECL)和差分脉冲伏安法(DPV)信号响应探针,结合Ru-MOF/Cu@Au纳米粒子作为ECL基底平台的双模式适配体传感器。首先,研究人员通过电沉积方法将Ru-MOF快速合成并固定在电极表面,随后在其表面修饰Cu@Au纳米粒子,以协同催化三乙醇胺(TEOA)放大ECL信号,增强传感器的稳定性和导电性。最终,研究人员利用AOH和Fca-DNA2之间的竞争反应,通过ECL和DPV信号的变化对AOH进行敏感检测。实验结果表明,该双模式适配体传感器在0.1至100 ng/mL范围内表现出优异的检测性能,检测限分别为0.014和0.083 pg/mL,且在实际水果样品中具有良好的应用前景。
  • LA-ICP-MS联合激光共聚焦扫描显微镜对HepG2细胞中铜转运蛋白1的双模式成像
    铜转运蛋白1(CTR1)是一种参与铜和顺铂摄取的转运蛋白。细胞CTR1迁移及其再分配的可视化在铜/顺铂暴露/转运中非常重要。然而,据我们所知,这是一项极具挑战性的任务。在此,通过将共聚焦激光扫描显微镜(CLSM)和激光剥蚀电感耦合等离子体质谱(LA-ICPMS)与抗CTR1抗体缀合的荧光/元素双功能标签相结合,开发了CTR1的双模式成像策略。标签由罗丹明B和锆金属有机框架(Zr-MOF)组成,用于CLSM荧光成像和LA-ICPMS元件成像。这种双模式成像策略促进了CTR1迁移的可视化,同时提供了通过摄取二价铜或顺铂在HepG2细胞中的CTR1重新分布的信息。目前的双模式成像策略为阐明涉及CTR1的生物学过程提供了深入的信息。
  • 三维光学轮廓仪在光学领域的解决方案
    光学元件在各个领域都有广泛应用,对光学元件的表面加工精度提出越来越高的要求。如何检测光学元件的加工精度,从而用于优化加工方法,保证最终元器件的性能指标,是光学元件加工领域的关键问题之一。光学元件的加工精度包括表面质量和面型精度,这些参数会影响其对光信号的传播,进而影响最终器件的性能。此外,各种新型光学元件也需要检测其表面轮廓,比如非球面,衍射光学元件,微透镜阵列等。除了最终光学元件的加工精度以外,各种光学元件加工工艺也需要检测中间过程的三维形貌以保证最终产品的精度,包括注塑、模压的模具,光学图案转印时的掩膜版,刻蚀过程的图案深度、宽度等。

双模式三维形貌仪相关的资料

双模式三维形貌仪相关的论坛

  • 【欢迎评论】BCEIA金奖TOP2:AutoHS型动态—静态双模式自动顶空进样器(成都科林)

    [img]http://www.instrument.com.cn/lib/editor/uploadfile/2005102410585932.JPG[/img]成都科林分析技术有限公司 AutoHS型动态—静态双模式自动顶空进样器自动顶空进样相对于其它[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Mp]气相色谱[/url]样品处理技术来讲,它消除了复杂的容易产生错误的步骤。能使您在较短的时间内获得大量有用信息。AutoHS智能的触摸屏图形用 户界面使得操作极为方便。专利的结构设计,具有动态和静态功能,大大拓展了顶空技术的应用范围。样品容量 40个样品位的样品盘顶空瓶体积: 20ml样品恒温器容量度 15位传输线长度 1m 进样方法 静态-动态补偿

  • AFM能获取表面微坑的三维形貌吗?

    但愿我找对地方了,请大神们支招!各种金属材质,表面有微坑,直径从几十微米到几百微米,深度也深浅不一,估计有一百到几百微米就是想看看微坑的三维形貌,比如坑是圆柱形还是圆锥形用SEM试过不行,因为高度差比较大,成像只能在某一层上,其他高度都虚化了不知AFM可以不,要获得真实形貌,而不是通过软件合成之类的谢谢了,另:如果不行,有没有其他设备可以实现

双模式三维形貌仪相关的耗材

  • 三维表面形貌仪配件
    三维表面形貌仪配件是德国进口的高精度多功能表面轮廓测量仪器,也是一款光学表面形貌仪,非常适合对表面几何形状和表面纹理分析。 三维表面形貌仪配件根据国际标准计算2D和3D参数,使用最新的ISO 25178 标准表面纹理分析,依靠最新的 ISO 16610 滤除技术进行计算,从而保证了国际公信力,以标准方案或定制性方案对二维形貌或三维形貌表面形貌和表面纹理,微米和纳米形状,圆盘,圆度,球度,台阶高度,距离,面积,角度和体积进行多范围测量,创造性地采用接触式和非接触式测量合并技术,一套表面形貌仪可同时具有接触式和非接触式测量的选择。 三维形貌仪配件参数: 定位台行程范围:X: 200 mm Y: 200 mm Z: 200 mm (电动) 接触式测量范围: 范围0.1mm, 分辨率2nm, 速度 3mm/s 范围2.5mm 分辨率40nm, 速度3mm/s 非接触式测量范围: 范围:300um, 分辨率2nm, 速度30mm/s 范围:480um, 分辨率2nm, 速度30mm/s 范围:1mm, 分辨率5nm, 速度30mm/s 范围:3.9mm , 分辨率15nm, 速度30mm/s 表面形貌仪配件应用:测量轮廓,台阶高度,表面形貌,距离,面积,体积 分析形态,粗糙度,波纹度,平整度,颗粒度 摩擦学研究,光谱分析 磨料磨具,航天,汽车,化妆品,能源,医疗,微机电系统,冶金,造纸和塑料等领域。
  • 表面形貌仪配件
    表面形貌仪配件又称为光学形貌仪或三维形貌仪,它除了用于测量物件的表面形貌或表面轮廓外,具有测量晶圆翘曲度的功能,非常适合晶圆,太阳能电池和玻璃面板的翘曲度测量,应变测量以及表面形貌测量。 三维形貌仪主要配件应用 用于太阳能电池测量 用于半导体晶圆测量 用于镀膜玻璃的平整度(Flatness)测量 用于机械部件的计量 用于塑料,金属和其他复合型材料工件的测量 表面形貌仪配件特色 *除了表面形貌的测量,还可以测量张量和应力(简单); *可测量晶圆的尺寸为0.5' ' 到12' ' , 最高可达45x45cm的尺寸,对于小于0.5' ' 的晶圆或样品,可配备微距镜头。 *测量晶圆或其他样品的表面形貌,粗糙度和翘曲度; *克服常见干涉仪在粗糙表面(油漆)表现不足的问题; *非接触式测量
  • 三维表面轮廓仪配件
    三维表面轮廓仪配件是德国进口的高精度多功能表面轮廓测量仪器,也是一款光学轮廓仪,非常适合对表面几何形状和表面纹理分析。 三维表面轮廓仪配件根据国际标准计算2D和3D参数,使用最新的ISO 25178 标准表面纹理分析,依靠最新的 ISO 16610 滤除技术进行计算,从而保证了国际公信力,以标准方案或定制性方案对2D轮廓或三维轮廓表面形貌和表面纹理,微米和纳米形状,圆盘,圆度,球度,台阶高度,距离,面积,角度和体积进行多范围测量,创造性地采用接触式和非接触式测量合并技术,一套表面轮廓仪可同时具有接触式和非接触式测量的选择。 三维轮廓仪配件参数: 定位台行程范围:X: 200 mm Y: 200 mm Z: 200 mm (电动) 接触式测量范围: 范围0.1mm, 分辨率2nm, 速度 3mm/s 范围:2.5mm 分辨率40nm, 速度3mm/s 非接触式测量范围: 范围:300um, 分辨率2nm, 速度30mm/s 范围:480um, 分辨率2nm, 速度30mm/s 范围:1mm, 分辨率5nm, 速度30mm/s 范围:3.9mm , 分辨率15nm, 速度30mm/s 表面轮廓仪配件应用:测量轮廓,台阶高度,表面形貌,距离,面积,体积分析形态,粗糙度,波纹度,平整度,颗粒度 摩擦学研究,光谱分析磨料磨具,航天,汽车,化妆品,能源,医疗,微机电系统,冶金,造纸和塑料等领域。
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