热阻蒸发镀膜系统

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热阻蒸发镀膜系统相关的厂商

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    Azure Biosystems是一家创新型服务于生命科学和医学领域的公司。总部设立在美国加州湾区,是一个集研究,开发,生产,市场于一体的领先的专业成像产品制造商,致力于生命科学研究中最先进生物成像系统的开发和商业化。公司团队在小分子成像相关产品和配套先进试剂的研发和生产领域有将近30年的经验。Azure公司研发生产的Azure系列新一代多功能分子成像系统和Sapphire双模式多光谱激光成像系统在功能、应用和设计上均具有领先地位。
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  • 400-860-5168转3241
    载德半导体技术有限公司是专业的半导体及微电子领域仪器设备供应商,载德所代理的仪器设备广泛用于高校、研究所、半导体高新企业。载德半导体技术有限公司目前代理的主要产品包括: - 霍尔效应测试仪(Hall Effect Measurement System); - 快速退火炉(RTP); - 回流焊炉,真空烧结炉(Reflow Solder System); - 探针台(Probe Station),低温探针台(Cryogenic Probe Station); - 贴片机(Die Bonder),划片机(Scriber),球焊机/锲焊机(Wire Bonder); - 原子层沉积系统(ALD),等离子增强原子层沉积设备(PEALD); - 磁控溅射镀膜机(Sputter),电子束蒸发镀膜机(E-beam Evaporator),热蒸发镀膜机(Thermal Evaporator),脉冲激光沉积系统(PLD) - 低压化学气相沉积系统(LPCVD),等离子增强化学气相沉积系统(PECVD),快速热化学气相沉积系统(RTCVD); - 反应离子刻蚀机(RIE),ICP刻蚀机,等离子体刻蚀机; - 加热台、热板、烤胶台 (Hot Chuck / Hot Plate); - 扫描开尔文探针系统(Kelvin Probe),光反射膜厚仪(Reflectometer); 等等...
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热阻蒸发镀膜系统相关的仪器

  • 高真空电阻热蒸发镀膜机(高真空镀膜机)采用电阻热蒸发技术,它是在高真空条件下,通过加热材料的方法,在衬底上沉积各种化合物、混合物单层或多层膜。可用于生产和科学实验,可根据用户要求专门订制;可用于材料的物理和化学研究;可用于制备金属导电电极;可用于有机材料的物理化学性能研究实验、有机半导体器件的原理研究实验、OLED实验研究及有机太阳能薄膜电池研究实验等。设备构成-单镀膜室-单镀膜室+进样室-单镀膜室+手套箱(可将镀膜室放在手套箱内)-单镀膜室+进样室+手套箱(可将镀膜室放在手套箱内)-多镀膜室+样品传递室+手套箱(组成团簇式结构,样品传递采用真空机械手)设备组成电阻热蒸发源组件、样品掩膜挡板系统、真空获得系统及真空测量系统、分子泵(或冷泵)真空机组、旋转基片加热台、工作气路、手套箱连接部件、样品传递机构,膜厚控制系统、电控系统、恒温冷却水系统等组成。热蒸发源类型和数量,可根据用户需要进行配置。可选件:膜厚监控仪,恒温制冷水箱。热蒸发源种类及配置电阻热蒸发源组件:数量:1~12套(可根据用户要求配装);电阻热蒸发源种类:钽(钨或钼)金属舟热蒸发源组件、石英舟热蒸发源组件、钨极或钨蓝热蒸发源组件、钽炉热蒸发源组件(配氮化硼坩埚或陶瓷坩埚)、束源炉热蒸发组件(配石英坩埚或氮化硼坩埚)。高真空电阻热蒸发镀膜机(高真空镀膜机)工作条件(实验室应具备的设备工作条件)供电:4kW,三相五线制~ AC 380V工作环境湿度:10℃~ 40℃工作环境温度:≤50%冷却循环水:0.2m3/h,水温18℃~ 25℃水压:0.15MPa ~ 0.25MPa真空性能极限真空:7×10-5Pa~7×10-6Pa设备总体漏放率:关机12小时,≤10Pa操作方式手动、半自动关于鹏城半导体鹏城半导体技术(深圳)有限公司,由哈尔滨工业大学(深圳)与有多年实践经验的工程师团队共同发起创建。公司立足于技术前沿与市场前沿的交叉点,寻求创新引领与可持续发展,解决产业的痛点和国产化难题,争取产业链的自主可控。公司核心业务是微纳技术与高端精密制造,具体应用领域包括半导体材料、半导体工艺和半导体装备的研发设计和生产制造。公司人才团队知识结构完整,有以哈工大教授和博士为核心的高水平材料研究和工艺研究团队;还有来自工业界的高级装备设计师团队,他们具有20多年的半导体材料研究、外延技术研究和半导体薄膜制备成套装备设计、生产制造的经验。公司依托于哈尔滨工业大学(深圳),具备先进的半导体研发设备平台和检测设备平台,可以在高起点开展科研工作。公司总部位于深圳市,具备半导体装备的研发、生产、调试以及半导体材料与器件的中试、生产、销售的能力。公司已投放市场的部分半导体设备|物理气相沉积(PVD)系列磁控溅射镀膜机、电子束镀膜机、热蒸发镀膜机,离子束溅射镀膜机、磁控与离子束复合镀膜机|化学气相沉积(CVD)系列MOCVD、PECVD、LPCVD、热丝CVD、ICPECVD、等离子刻蚀机、等离子清洗机|超高真空系列分子束外延系统(MBE)、激光分子束外延系统(LMBE)|OLED中试设备(G1、G2.5)|其它金刚石薄膜制备设备、硬质涂层设备、磁性薄膜设备、电极制备设备、合金退火炉|太阳能薄膜电池设备(PECVD+磁控溅射)团簇式太阳能薄膜电池中试线团队部分业绩分布完全自主设计制造的分子束外延(MBE)设备,包括自主设计制造的MBE超高真空外延生长室、工艺控制系统与软件、高温束源炉、高温样品台、Rheed原位实时在线监控仪(反射高能电子衍射仪)、直线型电子枪、膜厚仪(可计量外延生长的分子层数)、射频源等关键部件。真空度达到2×10-8Pa。设备于2005年在浙江大学光学仪器国家重点实验室投入使用,至今仍在正常使用。设计制造磁控溅射与等离子体增强化学气相沉积法PECVD技术联合系统,应用于团簇式太阳能薄膜电池中试线。使用单位中科院电工所。设计制造了金刚石薄膜制备设备,应用于金刚石薄膜材料的研究与中试生产设备。现使用单位中科院金属研究所。设计制造了全自动磁控溅射设备,可加水平磁场和垂直磁场,自行设计的真空机械手传递基片。应用于高密度磁记录材料与器件的研究和中试。现使用单位国家光电实验室。设计制造了OLED有机半导体发光材料及器件的研究和中试成套装备。现使用单位香港城市大学先进材料实验室。设计制造了MOCVD及合金退火炉,用于GaN和ZnO的外延生长,实现LED无机半导体发光材料与器件的研究和中试。现使用单位南昌大学国家硅基LED工程技术研究中心。设计制造了磁控溅射研究型设备。现使用单位浙江大学半导体所。设计制造了电子束蒸发仪研究型设备。现使用单位武汉理工大学。团队在第三代半导体装备及工艺方面的技术积累2001年 与南昌大学合作设计了中试型的全自动化监控的MOCVD,用于外延GaN和ZnO。2005年 与浙江大学光学仪器国家重点实验室合作设计制造了第一台完全自主知识产权的分子束外延设备,用于外延光电半导体材料。2006年 与中国科技大学合作设计超高温CVD 和MBE。用于4H晶型SiC外延生长。2007年 与兰州大学物理学院合作设计制造了光学级金刚石生长设备(采用热激发技术和CVD技术)。2015年 中科院金属研究所沈阳材料科学国家(联合)实验室合作设计制造了金刚石薄膜制备,制备了金刚石电极、微米晶和纳米晶金刚石薄膜、导电金刚石薄膜。2017年-优化Rheed设计,开始生产型MBE设计。-开始研制PVD方法外延GaN的工艺和装备,目前正在进行设备工艺验证。2019年 设计制造了大型热丝CVD金刚石薄膜的生产设备。2021年 MBE生产型设计。2022年 大尺寸金刚石晶圆片制备(≥Φ6英寸)。2023年 PVD方法外延氮化镓装备与工艺攻关。
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  • 高真空电阻热蒸发镀膜机(高真空镀膜机)采用电阻热蒸发技术,它是在高真空条件下,通过加热材料的方法,在衬底上沉积各种化合物、混合物单层或多层膜。可用于生产和科学实验,可根据用户要求专门订制;可用于材料的物理和化学研究;可用于制备金属导电电极;可用于有机材料的物理化学性能研究实验、有机半导体器件的原理研究实验、OLED实验研究及有机太阳能薄膜电池研究实验等。设备构成-单镀膜室-单镀膜室+进样室-单镀膜室+手套箱(可将镀膜室放在手套箱内)-单镀膜室+进样室+手套箱(可将镀膜室放在手套箱内)-多镀膜室+样品传递室+手套箱(组成团簇式结构,样品传递采用真空机械手)设备组成电阻热蒸发源组件、样品掩膜挡板系统、真空获得系统及真空测量系统、分子泵(或冷泵)真空机组、旋转基片加热台、工作气路、手套箱连接部件、样品传递机构,膜厚控制系统、电控系统、恒温冷却水系统等组成。热蒸发源类型和数量,可根据用户需要进行配置。可选件:膜厚监控仪,恒温制冷水箱。热蒸发源种类及配置电阻热蒸发源组件:数量:1~12套(可根据用户要求配装);电阻热蒸发源种类:钽(钨或钼)金属舟热蒸发源组件、石英舟热蒸发源组件、钨极或钨蓝热蒸发源组件、钽炉热蒸发源组件(配氮化硼坩埚或陶瓷坩埚)、束源炉热蒸发组件(配石英坩埚或氮化硼坩埚)。高真空电阻热蒸发镀膜机(高真空镀膜机) 工作条件(实验室应具备的设备工作条件)供电:4kW,三相五线制~ AC 380V工作环境湿度:10℃~ 40℃工作环境温度:≤50%冷却循环水:0.2m3/h,水温18℃~ 25℃水压:0.15MPa ~ 0.25MPa真空性能极限真空:7×10-5Pa~7×10-6Pa设备总体漏放率:关机12小时,≤10Pa操作方式手动、半自动
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  • . 1适用于铟等金属材料的蒸发镀膜2. 由真空镀膜室、蒸发源、工件架、分子泵真空获得和测量系统、膜厚控制仪、机架及电气控制系统等组成3. 配置多组蒸发源,均有电动挡板,多个水冷电极,蒸发源交替使用4. 工件架可放置不同尺寸样品,镀膜均匀性良好,蒸发距离较远,转速连续可调,样品盘水冷
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热阻蒸发镀膜系统相关的资讯

  • MOCON直播 | 如何准确验证高阻隔材料、镀膜的真实透水值
    薄膜材料因其质量轻,防水性强,外形设计灵活等优势,在半导体、光伏、消费电子、纳米技术等行业得到广泛应用。MOCON的渗透分析仪和测试服务准确评估薄膜材料的水蒸气透过率。高阻隔材料的透水性能确保设备免受环境水汽的侵蚀,提高设备的使用寿命。在半导体设计、制造、封装中的各个环节都要进行反复多次的检测、测试以确保产品质量,从而研发出符合系统要求的器件。缺陷相关的故障成本影响高昂,从IC级别的数十美元,到模块级别的数百美元,乃至应用端级别的数千美元。因此,检测设备从设计验证到整个半导体制造过程都具有无法替代的重要地位。AMETEK SEMICONDUCTOR半导体直播专场活动基于以上背景,阿美特克集团旗下6大部门将开展“半导体联直播专场”线上研讨会活动。本次研讨会活动将于10月26日10点正式开始——CAMECA的刘红艳、GATAN & EDAX的严琴舫和袁昊、MOCON的何志勇、ZYGO的张磊以及TMC的何捷,深耕半导体检测领域的6位专家们将在阿美特克直播间分享他们的技术干货。直播专场将分为三场,敬请期待!AMETEK SEMICONDUCTOR直播报名方式扫描上方图片二维码即可报名参加,本次会议全程免费。10月26日下午15:00-15:45,MOCON专场:如何准确验证高阻隔材料、镀膜的真实透水值。我们将一同探讨如何评估半导体封装材料的阻隔性能,提高设备的使用寿命,欢迎报名参加!
  • 光学薄膜的真空镀膜设备
    光学薄膜的真空镀膜设备 型号:BMC1100DS,带Windows软件自动控制系统(SDC)/日本 制造时间:2003年 状态:运行极好 生产厂家:Shincron (http://www.shincron.co.jp/phase1/en/top/index.html) 技术规格: 真空腔体尺寸: &phi 1100mmxH 1600mm 衬底圆顶尺寸: &phi 950 (3~30rpm) 耐加热系统: &phi 20mm 4kw 蒸发源: 2 EB Guns (JEOL)  JEBG-102UHO(&phi 35ccx20) JST-16F (16kw)  IAD 系统: 无 光学厚度监控器: OPM-V1 (monitor glass &phi 30x30) 石英晶体微天平监控器: 无 真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统: 最大350℃± 10℃(36kw) 型号:RMC1100,带Windows软件自动控制系统/日本 制造时间:2003年8月 状态:运行极好 生产厂家:Rock Giken Inc (http://www.rock-giken.co.jp/vacuum/index.html) 技术规格: 真空腔体尺寸: &phi 1150mmxH 1500mm 衬底圆顶尺寸: &phi 950 (3~30rpm) 耐加热系统: &phi 20mm 4kw 蒸发源: 2EB Guns (Plasma System)  G-12100(&phi 35ccx20) D-10001 (10kw)  IAD 系统: 无 光学厚度监控器: 380~1500nm(波长) (monitor glass &phi 10x60pcs) 石英晶体微天平监控器: XTC-2(Inficon) 真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统: 300℃± 10℃(21kw) 光学薄膜的真空镀膜设备 型号:BMC1100DS,带Windows软件自动控制系统(SDC)/日本 制造时间:2003年 状态:运行极好 生产厂家:Shincron (http://www.shincron.co.jp/phase1/en/top/index.html) 技术规格: 真空腔体尺寸: &phi 1100mmxH 1600mm 衬底圆顶尺寸: &phi 950 (3~30rpm) 耐加热系统: &phi 20mm 4kw 蒸发源: 2 EB Guns (JEOL)  JEBG-102UHO(&phi 35ccx20) JST-16F (16kw)  IAD 系统: 无 光学厚度监控器: OPM-V1 (monitor glass &phi 30x30) 石英晶体微天平监控器: 无 真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统: 最大350℃± 10℃(36kw) 型号:RMC1100,带Windows软件自动控制系统/日本 制造时间:2003年8月 状态:运行极好 生产厂家:Rock Giken Inc (http://www.rock-giken.co.jp/vacuum/index.html) 技术规格: 真空腔体尺寸: &phi 1150mmxH 1500mm 衬底圆顶尺寸: &phi 950 (3~30rpm) 耐加热系统: &phi 20mm 4kw 蒸发源: 2EB Guns (Plasma System)  G-12100(&phi 35ccx20) D-10001 (10kw)  IAD 系统: 无 光学厚度监控器: 380~1500nm(波长) (monitor glass &phi 10x60pcs) 石英晶体微天平监控器: XTC-2(Inficon) 真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统: 300℃± 10℃(21kw) 光学薄膜的真空镀膜设备 型号:BMC1100DS,带Windows软件自动控制系统(SDC)/日本 制造时间:2003年 状态:运行极好 生产厂家:Shincron (http://www.shincron.co.jp/phase1/en/top/index.html) 技术规格: 真空腔体尺寸: &phi 1100mmxH 1600mm衬底圆顶尺寸: &phi 950 (3~30rpm) 耐加热系统: &phi 20mm 4kw 蒸发源: 2 EB Guns (JEOL)  JEBG-102UHO(&phi 35ccx20) JST-16F (16kw)  IAD 系统: 无 光学厚度监控器: OPM-V1 (monitor glass &phi 30x30) 石英晶体微天平监控器: 无 真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统: 最大350℃± 10℃(36kw) 型号:RMC1100,带Windows软件自动控制系统/日本 制造时间:2003年8月 状态:运行极好 生产厂家:Rock Giken Inc (http://www.rock-giken.co.jp/vacuum/index.html) 技术规格: 真空腔体尺寸: &phi 1150mmxH 1500mm 衬底圆顶尺寸: &phi 950 (3~30rpm) 耐加热系统: &phi 20mm 4kw 蒸发源: 2EB Guns (Plasma System)  G-12100(&phi 35ccx20) D-10001 (10kw)  IAD 系统: 无 光学厚度监控器: 380~1500nm(波长) (monitor glass &phi 10x60pcs) 石英晶体微天平监控器: XTC-2(Inficon) 真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统: 300℃± 10℃(21kw) 光学薄膜的真空镀膜设备 型号:BMC1100DS,带Windows软件自动控制系统(SDC)/日本 制造时间:2003年 状态:运行极好 生产厂家:Shincron (http://www.shincron.co.jp/phase1/en/top/index.html) 技术规格: 真空腔体尺寸: &phi 1100mmxH 1600mm 衬底圆顶尺寸: &phi 950 (3~30rpm) 耐加热系统: &phi 20mm 4kw 蒸发源: 2 EB Guns (JEOL)  JEBG-102UHO(&phi 35ccx20) JST-16F (16kw)  IAD 系统: 无 光学厚度监控器: OPM-V1 (monitor glass &phi 30x30) 石英晶体微天平监控器: 无 真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统: 最大350℃± 10℃(36kw) 型号:RMC1100,带Windows软件自动控制系统/日本 制造时间:2003年8月 状态:运行极好 生产厂家:Rock Giken Inc (http://www.rock-giken.co.jp/vacuum/index.html) 技术规格: 真空腔体尺寸: &phi 1150mmxH 1500mm 衬底圆顶尺寸: &phi 950 (3~30rpm) 耐加热系统: &phi 20mm 4kw 蒸发源: 2EB Guns (Plasma System)  G-12100(&phi 35ccx20) D-10001 (10kw)  IAD 系统: 无 光学厚度监控器: 380~1500nm(波长) (monitor glass &phi 10x60pcs) 石英晶体微天平监控器: XTC-2(Inficon) 真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统: 300℃± 10℃(21kw) 光学薄膜的真空镀膜设备 型号:BMC1100DS,带Windows软件自动控制系统(SDC)/日本 制造时间:2003年 状态:运行极好 生产厂家:Shincron (http://www.shincron.co.jp/phase1/en/top/index.html) 技术规格: 真空腔体尺寸: &phi 1100mmxH 1600mm 衬底圆顶尺寸: &phi 950 (3~30rpm) 耐加热系统: &phi 20mm 4kw 蒸发源: 2 EB Guns (JEOL)  JEBG-102UHO(&phi 35ccx20) JST-16F (16kw)  IAD 系统: 无 光学厚度监控器: OPM-V1 (monitor glass &phi 30x30) 石英晶体微天平监控器: 无 真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统: 最大350℃± 10℃(36kw) 型号:RMC1100,带Windows软件自动控制系统/日本 制造时间:2003年8月 状态:运行极好 生产厂家:Rock Giken Inc (http://www.rock-giken.co.jp/vacuum/index.html) 技术规格: 真空腔体尺寸: &phi 1150mmxH 1500mm 衬底圆顶尺寸: &phi 950 (3~30rpm) 耐加热系统: &phi 20mm 4kw 蒸发源: 2EB Guns (Plasma System)  G-12100(&phi 35ccx20) D-10001 (10kw)  IAD 系统: 无 光学厚度监控器: 380~1500nm(波长) (monitor glass &phi 10x60pcs) 石英晶体微天平监控器: XTC-2(Inficon) 真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统: 300℃± 10℃(21kw) 光学薄膜的真空镀膜设备 型号:BMC1100DS,带Windows软件自动控制系统(SDC)/日本 制造时间:2003年 状态:运行极好 生产厂家:Shincron (http://www.shincron.co.jp/phase1/en/top/index.html) 技术规格: 真空腔体尺寸: &phi 1100mmxH 1600mm 衬底圆顶尺寸: &phi 950 (3~30rpm) 耐加热系统: &phi 20mm 4kw 蒸发源: 2 EB Guns (JEOL)  JEBG-102UHO(&phi 35ccx20) JST-16F (16kw)  IAD 系统: 无 光学厚度监控器: OPM-V1 (monitor glass &phi 30x30) 石英晶体微天平监控器: 无 真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统: 最大350℃± 10℃(36kw) 型号:RMC1100,带Windows软件自动控制系统/日本 制造时间:2003年8月 状态:运行极好 生产厂家:Rock Giken Inc (http://www.rock-giken.co.jp/vacuum/index.html) 技术规格: 真空腔体尺寸: &phi 1150mmxH 1500mm 衬底圆顶尺寸: &phi 950 (3~30rpm) 耐加热系统: &phi 20mm 4kw 蒸发源: 2EB Guns (Plasma System)  G-12100(&phi 35ccx20) D-10001 (10kw)  IAD 系统: 无 光学厚度监控器: 380~1500nm(波长) (monitor glass &phi 10x60pcs) 石英晶体微天平监控器: XTC-2(Inficon) 真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统: 300℃± 10℃(21kw) 光学薄膜的真空镀膜设备 型号:BMC1100DS,带Windows软件自动控制系统(SDC)/日本 制造时间:2003年 状态:运行极好 生产厂家:Shincron (http://www.shincron.co.jp/phase1/en/top/index.html) 技术规格: 真空腔体尺寸: &phi 1100mmxH 1600mm 衬底圆顶尺寸: &phi 950 (3~30rpm) 耐加热系统: &phi 20mm 4kw 蒸发源: 2 EB Guns (JEOL)  JEBG-102UHO(&phi 35ccx20) JST-16F (16kw)  IAD 系统: 无 光学厚度监控器: OPM-V1 (monitor glass &phi 30x30) 石英晶体微天平监控器: 无 真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统: 最大350℃± 10℃(36kw) 型号:RMC1100,带Windows软件自动控制系统/日本 制造时间:2003年8月 状态:运行极好 生产厂家:Rock Giken Inc (http://www.rock-giken.co.jp/vacuum/index.html) 技术规格: 真空腔体尺寸: &phi 1150mmxH 1500mm 衬底圆顶尺寸: &phi 950 (3~30rpm) 耐加热系统: &phi 20mm 4kw 蒸发源: 2EB Guns (Plasma System)  G-12100(&phi 35ccx20) D-10001 (10kw)  IAD 系统: 无 光学厚度监控器: 380~1500nm(波长) (monitor glass &phi 10x60pcs) 石英晶体微天平监控器: XTC-2(Inficon) 真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统: 300℃± 10℃(21kw) 光学薄膜的真空镀膜设备 型号:BMC1100DS,带Windows软件自动控制系统(SDC)/日本 制造时间:2003年 状态:运行极好 生产厂家:Shincron (http://www.shincron.co.jp/phase1/en/top/index.html) 技术规格: 真空腔体尺寸: &phi 1100mmxH 1600mm 衬底圆顶尺寸: &phi 950 (3~30rpm) 耐加热系统: &phi 20mm 4kw 蒸发源: 2 EB Guns (JEOL)  JEBG-102UHO(&phi 35ccx20) JST-16F (16kw)  IAD 系统: 无 光学厚度监控器: OPM-V1 (monitor glass &phi 30x30) 石英晶体微天平监控器: 无 真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统: 最大350℃± 10℃(36kw) 型号:RMC1100,带Windows软件自动控制系统/日本 制造时间:2003年8月 状态:运行极好 生产厂家:Rock Giken Inc (http://www.rock-giken.co.jp/vacuum/index.html) 技术规格: 真空腔体尺寸: &phi 1150mmxH 1500mm 衬底圆顶尺寸: &phi 950 (3~30rpm) 耐加热系统: &phi 20mm 4kw 蒸发源: 2EB Guns (Plasma System)  G-12100(&phi 35ccx20) D-10001 (10kw)  IAD 系统: 无 光学厚度监控器: 380~1500nm(波长) (monitor glass &phi 10x60pcs) 石英晶体微天平监控器: XTC-2(Inficon) 真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统: 300℃± 10℃(21kw) 光学薄膜的真空镀膜设备 型号:BMC1100DS,带Windows软件自动控制系统(SDC)/日本 制造时间:2003年 状态:运行极好 生产厂家:Shincron (http://www.shincron.co.jp/phase1/en/top/index.html) 技术规格: 真空腔体尺寸: &phi 1100mmxH 1600mm 衬底圆顶尺寸: &phi 950 (3~30rpm) 耐加热系统: &phi 20mm 4kw 蒸发源: 2 EB Guns (JEOL)  JEBG-102UHO(&phi 35ccx20) JST-16F (16kw)  IAD 系统: 无 光学厚度监控器: OPM-V1 (monitor glass &phi 30x30) 石英晶体微天平监控器: 无 真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统: 最大350℃± 10℃(36kw) 型号:RMC1100,带Windows软件自动控制系统/日本 制造时间:2003年8月 状态:运行极好 生产厂家:Rock Giken Inc (http://www.rock-giken.co.jp/vacuum/index.html) 技术规格: 真空腔体尺寸: &phi 1150mmxH 1500mm 衬底圆顶尺寸: &phi 950 (3~30rpm) 耐加热系统: &phi 20mm 4kw 蒸发源: 2EB Guns (PlasmaSystem)  G-12100(&phi 35ccx20) D-10001 (10kw)  IAD 系统: 无 光学厚度监控器: 380~1500nm(波长) (monitor glass &phi 10x60pcs) 石英晶体微天平监控器: XTC-2(Inficon) 真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统: 300℃± 10℃(21kw)
  • 哈工大郑州研究院2415.00万元采购红外热成像仪,物理气相沉积,镀膜机,原子层沉积
    html, body { -webkit-user-select: text } * { padding: 0 margin: 0 } .web-box { width: 100% text-align: center } .wenshang { margin: 0 auto width: 80% text-align: center padding: 20px 10px 0 10px } .wenshang h2 { display: block color: #900 text-align: center padding-bottom: 10px border-bottom: 1px dashed #ccc font-size: 16px } .site a { text-decoration: none } .content-box { text-align: left margin: 0 auto width: 80% margin-top: 25px text-indent: 2em font-size: 14px line-height: 25px } .biaoge { margin: 0 auto /* width: 643px */ width: 100% margin-top: 25px } .table_content { border-top: 1px solid #e0e0e0 border-left: 1px solid #e0e0e0 font-family: Arial /* width: 643px */ width: 100% margin-top: 10px margin-left: 15px } .table_content tr td { line-height: 29px } .table_content .bg { background-color: #f6f6f6 } .table_content tr td { border-right: 1px solid #e0e0e0 border-bottom: 1px solid #e0e0e0 } .table-left { text-align: left padding-left: 20px } 详细信息 哈工大郑州研究院液相外延炉等仪器设备采购项目公开招标公告 河南省-郑州市 状态:公告 更新时间: 2022-11-10 哈工大郑州研究院液相外延炉等仪器设备采购项目公开招标公告 发布时间:2022-11-10 哈工大郑州研究院液相外延炉等仪器设备采购项目公开招标公告 一、项目基本情况 1.采购项目编号:豫教招标采购-2022- 167 2.采购项目名称:哈工大郑州研究院液相外延炉等仪器设备采购项目 3.采购方式:公开招标 4.预算金额:2415万元 最高限价:2415万元 序号 包名称 包预算 (万元) 包最高限价 (万元) 1 哈工大郑州研究院液相外延炉等仪器设备采购项目 2415 2415 5.采购需求 (1)项目概况:根据哈工大郑州研究院需要,需对液相外延炉等仪器设备进行采购,项目已具备采购条件,现对该批次仪器设备进行公开招标。 (2)采购内容包括:DLP金刚石金属复合材料增材制造设备1套、高功率光纤激光焊接系统1套、高功率激光柔性复合加工系统1套、超高精度纳米材料沉积系统1套、液相外延炉1套、化学气相沉积镀膜机1套、示波器及探头1套、PEM电解槽1套、总线运动控制系统1套、无人机1套、红外热成像仪1套、功率与阻抗分析仪1套、立式真空热压烧结炉1套、高速摄像机1套。 (3)资金情况:资金已落实。 (4)包段划分:不分包。 (5)交货期:合同签订后6个月内。 (6)交货地点:采购人指定地点。 (7)质量标准:符合国家或行业规定的合格标准,满足采购人提出的技术标准及要求。 (8)验收标准:满足采购人的验收标准及要求。(9)质保服务要求:国产设备三年,进口设备一年(自验收合格之日起)。 6.合同履行期限:合同签订至质保期满。 7.本项目是否接受联合体投标:否 8.是否接受进口产品:是 二、申请人资格要求 1.满足《中华人民共和国政府采购法》第二十二条规定: (1)投标人须具有法人或者其他组织的营业执照等证明文件; (2)投标人须具有良好的商业信誉和健全的财务会计制度,企业财务状况良好,没有财务被接管、破产或其他关、停、并、转情况的,须提供2021年度经审计的财务报告或其基本开户银行出具的资信证明; (3)投标人须具有依法缴纳税收和社会保障资金的良好记录,提供本年度任意一个月的企业完税凭证和企业社会保险缴纳证明材料; (4)投标人须具有履行合同所必需的设备和专业技术能力(自拟格式,自行承诺); (5)参加政府采购活动前3年内在经营活动中没有重大违法记录的书面声明(自拟格式,自行承诺); (5)其他要求:对参与投标竞争的单位,需承诺近三年来投标人、法定代表人、项目负责人无行贿犯罪记录(由投标人出具承诺,格式自拟); (7)根据财政部《关于在政府采购活动中查询及使用信用记录有关问题的通知》(财库〔2016〕125号)和豫财购〔2016〕15号的规定,对列入“失信被执行人”、“重大税收违法失信主体”和“政府采购严重违法失信行为记录名单”的潜在供应商,将拒绝其参加本项目招标采购活动; (8)单位负责人为同一人或者存在控股、管理关系的不同单位,不得同时参加本项目的投标【提供在“国家企业信用信息公示系统”中查询打印的相关材料并加盖公章(需包含公司基本信息、股东信息及股权变更信息)】 2.落实政府采购政策满足的资格要求:无 3.本项目的特定资格要求: 若供应商所投设备为进口设备,须具备进出口经营资格并提供《对外贸易经营者备案登记证书》。 三、获取招标文件: 1.时间:2022年11月11日至2022年11月20日(北京时间)。每天上午00:00至 12:00,下午 12:00至 23:59(北京时间,法定节假日除外。) 2.方式:供应商报名时需要将法人授权委托书、授权人身份证、被授权人身份证、营业执照副本扫描并发送至项目负责人邮箱1830331803@qq.com,对报名合格的供应商在缴费完成后,通过邮箱发送招标文件电子版。 3.售价:300元人民币 开户名称:河南省教育招标服务有限公司 账 号:371903102310201 开户行:招商银行股份有限公司郑州分行农业路支行 联系电话:扶会计18736086547。 四、投标截止时间(投标文件递交截止时间)及地点 1.时间:2022年12月1日9:00(北京时间) 2.地点:河南省教育招标服务有限公司第一开标室 五、开标时间及地点 1.时间:2022年12月1日9:00(北京时间) 2.地点:河南省教育招标服务有限公司第一开标室 六、发布公告的媒介及公示期限 本公告在河南省教育厅网站、河南省教育招标网、哈工大郑州研究院官网、中国招标投标公共服务平台发布。 七、其他补充事宜 1.本项目需要落实的政府采购政策: (1)执行《政府采购促进中小企业发展管理办法》(财库﹝2021﹞46号); (2)执行《财政部、司法部关于政府采购支持监狱企业发展有关问题的通知》(财库﹝2014﹞68号); (3)执行《三部门联合发布关于促进残疾人就业政府采购政策的通知》(财库﹝2017﹞141号); (4)执行《财政部、国家发展改革委关于印发〈节能产品政府采购实施意见〉的通知》(财库﹝2004﹞185号)、《财政部环保总局关于环境标志产品政府采购实施的意见》(财库﹝2006﹞90号);和《财政部、发展改革委、生态环境部、市场监管总局关于调整优化节能产品、环境标志产品政府采购执行机制的通知》(财库〔2019〕9号)。 (5)与招标人存在利害关系可能影响招标公正性的法人、其他组织或个人,不得参加投标。单位负责人为同一人或者存在控股、管理关系的不同单位,不得参加同一标段投标或者未划分标段的同一招标项目投标。 八、凡对本次招标提出询问,请按照以下方式联系 1.采购人信息 名称:哈工大郑州研究院 地址:河南省郑州市郑东新区龙源东七街26号 联系人:薛老师 联系方式:18860369839 2.采购代理机构信息 名称:河南省教育招标服务有限公司 地址:郑州市花园路116号河南省农科院院内西南角原农信楼 联系人:金蕾 联系方式:0371-56058516 3.项目联系方式 联系人:金蕾 联系方式:0371-56058516 × 扫码打开掌上仪信通App 查看联系方式 $('.clickModel').click(function () { $('.modelDiv').show() }) $('.closeModel').click(function () { $('.modelDiv').hide() }) 基本信息 关键内容:红外热成像仪,物理气相沉积,镀膜机,原子层沉积 开标时间:2022-12-01 09:00 预算金额:2415.00万元 采购单位:哈工大郑州研究院 采购联系人:点击查看 采购联系方式:点击查看 招标代理机构:河南省教育招标服务有限公司 代理联系人:点击查看 代理联系方式:点击查看 详细信息 哈工大郑州研究院液相外延炉等仪器设备采购项目公开招标公告 河南省-郑州市 状态:公告 更新时间: 2022-11-10 哈工大郑州研究院液相外延炉等仪器设备采购项目公开招标公告 发布时间:2022-11-10 哈工大郑州研究院液相外延炉等仪器设备采购项目公开招标公告 一、项目基本情况 1.采购项目编号:豫教招标采购-2022- 167 2.采购项目名称:哈工大郑州研究院液相外延炉等仪器设备采购项目 3.采购方式:公开招标 4.预算金额:2415万元 最高限价:2415万元 序号 包名称 包预算 (万元) 包最高限价 (万元) 1 哈工大郑州研究院液相外延炉等仪器设备采购项目 2415 2415 5.采购需求 (1)项目概况:根据哈工大郑州研究院需要,需对液相外延炉等仪器设备进行采购,项目已具备采购条件,现对该批次仪器设备进行公开招标。 (2)采购内容包括:DLP金刚石金属复合材料增材制造设备1套、高功率光纤激光焊接系统1套、高功率激光柔性复合加工系统1套、超高精度纳米材料沉积系统1套、液相外延炉1套、化学气相沉积镀膜机1套、示波器及探头1套、PEM电解槽1套、总线运动控制系统1套、无人机1套、红外热成像仪1套、功率与阻抗分析仪1套、立式真空热压烧结炉1套、高速摄像机1套。 (3)资金情况:资金已落实。 (4)包段划分:不分包。 (5)交货期:合同签订后6个月内。 (6)交货地点:采购人指定地点。 (7)质量标准:符合国家或行业规定的合格标准,满足采购人提出的技术标准及要求。 (8)验收标准:满足采购人的验收标准及要求。 (9)质保服务要求:国产设备三年,进口设备一年(自验收合格之日起)。 6.合同履行期限:合同签订至质保期满。 7.本项目是否接受联合体投标:否 8.是否接受进口产品:是 二、申请人资格要求 1.满足《中华人民共和国政府采购法》第二十二条规定: (1)投标人须具有法人或者其他组织的营业执照等证明文件; (2)投标人须具有良好的商业信誉和健全的财务会计制度,企业财务状况良好,没有财务被接管、破产或其他关、停、并、转情况的,须提供2021年度经审计的财务报告或其基本开户银行出具的资信证明; (3)投标人须具有依法缴纳税收和社会保障资金的良好记录,提供本年度任意一个月的企业完税凭证和企业社会保险缴纳证明材料; (4)投标人须具有履行合同所必需的设备和专业技术能力(自拟格式,自行承诺); (5)参加政府采购活动前3年内在经营活动中没有重大违法记录的书面声明(自拟格式,自行承诺); (5)其他要求:对参与投标竞争的单位,需承诺近三年来投标人、法定代表人、项目负责人无行贿犯罪记录(由投标人出具承诺,格式自拟); (7)根据财政部《关于在政府采购活动中查询及使用信用记录有关问题的通知》(财库〔2016〕125号)和豫财购〔2016〕15号的规定,对列入“失信被执行人”、“重大税收违法失信主体”和“政府采购严重违法失信行为记录名单”的潜在供应商,将拒绝其参加本项目招标采购活动; (8)单位负责人为同一人或者存在控股、管理关系的不同单位,不得同时参加本项目的投标【提供在“国家企业信用信息公示系统”中查询打印的相关材料并加盖公章(需包含公司基本信息、股东信息及股权变更信息)】 2.落实政府采购政策满足的资格要求:无 3.本项目的特定资格要求: 若供应商所投设备为进口设备,须具备进出口经营资格并提供《对外贸易经营者备案登记证书》。 三、获取招标文件: 1.时间:2022年11月11日至2022年11月20日(北京时间)。每天上午00:00至 12:00,下午 12:00至 23:59(北京时间,法定节假日除外。) 2.方式:供应商报名时需要将法人授权委托书、授权人身份证、被授权人身份证、营业执照副本扫描并发送至项目负责人邮箱1830331803@qq.com,对报名合格的供应商在缴费完成后,通过邮箱发送招标文件电子版。 3.售价:300元人民币 开户名称:河南省教育招标服务有限公司 账 号:371903102310201 开户行:招商银行股份有限公司郑州分行农业路支行 联系电话:扶会计18736086547。 四、投标截止时间(投标文件递交截止时间)及地点 1.时间:2022年12月1日9:00(北京时间) 2.地点:河南省教育招标服务有限公司第一开标室 五、开标时间及地点 1.时间:2022年12月1日9:00(北京时间) 2.地点:河南省教育招标服务有限公司第一开标室 六、发布公告的媒介及公示期限 本公告在河南省教育厅网站、河南省教育招标网、哈工大郑州研究院官网、中国招标投标公共服务平台发布。 七、其他补充事宜 1.本项目需要落实的政府采购政策: (1)执行《政府采购促进中小企业发展管理办法》(财库﹝2021﹞46号); (2)执行《财政部、司法部关于政府采购支持监狱企业发展有关问题的通知》(财库﹝2014﹞68号); (3)执行《三部门联合发布关于促进残疾人就业政府采购政策的通知》(财库﹝2017﹞141号); (4)执行《财政部、国家发展改革委关于印发〈节能产品政府采购实施意见〉的通知》(财库﹝2004﹞185号)、《财政部环保总局关于环境标志产品政府采购实施的意见》(财库﹝2006﹞90号);和《财政部、发展改革委、生态环境部、市场监管总局关于调整优化节能产品、环境标志产品政府采购执行机制的通知》(财库〔2019〕9号)。 (5)与招标人存在利害关系可能影响招标公正性的法人、其他组织或个人,不得参加投标。单位负责人为同一人或者存在控股、管理关系的不同单位,不得参加同一标段投标或者未划分标段的同一招标项目投标。 八、凡对本次招标提出询问,请按照以下方式联系 1.采购人信息 名称:哈工大郑州研究院 地址:河南省郑州市郑东新区龙源东七街26号 联系人:薛老师 联系方式:18860369839 2.采购代理机构信息 名称:河南省教育招标服务有限公司 地址:郑州市花园路116号河南省农科院院内西南角原农信楼 联系人:金蕾 联系方式:0371-56058516 3.项目联系方式 联系人:金蕾 联系方式:0371-56058516

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    该款自调节真空系统VP 10 Autovac尤其适用于真空蒸馏操作。泵系统能够提供最佳且无故障的溶剂汽提操作,且能够进行全自动蒸馏进程,无需关注馏分量、手动调整或连续调节。VP 10 Autovac所采用的卓越设计利用溶剂流自动调节隔膜泵真空水平。自动蒸馏可在大气压力下操作的收集烧瓶便于连接旋转蒸发器VP 10 Autovac的溶剂回收系统具有环保性能,能够减少排放达到运行压力后,耐受化学腐蚀的VP 10 Autovac系统将自动为各溶剂组调节压力并对所有溶剂/容量混合物进行蒸馏,无需了解成分。该操作可连续完成,除非不同的馏分。在出气口冷凝器的压力侧进行收集。VP 10 Autovac并无昂贵的控制器技术,而是直接应用冷凝物理原理。溶剂本身为自动压力控制提供信息。集成式隔膜泵内的所有触液件均采用高质量的PTFE、PEEK、PP材料和透明塑料涂层玻璃制品,以便处理酸性或碱性溶剂和腐蚀性溶剂蒸汽。由于在最佳沸点进行冷凝操作,因此能够快速分离产品,不会在蒸发周期损失样品。说明包装规格VWR目录号蒸发和溶剂回收用蒸发系统,Autovac VP 101VWRI181-0311
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    名称:铂金蒸发皿(铂金Pt)元素原子量:195.1熔点:1772℃,沸点:3827℃,使用温度最高不可超过1200℃,不能在明火上直接加热。密度:21.46克/厘米3。铂金的特性:(1)铂金属于银白色金属,质柔软,有延展性。晶体结构为面心立方体。(2)具有较高的化学稳定性和良好的耐腐蚀性。,除溶于王水和熔融的碱外,还溶于盐酸和过氧化氢、盐酸和高氯酸的混合物中。不与一般强酸、碱和其他试剂作用。(3)化合价为+2、+4和+6价。用途:被广泛用于冶金钢铁、石油化工、医药化工、陶瓷电镀、科研机构、大专院校、耐火材料、水泥建材、地质矿产、商检系统及各个科研单位。注意事项:(1) 能耐高温,加热后不能骤冷,防止破裂。(2)应使用坩埚钳取放蒸发皿,加热时用三脚架或铁架台固定。(3)液体量多时可直接加热 ,量少或黏稠液体要垫石棉网或放在泥三角上加热。(4) 加热蒸发皿时要不断的用玻璃棒搅拌,防止液体局部受热四处飞溅。(5)加热完后,需要用坩埚钳移动蒸发皿。不能直接放到实验桌上,应放在石棉网上,以免烫坏实验桌。(6)大量固体析出后就熄灭酒精灯,用余热蒸干剩下的水分。(7)加热时,应先用小火预热,再用大火加强热。(8)要使用预热过的坩锅钳取热的蒸发皿。(9)用蒸发皿盛装液体时,其液体量不能超过其容积的三分之二。管理方法:1. 蒸发皿不使用时放在保险柜中。2.交接班时不论蒸发皿在使用或存放,交接班者都要当面交接。3. 在岗人员离岗时,必须检查好门窗,把门锁好,回岗位立即检查,出现问题立即汇报领导。4. 检查蒸发皿坩埚是否存在的同时,要检查坩埚是否清洗干净。清洁洗涤:1铂金坩埚钳必须保持清洁,内外应光亮,经过长久灼烧后,铂坩埚外表可能黯然无光,日久必深入到内部致使坩埚脆弱破裂,因此必须清除不清洁之物2如用稀酸尚不能洗净时,则用焦硫酸钾,碳酸钠或硼砂熔融清洗3如仍有污点,或表面发乌,则用通过100筛目的无尖锐棱角的细砂,用水润湿进行轻轻磨擦,使表面恢复光泽
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