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沉积薄膜基片的清洗方法主要根据薄膜生长方法和薄膜使用目的来选定。这是因为基片的表面状态或污物严重影响形成薄膜的结构和性质。因此必须采用各种清洗方法.以除去表面的污物。目前,基片清洗方法有:用化学溶剂溶解污物的方法、超声波清洗法、离子轰击清洗法、等离子体清洗法和烘烤清洗法等。 (1)使用洗涤剂的清洗方法 去除基片表面油脂成分的清洗方法是首先在煮沸的洗涤剂中将基片浸泡1min左右,随后用流动水充分冲洗,再在乙醇中浸泡后用干燥机快速烘干。 〔2)使用化学溶剂的清洗方法 用丙酮清洗可采用上述顺序,半导体表面多用强碱清洗,另外还可用溶剂蒸气进行脱脂清洗。 〔3)超声波清洗方法 超声波清洗方法是利用超声波在液体介质中传播时产生的空穴现象对基片表面进行清洗的。针对不同的清洗目的,可采用不同的溶剂、洗涤液或蒸馏水等作液体介质。 (4)离子轰击清洗方法 离子轰击清洗法是在形成薄膜之前用加速的正离子撞击基片表面,把表面上的污染物和吸附物质打出来。这种方法不用液体,也不需要干燥,因此被认为是一种极好的方法,但要注意高能离子会使基片表面受到溅射损伤的问题。 (5)等离子体处理 利用低压气体放电产生的等离子体,对基片进行轰击,赋予各种表面特性和提高膜层的结合力。这是由于等离子体存在许多高能高活性的粒子(如电子、离子、激发原子和分子、光子)与基片表面作用,不仅可除去污物,有时还会接上某些基闭,因而等离子体处理的特点是:能获得活性表面;能除去非常微小的污物;能清洁其他方法难以清洁的部位。 (6)烘烤清洗方法 如果基片具有热稳定性,则在尽量高的真空中把基片加热至300℃左右就会有效除去基片表面上的水分子等吸附物质。
原文来源:清洗恒温恒湿试验箱水路系统的妙招 编辑:林频仪器 [b]恒温恒湿试验箱[/b]的保养工作必不可少,我们都知道只有对该设备进行保养,才能够保证这种设备在使用的过程中不出现故障,所以对于细节问题,一定要注意一下,那么很多的客户都不知道对水路系统如何清洗保养,水路系统关系到设备的加湿和除湿等过程,所以,对水路系统的日常维护至关重要,接下来告诉大家保养的一些小常识。[align=center][img=,310,350]http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2017/06/201706160845_01_1037_3.jpg[/img][/align] 1、将恒温恒湿试验箱的机房门打开、把总电源往下关闭,排水阀旋转至的位置、水将经回水管排回下水箱水全部排回下水桶。 2、回水管抽出,水马达电源线连接头以及抽水马达出水管拔起,抽水马达出口将会有水漏出为正常现象,请以手指将抽水马达出水口按住迅速的将下水桶的水倒掉。 3、清洗各部份组件之后再将下水桶放至定位将回水管抽水马达电源线连接头,以及抽水马达出水管插回。 有了上面这些知识,大家在清洗保养恒温恒湿试验箱的水路系统时,就不用再为之烦恼了,最后,专家建议大家在购买完设备以后,要学会自己检测这些仪器,我们要知道,不同的设备的校正方法可能会稍有偏差,我们还是要以商家提供的校正方法为主,学会操作该设备的自检校正方法,可以为企业本身省去很多的麻烦,客户也方便使用。
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