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在硅片上沉积了膜,膜无法取下,现需要测试膜的吸收,考虑到膜有反射,希望测试透过率光谱及反射率光谱来得到膜的吸收。现在试了几种方法:1、用傅立叶变换红外光谱测试。透过率用空白双面抛光硅片做背景,测试透过率;以金镜为背景用镀金的积分球附件测试反射率。结果有些出现反射率?透过率大于100%。2、用显微红外光谱仪测试。以空气为背景,测试硅片透过率T1,假设硅片对红外光不吸收,其反射率R1=1-T1;以硅片做背景,测试硅片上镀膜反射率R2,样品实际反射率R=R1*R2;以硅片做背景测试样品透过率T。样品吸收=1-T-R=1-T-(1-T1)*R2。结果也会出现反射?投射大于100%。若用显微红外测试以金镜做背景也会出现这种情况。各位老师帮我分析一下原因吧,还有测试基底上的膜中红外的吸收应该用什么仪器,用什么测试方法。谢谢谢谢
1、石墨炉[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Wp][color=#3333ff]原子吸收[/color][/url]的背景面积多大算是有干扰?需要去除干扰2、我做了五个火锅料类的样子,硝酸微波消解,赶酸净干后测,进样量20uL,5uL硝酸钯,5uL硝酸铵炉程序:干燥110 20s,130 30s;灰化:850 35s;原子化1600 5s测试结果峰型很好,标准空白的吸光度0.12,测试样品的背景面积0.2-0.5之间3、不加基改测试上面的样品,峰型不太好,背景面积比加基改后更小,什么原因?不加基改的炉程序:干燥110 15s,130 30s;灰化:450 30s;原子化1600 5s4、加基改后测试鸡蛋等盐分较低的样品,测试值都是负值 ?求大神解答?
背景吸收是由分子吸收和光散射引起。分子吸收指在原子化过程中生成的气体分子、氧化物、氢氧化物和盐类等分子对光源发出的辐射的吸收。在AAS中常见的分子吸收有:碱金属卤化物在紫外区的强分子吸收;无机酸的分子吸收;火焰气体或石墨炉保护气体(N2)的分子吸收。光散射指在原子化过程中固体微粒或液滴对光的散射,使吸光度增加。消除背景吸收的方法主要有:改用火焰;分离或转化共存物;背景扣除(用非吸收线扣除、用其它元素的吸收线扣除;氘灯背景校正法和蔡曼效应背景校正法。