全自动高真空镀膜仪

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  • 北京通慧德真空科技有限公司----成立于2004年; ----中关村高新技术企业;----中国真空协会会员单位; ----中关村德胜科技园协会副理事长单位; ----拥有国内真空领域权威高级工程师及卓越的技术团队,专注于高品质真空设备及隔热绝缘保护材料的研究、设计与开发; ----为某客户研发的真空镀膜机,实现全自动智能化操作,镀膜工艺达到国际先进水平; ----为信息产业部某所研发的真空退火炉和真空烧结炉,为生产航天太阳能电池提供了保障,其稳定可靠的性能获得用户的高度评价; ----为航天部二院某所研发的真空炉解决了在生产航天用品晶体元器件中的难题; ----为江苏某大型光伏企业研发的热电偶保护管、电极保护瓦,保护筒、等产品, 结束了该企业长期依赖高昂的进口产品。并广泛应用于国内多家真空铸锭炉企业及硅锭生产企业; ...... 我们秉承“厚德载物,诚信为本”,为客户带来超越期望的产品价值。 Beyond your expectation!
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  • 真空仪器(氦质谱检漏仪)及真空设备(氦检漏系统)、充氦回收系统、气密性检漏仪、真空镀膜设备、纳米薄膜及各类电气控制系统、夹具、冲堵头、的组装生产、研发、销售及真空机组、检漏平台、流水线体、非标自动化设备维修移机保养改造。高纯氦气、真空阀门、真空泵、真空测量仪器仪表、压缩机、机电产品、润滑剂、密封耗材批发及零售。承包检漏工程、检漏方案设计实施、检漏仪租赁业务、检漏仪校准、、真空镀膜服务、工业自动化设备以及电子产品、及计算机软件的研究、开发、销售、技术服务、技术咨询、系统集成及自营和代理各类商品和技术的进出口业务。
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全自动高真空镀膜仪相关的仪器

  • 徕卡高真空镀膜仪在电子显微镜领域,往往需要对样品进行表面镀膜从而使样品表面成像或图像质量得到改善。在样品表面覆盖一层导电的金属薄膜可以消除荷电效应,降低电子束对样品的热损伤,并可以提高SEM对样品进行形貌观察时所需的二次电子信号量。精细的碳膜具有电子束透明且导电的特性,因而常应用于X射线微区元素分析,制备网格支持膜,以及制备适宜于TEM观查的复型。需要怎样的镀膜技术取决于分辨率和应用需求。Leica EM ACE镀膜仪家族提供在各应用领域所需的键膜解决方案。Leica EM ACE600 是一款多功能型高真空镀膜系统,用于制备超薄,细颗粒的导电金属膜和碳膜,以适用于FE-SEM和TEM超高分辨率分析所需的镀膜要求。这一款全自动台式镀膜仪,包含内置式无油真空系统、石英膜厚监控系统和马达驱动样品台(旋转为标配,倾斜和高度马达驱动为选配)。徕卡高真空镀膜仪可以配置如下镀膜方式:★★★ 金属溅射镀膜★★★ 碳丝蒸发镀膜★★★ 碳棒蒸发镀膜(带有热阻蒸发镀膜选配件)★★★ 电子束蒸发镀膜★★★ 辉光放电★★★ 连接VCT样品交换仓: 与徕卡EM VCT配套实现冷冻镀膜,冷冻断裂,双复型,冷冻干燥和真空冷冻传输
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  • 瑞士Safematic CCU-010 HV高真空镀膜仪(电镜附件及外设)(喷金喷碳一体机)紧凑型、模块化和智能化CCU-010 HV为一款结构紧凑、全自动型的高真空离子溅射和蒸发镀碳一体化镀膜仪,使用非常简便。采用独特的插入式设计,通过简单地变换镀膜头就可轻松配置为溅射或蒸镀设备。在镀膜之前和/或之后,可以进行等离子处理。模块化设计可轻松避免金属和碳沉积之间的交叉污染。CCU-010标配膜厚监测装置。特点和优点✬ 高性能离子溅射、蒸发镀碳和可选的等离子处理✬ 专有的自动碳源卷送设计–多达数十次碳镀膜,无需用户干预✬ 独特的即插即用溅射和蒸碳镀膜模块✬ 一流的真空性能和快速抽真空✬ 结构紧凑、可靠且易于维修✬ 双位置膜厚监控装置,可兼容不同尺寸的样品✬ 主动冷却的溅射头可确保镀膜质量并延长连续运行时间巧妙的真空设计CCU-010 HV系列高真空镀膜仪涵盖了最高级的SEM、TEM和薄膜应用。特别选择和设计的材料、表面和形状可大大缩短抽真空时间。两个附加的标准真空法兰允许连接第三方设备。LC-006金属大腔室可选的LC-006是当前玻璃腔室的扩大版,为铝制结构。这个金属腔室可容纳6"晶圆样品或其它大尺寸样品,而且消除了对内爆防护的需求。在CCU-010 HV上选配LC-006, 无需任何修改就可实现更大样品和晶圆的镀膜。SP-010 & SP-011溅射模块两种溅射模块一旦插入CCU-010 HV镀膜主体单元,均可立即使用。SP-010和SP-011溅射模块具有有效的主动冷却功能,连续喷涂时间长,非常适合需要较厚膜的应用。 可选多种溅射靶材,适合SEM、FIB和各种薄膜应用。SP-010溅射装置的磁控组件旨在优化靶材使用。这使其成为电子显微镜中精细颗粒贵金属镀膜的理想工具,也适合于极细颗粒尺寸镀膜。SP-011溅射装置的磁控组件用于大功率溅射和宽范围材料的镀膜。对那些比常规EM应用要求镀膜速率更高、膜层要求更厚的薄膜应用时,推荐使用该溅射头。SP-011溅射头与CCU-010 HV高真空镀膜仪(电镜附件及外设)之主体单元相结合,可满足诸如DLC,ITO或铁磁溅射材料镀膜等具有挑战性的应用。(二选一作为标配)CT-010碳蒸发模块紧凑的插入式碳蒸发模块为镀碳树立了新标杆。将该头插入CCU-010 HV高真空镀膜仪(电镜附件及外设)之主体单元后,即可立即使用,适合SEM、TEM和任何需要高质量碳膜应用的场合。CT-010使用欧洲专有的、独特且技术领先的碳绳供给系统,可以进行多达数十次涂层的镀膜,而无需更换碳源。除了易于使用外,该系统还允许在一个镀膜循环内可控地沉积几乎任何厚度的碳膜。易于选择的镀膜模式可保障镀膜安全,从对温度敏感的样品进行温和的蒸镀薄膜到在FIB应用中厚膜层的高功率闪蒸镀碳。整合脉冲蒸发、自动启动挡板后除气及膜厚监控的智能电源控制提供了精确的膜层厚度,并可避免火花引起的表面不均匀。GD-010辉光放电模块可选的GD-010辉光放电系统可快速安装,通过空气、氩气或其它专用气体进行表面处理,例如,使碳膜亲水。本机可按顺序进行碳镀膜和辉光放电处理,无需“破”真空或更换处理头,极大地简化了操作过程。本单元安装到CT-010,与所有样品台兼容。HS-010真空储存箱可选的HS-010真空储存箱可在真空条件下存放备用镀膜头、备用行星台或旋转台、所有溅射靶材和碳附件,使它们处于清洁状态。通过集成的真空管路与镀膜主体单元连接,利用CCU-010抽真空系统对储物箱抽真空。可选地,用户也可用外接真空泵替代。舒适的手动锁定装置和放气阀允许对储物箱进行独立的抽真空和放气控制。额外的标准真空腔室可有效地避免蒸碳和溅射金属之间的交叉污染。ET-010等离子刻蚀单元在对样品进行镀膜之前或镀膜之后,可选该单元对样品进行等离子刻蚀处理。使用该附件,可以选择氩气、其它蚀刻气体或大气作为处理气体。这样可以在镀膜前清洁样品,增加薄膜的附着力。也可在样品镀碳后进行等离子处理,从而对碳膜表面进行改性。Coating-LAB软件使用可选的基于PC的Coating-LAB软件,可查看包括图表信息在内的处理数据。数据包括压力、电流、电压、镀膜速率和膜厚,镀膜速率为实时曲线。便捷的软件升级和参数设置让此智能工具更为完美。RC-010手套箱应用的远程控制软件(可选)◎基于window的远程控制软件◎创建和调用配方◎实时图表,包含导出功能(Excel、png等)◎自动连接到设备可选多种样品台CCU-010提供了一个直径80mm的样品台,该样品台插入到高度可调且可倾斜的样品台支架上。可选其它专用的旋转样品台、行星台、载玻片样品台等。CCU-010 HV系列高真空镀膜仪及其版本CCU-010 HV 系列高真空镀膜系统专为满足电镜样品制备领域及材料科学薄膜应用的最高要求而设计。CCU-010 HV 高真空溅射和镀碳仪采用优质组件和智能设计,可在超高分辨率应用中提供出色的结果。该设备是全自动抽真空和全自动操作,采用TFT 触摸屏操控,配方可编程,保证结果可重复。CCU-010 HV 标配抽真空系统完全无油,含高性能涡轮泵和前级隔膜泵,均位于内部,外部没有笨重的旋转泵和真空管路。这是一款尺寸合理的桌上型高真空镀膜仪。使用无油抽真空系统可将镀层中的污染或缺陷降至最低。关闭时,该设备可以保持在真空下,这有效地保护了系统免受灰尘和湿气的影响,并为高质量的镀层创造了快速抽真空和有利的真空条件。CCU-010 HV系列高真空镀膜仪版本:CCU-010 HV高真空磁控离子溅射镀膜仪;CCU-010 HV高真空热蒸发镀碳仪;CCU-010 HV高真空溅射喷碳镀膜仪(高真空喷金喷碳一体机);CCU-010 HV高真空手套箱专用镀膜仪。CCU-010 HV 系列高真空镀膜仪的主要亮点在于实现了两大技术性突破:一是独家采用自动碳纤维供给系统,在不破真空更换碳源的情况下可进行数十次的镀碳运行,比市场上常见的单次、双次或四次碳纤维镀膜方式节省大量的人工操作,既适用于大多数常规镀碳应用,也适用于超薄或超厚碳膜以及温度敏感样品的应用。二是将“镀膜前对样品表面进行等离子清洁(增加附着力)+镀膜+镀膜后对膜层表面进行改性(比如:亲水化)或刻蚀”全流程集于同一台仪器同一次真空下完成,大大提高了镀膜质量,拓宽了应用范围。另外,瑞士制造,是“精密”和“高品质”的代名词;瑞士原厂货源,覃思本地服务,客户买得放心、用得省心!
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  • Leica EM ACE600是优良的多用途高真空薄膜沉积系统,设计来根据您的FE-SEM和TEM应用的需要生产非常薄的,细粒度的和导电的金属和碳涂层,用于高分辨率分析。这种高真空镀膜机可以通过以下方法进行配置:溅射、碳丝蒸发、碳棒蒸发、电子束蒸发和辉光放电。适用于Leica EM ACE600高真空镀膜机的Leica EM VCT真空冷冻传输系统,是无污染的低温扫描电镜样本制备的理想解决方案。理想重现的结果运行全自动化过程,辅以参数和协议设置。集成的石英测量和自动化3轴载物台移动。容易清洗可拆卸的门、卷帘、内部屏蔽、来源和载物台,确保制备高品质样本的环境清洁。小巧紧凑设计紧凑,占地面积小,节省实验室空间。操作简便直观的触摸屏,松推配合的连接器和免工具的目标变更,舒适的前门锁定。自定义配置配备了仪器,可满足您的具体需求。低温镀膜真空低温传输系统适应将室温镀膜机转换成低温镀膜机。样本能在低温下于受保护的环境中进行镀膜和传输。
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全自动高真空镀膜仪相关的资讯

  • 光学薄膜的真空镀膜设备
    光学薄膜的真空镀膜设备 型号:BMC1100DS,带Windows软件自动控制系统(SDC)/日本 制造时间:2003年 状态:运行极好 生产厂家:Shincron (http://www.shincron.co.jp/phase1/en/top/index.html) 技术规格: 真空腔体尺寸: &phi 1100mmxH 1600mm 衬底圆顶尺寸: &phi 950 (3~30rpm) 耐加热系统: &phi 20mm 4kw 蒸发源: 2 EB Guns (JEOL)  JEBG-102UHO(&phi 35ccx20) JST-16F (16kw)  IAD 系统: 无 光学厚度监控器: OPM-V1 (monitor glass &phi 30x30) 石英晶体微天平监控器: 无 真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统: 最大350℃± 10℃(36kw) 型号:RMC1100,带Windows软件自动控制系统/日本 制造时间:2003年8月 状态:运行极好 生产厂家:Rock Giken Inc (http://www.rock-giken.co.jp/vacuum/index.html) 技术规格: 真空腔体尺寸: &phi 1150mmxH 1500mm 衬底圆顶尺寸: &phi 950 (3~30rpm) 耐加热系统: &phi 20mm 4kw 蒸发源: 2EB Guns (Plasma System)  G-12100(&phi 35ccx20) D-10001 (10kw)  IAD 系统: 无 光学厚度监控器: 380~1500nm(波长) (monitor glass &phi 10x60pcs) 石英晶体微天平监控器: XTC-2(Inficon) 真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统: 300℃± 10℃(21kw) 光学薄膜的真空镀膜设备 型号:BMC1100DS,带Windows软件自动控制系统(SDC)/日本 制造时间:2003年 状态:运行极好 生产厂家:Shincron (http://www.shincron.co.jp/phase1/en/top/index.html) 技术规格: 真空腔体尺寸: &phi 1100mmxH 1600mm 衬底圆顶尺寸: &phi 950 (3~30rpm) 耐加热系统: &phi 20mm 4kw 蒸发源: 2 EB Guns (JEOL)  JEBG-102UHO(&phi 35ccx20) JST-16F (16kw)  IAD 系统: 无 光学厚度监控器: OPM-V1 (monitor glass &phi 30x30) 石英晶体微天平监控器: 无 真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统: 最大350℃± 10℃(36kw) 型号:RMC1100,带Windows软件自动控制系统/日本 制造时间:2003年8月 状态:运行极好 生产厂家:Rock Giken Inc (http://www.rock-giken.co.jp/vacuum/index.html) 技术规格: 真空腔体尺寸: &phi 1150mmxH 1500mm 衬底圆顶尺寸: &phi 950 (3~30rpm) 耐加热系统: &phi 20mm 4kw 蒸发源: 2EB Guns (Plasma System)  G-12100(&phi 35ccx20) D-10001 (10kw)  IAD 系统: 无 光学厚度监控器: 380~1500nm(波长) (monitor glass &phi 10x60pcs) 石英晶体微天平监控器: XTC-2(Inficon) 真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统: 300℃± 10℃(21kw) 光学薄膜的真空镀膜设备 型号:BMC1100DS,带Windows软件自动控制系统(SDC)/日本 制造时间:2003年 状态:运行极好 生产厂家:Shincron (http://www.shincron.co.jp/phase1/en/top/index.html) 技术规格: 真空腔体尺寸: &phi 1100mmxH 1600mm衬底圆顶尺寸: &phi 950 (3~30rpm) 耐加热系统: &phi 20mm 4kw 蒸发源: 2 EB Guns (JEOL)  JEBG-102UHO(&phi 35ccx20) JST-16F (16kw)  IAD 系统: 无 光学厚度监控器: OPM-V1 (monitor glass &phi 30x30) 石英晶体微天平监控器: 无 真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统: 最大350℃± 10℃(36kw) 型号:RMC1100,带Windows软件自动控制系统/日本 制造时间:2003年8月 状态:运行极好 生产厂家:Rock Giken Inc (http://www.rock-giken.co.jp/vacuum/index.html) 技术规格: 真空腔体尺寸: &phi 1150mmxH 1500mm 衬底圆顶尺寸: &phi 950 (3~30rpm) 耐加热系统: &phi 20mm 4kw 蒸发源: 2EB Guns (Plasma System)  G-12100(&phi 35ccx20) D-10001 (10kw)  IAD 系统: 无 光学厚度监控器: 380~1500nm(波长) (monitor glass &phi 10x60pcs) 石英晶体微天平监控器: XTC-2(Inficon) 真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统: 300℃± 10℃(21kw) 光学薄膜的真空镀膜设备 型号:BMC1100DS,带Windows软件自动控制系统(SDC)/日本 制造时间:2003年 状态:运行极好 生产厂家:Shincron (http://www.shincron.co.jp/phase1/en/top/index.html) 技术规格: 真空腔体尺寸: &phi 1100mmxH 1600mm 衬底圆顶尺寸: &phi 950 (3~30rpm) 耐加热系统: &phi 20mm 4kw 蒸发源: 2 EB Guns (JEOL)  JEBG-102UHO(&phi 35ccx20) JST-16F (16kw)  IAD 系统: 无 光学厚度监控器: OPM-V1 (monitor glass &phi 30x30) 石英晶体微天平监控器: 无 真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统: 最大350℃± 10℃(36kw) 型号:RMC1100,带Windows软件自动控制系统/日本 制造时间:2003年8月 状态:运行极好 生产厂家:Rock Giken Inc (http://www.rock-giken.co.jp/vacuum/index.html) 技术规格: 真空腔体尺寸: &phi 1150mmxH 1500mm 衬底圆顶尺寸: &phi 950 (3~30rpm) 耐加热系统: &phi 20mm 4kw 蒸发源: 2EB Guns (Plasma System)  G-12100(&phi 35ccx20) D-10001 (10kw)  IAD 系统: 无 光学厚度监控器: 380~1500nm(波长) (monitor glass &phi 10x60pcs) 石英晶体微天平监控器: XTC-2(Inficon) 真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统: 300℃± 10℃(21kw) 光学薄膜的真空镀膜设备 型号:BMC1100DS,带Windows软件自动控制系统(SDC)/日本 制造时间:2003年 状态:运行极好 生产厂家:Shincron (http://www.shincron.co.jp/phase1/en/top/index.html) 技术规格: 真空腔体尺寸: &phi 1100mmxH 1600mm 衬底圆顶尺寸: &phi 950 (3~30rpm) 耐加热系统: &phi 20mm 4kw 蒸发源: 2 EB Guns (JEOL)  JEBG-102UHO(&phi 35ccx20) JST-16F (16kw)  IAD 系统: 无 光学厚度监控器: OPM-V1 (monitor glass &phi 30x30) 石英晶体微天平监控器: 无 真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统: 最大350℃± 10℃(36kw) 型号:RMC1100,带Windows软件自动控制系统/日本 制造时间:2003年8月 状态:运行极好 生产厂家:Rock Giken Inc (http://www.rock-giken.co.jp/vacuum/index.html) 技术规格: 真空腔体尺寸: &phi 1150mmxH 1500mm 衬底圆顶尺寸: &phi 950 (3~30rpm) 耐加热系统: &phi 20mm 4kw 蒸发源: 2EB Guns (Plasma System)  G-12100(&phi 35ccx20) D-10001 (10kw)  IAD 系统: 无 光学厚度监控器: 380~1500nm(波长) (monitor glass &phi 10x60pcs) 石英晶体微天平监控器: XTC-2(Inficon) 真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统: 300℃± 10℃(21kw) 光学薄膜的真空镀膜设备 型号:BMC1100DS,带Windows软件自动控制系统(SDC)/日本 制造时间:2003年 状态:运行极好 生产厂家:Shincron (http://www.shincron.co.jp/phase1/en/top/index.html) 技术规格: 真空腔体尺寸: &phi 1100mmxH 1600mm 衬底圆顶尺寸: &phi 950 (3~30rpm) 耐加热系统: &phi 20mm 4kw 蒸发源: 2 EB Guns (JEOL)  JEBG-102UHO(&phi 35ccx20) JST-16F (16kw)  IAD 系统: 无 光学厚度监控器: OPM-V1 (monitor glass &phi 30x30) 石英晶体微天平监控器: 无 真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统: 最大350℃± 10℃(36kw) 型号:RMC1100,带Windows软件自动控制系统/日本 制造时间:2003年8月 状态:运行极好 生产厂家:Rock Giken Inc (http://www.rock-giken.co.jp/vacuum/index.html) 技术规格: 真空腔体尺寸: &phi 1150mmxH 1500mm 衬底圆顶尺寸: &phi 950 (3~30rpm) 耐加热系统: &phi 20mm 4kw 蒸发源: 2EB Guns (Plasma System)  G-12100(&phi 35ccx20) D-10001 (10kw)  IAD 系统: 无 光学厚度监控器: 380~1500nm(波长) (monitor glass &phi 10x60pcs) 石英晶体微天平监控器: XTC-2(Inficon) 真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统: 300℃± 10℃(21kw) 光学薄膜的真空镀膜设备 型号:BMC1100DS,带Windows软件自动控制系统(SDC)/日本 制造时间:2003年 状态:运行极好 生产厂家:Shincron (http://www.shincron.co.jp/phase1/en/top/index.html) 技术规格: 真空腔体尺寸: &phi 1100mmxH 1600mm 衬底圆顶尺寸: &phi 950 (3~30rpm) 耐加热系统: &phi 20mm 4kw 蒸发源: 2 EB Guns (JEOL)  JEBG-102UHO(&phi 35ccx20) JST-16F (16kw)  IAD 系统: 无 光学厚度监控器: OPM-V1 (monitor glass &phi 30x30) 石英晶体微天平监控器: 无 真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统: 最大350℃± 10℃(36kw) 型号:RMC1100,带Windows软件自动控制系统/日本 制造时间:2003年8月 状态:运行极好 生产厂家:Rock Giken Inc (http://www.rock-giken.co.jp/vacuum/index.html) 技术规格: 真空腔体尺寸: &phi 1150mmxH 1500mm 衬底圆顶尺寸: &phi 950 (3~30rpm) 耐加热系统: &phi 20mm 4kw 蒸发源: 2EB Guns (Plasma System)  G-12100(&phi 35ccx20) D-10001 (10kw)  IAD 系统: 无 光学厚度监控器: 380~1500nm(波长) (monitor glass &phi 10x60pcs) 石英晶体微天平监控器: XTC-2(Inficon) 真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统: 300℃± 10℃(21kw) 光学薄膜的真空镀膜设备 型号:BMC1100DS,带Windows软件自动控制系统(SDC)/日本 制造时间:2003年 状态:运行极好 生产厂家:Shincron (http://www.shincron.co.jp/phase1/en/top/index.html) 技术规格: 真空腔体尺寸: &phi 1100mmxH 1600mm 衬底圆顶尺寸: &phi 950 (3~30rpm) 耐加热系统: &phi 20mm 4kw 蒸发源: 2 EB Guns (JEOL)  JEBG-102UHO(&phi 35ccx20) JST-16F (16kw)  IAD 系统: 无 光学厚度监控器: OPM-V1 (monitor glass &phi 30x30) 石英晶体微天平监控器: 无 真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统: 最大350℃± 10℃(36kw) 型号:RMC1100,带Windows软件自动控制系统/日本 制造时间:2003年8月 状态:运行极好 生产厂家:Rock Giken Inc (http://www.rock-giken.co.jp/vacuum/index.html) 技术规格: 真空腔体尺寸: &phi 1150mmxH 1500mm 衬底圆顶尺寸: &phi 950 (3~30rpm) 耐加热系统: &phi 20mm 4kw 蒸发源: 2EB Guns (Plasma System)  G-12100(&phi 35ccx20) D-10001 (10kw)  IAD 系统: 无 光学厚度监控器: 380~1500nm(波长) (monitor glass &phi 10x60pcs) 石英晶体微天平监控器: XTC-2(Inficon) 真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统: 300℃± 10℃(21kw) 光学薄膜的真空镀膜设备 型号:BMC1100DS,带Windows软件自动控制系统(SDC)/日本 制造时间:2003年 状态:运行极好 生产厂家:Shincron (http://www.shincron.co.jp/phase1/en/top/index.html) 技术规格: 真空腔体尺寸: &phi 1100mmxH 1600mm 衬底圆顶尺寸: &phi 950 (3~30rpm) 耐加热系统: &phi 20mm 4kw 蒸发源: 2 EB Guns (JEOL)  JEBG-102UHO(&phi 35ccx20) JST-16F (16kw)  IAD 系统: 无 光学厚度监控器: OPM-V1 (monitor glass &phi 30x30) 石英晶体微天平监控器: 无 真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统: 最大350℃± 10℃(36kw) 型号:RMC1100,带Windows软件自动控制系统/日本 制造时间:2003年8月 状态:运行极好 生产厂家:Rock Giken Inc (http://www.rock-giken.co.jp/vacuum/index.html) 技术规格: 真空腔体尺寸: &phi 1150mmxH 1500mm 衬底圆顶尺寸: &phi 950 (3~30rpm) 耐加热系统: &phi 20mm 4kw 蒸发源: 2EB Guns (PlasmaSystem)  G-12100(&phi 35ccx20) D-10001 (10kw)  IAD 系统: 无 光学厚度监控器: 380~1500nm(波长) (monitor glass &phi 10x60pcs) 石英晶体微天平监控器: XTC-2(Inficon) 真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统: 300℃± 10℃(21kw)
  • 北京航玻新材料技术有限公司380.00万元采购镀膜机
    html, body { -webkit-user-select: text } * { padding: 0 margin: 0 } .web-box { width: 100% text-align: center } .wenshang { margin: 0 auto width: 80% text-align: center padding: 20px 10px 0 10px } .wenshang h2 { display: block color: #900 text-align: center padding-bottom: 10px border-bottom: 1px dashed #ccc font-size: 16px } .site a { text-decoration: none } .content-box { text-align: left margin: 0 auto width: 80% margin-top: 25px text-indent: 2em font-size: 14px line-height: 25px } .biaoge { margin: 0 auto /* width: 643px */ width: 100% margin-top: 25px } .table_content { border-top: 1px solid #e0e0e0 border-left: 1px solid #e0e0e0 font-family: Arial /* width: 643px */ width: 100% margin-top: 10px margin-left: 15px } .table_content tr td { line-height: 29px } .table_content .bg { background-color: #f6f6f6 } .table_content tr td { border-right: 1px solid #e0e0e0 border-bottom: 1px solid #e0e0e0 } .table-left { text-align: left padding-left: 20px } 详细信息 北京航玻新材料技术有限公司枣庄分公司全自动红外真空镀膜机项目-招标公告 北京市-朝阳区 状态:公告 更新时间: 2022-12-20 北京航玻新材料技术有限公司枣庄分公司全自动红外真空镀膜机项目-招标公告 公告 北京航玻新材料技术有限公司枣庄分公司全自动红外真空镀膜机项目-招标公告 (招标编号:TC220A0BF) 招标项目所在地区:北京市 一、招标条件 本北京航玻新材料技术有限公司枣庄分公司全自动红外真空镀膜机项目(招标项目编号:TC220A0BF),已由项目审批/核准/备案机关批准,项目资金来源为招标人自筹且已到位,招标人为北京航玻新材料技术有限公司。本项目已具备招标条件,现进行公开招标。 二、项目概况和招标范围 项目规模:货物名称:全自动红外真空镀膜机;数量:1台;简要规格描述:具备红外滤光片、分色镜、减反射膜、高反射膜等高精度光学薄膜的研制能力,其余详见招标文件第五章“业务需求”;交货期:合同生效后60天内;交货地点:北京航玻新材料技术有限公司枣庄分公司(山东省枣庄市);最高投标限价:380万元。 。 招标内容与范围:本招标项目划分为标段1 个标段,本次招标为其中的: 001 第1包 三、投标人资格要求 001 第1包: 投标人必须满足以下条件:3.1在中华人民共和国境内依法注册,具有独立法人资格或为其他组织、符合本招标文件的要求并有能力提供本次招标货物和服务的制造商(提供由行政部门颁发的加载统一社会信用代码的营业执照正本或副本,如是法人的分支机构投标的,须同时提供其隶属法人的营业执照正本或副本,并需由其隶属法人出具《授权书》,授权该分支机构参与本项目和签署合同,并承诺对分支机构的应答行为及中标后的履约行为承担责任);3.2财务状况良好,可以提供满足招标人要求的正规有效的增值税专用发票;3.3单位负责人为同一人或者存在控股、管理关系的不同单位,不得参加同一招标项目投标;3.4投标人未被列入“信用中国”网站(www.creditchina.gov.cn)“记录失信被执行人或重大税收违法案件当事人名单或政府采购严重违法失信行为”记录名单(以投标截止日当天采购代理机构在“信用中国”网站及中国政府采购网查询结果为准,如相关失信记录已失效,投标人需提供相关证明资料);3.5投标人提供近3年(2019年1月1日(含)至投标截止日)同类产品的销售业绩。业绩证明材料要求:(1)提供与投标人(作为被委托方/乙方)签署的合同关键页扫描件(包含合同封面、内容、金额、签字盖章等;或能体现前述内容的合同关键页),合同对应至少一张结算发票证明,以合同金额为准(未附结算发票的合同不计入);(2)如签约方为国内非自然人,签字盖章页能体现签约方公章或合同章视为有效。如签约方为国内外自然人或国外非自然人须体现签字视为有效;(3)有效合同时间指合同签约日期或合同履约时间为2019年1月1日至投标截止日期间任意日期。 本项目不允许联合体投标。 四、招标文件的获取 获取时间:2022年12月20日17时00分00秒---2022年12月27日17时00分00秒 获取方法:有意参与本项目的潜在投标人请登录“中招联合招标采购平台(www.365trade.com.cn)购买招标文件,具体操作步骤详见本公告第七条其他公告内容(如有平台操作疑问,可拨打中招联合招标采购平台统一服务热线010-86397110进行咨询)。招标文件费用:招标文件售价200元人民币(本项目仅支持【网上支付】方式,除标书款外还需支付平台交易服务费,收费标准为200元。平台交易服务费由中招联合信息股份有限公司出具增值税电子普通发票。标书款、平台交易服务费一经收取不予退还)。 五、投标文件的递交 递交截止时间:2023年01月10日09时30分00秒 递交方法:投标文件必须在投标文件递交截止时间前送达中关村资本大厦6层会议室(北京市海淀区学院南路62号),招标代理机构将于投标文件递交截止时间在同一地点公开开标。 六、开标时间及地点 开标时间:2023年01月10日09时30分00秒 开标地点及方式:中关村资本大厦6层会议室(北京市海淀区学院南路62号),现场开标。 七、其他公告内容 投标人获取招标文件操作步骤如下:(1)登录www.365trade.com.cn网址进行供应商免费注册;(2)注册完成后,进入系统,点击“我的工作台”- “寻找招标项目”进行项目名称查询,找到项目点击“立即投标”。投标人选中需要参与的标包进行标书费用支付(网上支付)(3)支付完成后,投标人可以进行招标文件下载。 八、监督部门 本招标项目的监督部门为/。 九、联系方式 招标人:北京航玻新材料技术有限公司 地址:北京市朝阳区管庄东里1号 联系人:刘永华 电话:010-51167051 电子邮件:liuyhua_qiu@126.com 招标代理机构:中招国际招标有限公司 地址:北京市海淀区学院南路62号中关村资本大厦 联系人:金月含 电话:010-62108016 电子邮件:jinyuehan@cntcitc.com.cn 招标人或其招标代理机构主要负责人(项目负责人):_______________(签名) 招标人或其招标代理机构:_______________(盖章) 202212201520009385130018649 × 扫码打开掌上仪信通App 查看联系方式 $('.clickModel').click(function () { $('.modelDiv').show() }) $('.closeModel').click(function () { $('.modelDiv').hide() }) 基本信息 关键内容:镀膜机 开标时间:2023-01-10 09:30 预算金额:380.00万元 采购单位:北京航玻新材料技术有限公司 采购联系人:点击查看 采购联系方式:点击查看 招标代理机构:中招国际招标有限公司 代理联系人:点击查看 代理联系方式:点击查看 详细信息 北京航玻新材料技术有限公司枣庄分公司全自动红外真空镀膜机项目-招标公告 北京市-朝阳区 状态:公告 更新时间: 2022-12-20 北京航玻新材料技术有限公司枣庄分公司全自动红外真空镀膜机项目-招标公告 公告 北京航玻新材料技术有限公司枣庄分公司全自动红外真空镀膜机项目-招标公告 (招标编号:TC220A0BF) 招标项目所在地区:北京市 一、招标条件 本北京航玻新材料技术有限公司枣庄分公司全自动红外真空镀膜机项目(招标项目编号:TC220A0BF),已由项目审批/核准/备案机关批准,项目资金来源为招标人自筹且已到位,招标人为北京航玻新材料技术有限公司。本项目已具备招标条件,现进行公开招标。 二、项目概况和招标范围 项目规模:货物名称:全自动红外真空镀膜机;数量:1台;简要规格描述:具备红外滤光片、分色镜、减反射膜、高反射膜等高精度光学薄膜的研制能力,其余详见招标文件第五章“业务需求”;交货期:合同生效后60天内;交货地点:北京航玻新材料技术有限公司枣庄分公司(山东省枣庄市);最高投标限价:380万元。 。 招标内容与范围:本招标项目划分为标段1 个标段,本次招标为其中的: 001 第1包 三、投标人资格要求 001 第1包: 投标人必须满足以下条件:3.1在中华人民共和国境内依法注册,具有独立法人资格或为其他组织、符合本招标文件的要求并有能力提供本次招标货物和服务的制造商(提供由行政部门颁发的加载统一社会信用代码的营业执照正本或副本,如是法人的分支机构投标的,须同时提供其隶属法人的营业执照正本或副本,并需由其隶属法人出具《授权书》,授权该分支机构参与本项目和签署合同,并承诺对分支机构的应答行为及中标后的履约行为承担责任);3.2财务状况良好,可以提供满足招标人要求的正规有效的增值税专用发票;3.3单位负责人为同一人或者存在控股、管理关系的不同单位,不得参加同一招标项目投标;3.4投标人未被列入“信用中国”网站(www.creditchina.gov.cn)“记录失信被执行人或重大税收违法案件当事人名单或政府采购严重违法失信行为”记录名单(以投标截止日当天采购代理机构在“信用中国”网站及中国政府采购网查询结果为准,如相关失信记录已失效,投标人需提供相关证明资料);3.5投标人提供近3年(2019年1月1日(含)至投标截止日)同类产品的销售业绩。业绩证明材料要求:(1)提供与投标人(作为被委托方/乙方)签署的合同关键页扫描件(包含合同封面、内容、金额、签字盖章等;或能体现前述内容的合同关键页),合同对应至少一张结算发票证明,以合同金额为准(未附结算发票的合同不计入);(2)如签约方为国内非自然人,签字盖章页能体现签约方公章或合同章视为有效。如签约方为国内外自然人或国外非自然人须体现签字视为有效;(3)有效合同时间指合同签约日期或合同履约时间为2019年1月1日至投标截止日期间任意日期。 本项目不允许联合体投标。 四、招标文件的获取 获取时间:2022年12月20日17时00分00秒---2022年12月27日17时00分00秒 获取方法:有意参与本项目的潜在投标人请登录“中招联合招标采购平台(www.365trade.com.cn)购买招标文件,具体操作步骤详见本公告第七条其他公告内容(如有平台操作疑问,可拨打中招联合招标采购平台统一服务热线010-86397110进行咨询)。招标文件费用:招标文件售价200元人民币(本项目仅支持【网上支付】方式,除标书款外还需支付平台交易服务费,收费标准为200元。平台交易服务费由中招联合信息股份有限公司出具增值税电子普通发票。标书款、平台交易服务费一经收取不予退还)。 五、投标文件的递交 递交截止时间:2023年01月10日09时30分00秒 递交方法:投标文件必须在投标文件递交截止时间前送达中关村资本大厦6层会议室(北京市海淀区学院南路62号),招标代理机构将于投标文件递交截止时间在同一地点公开开标。 六、开标时间及地点 开标时间:2023年01月10日09时30分00秒 开标地点及方式:中关村资本大厦6层会议室(北京市海淀区学院南路62号),现场开标。 七、其他公告内容 投标人获取招标文件操作步骤如下:(1)登录www.365trade.com.cn网址进行供应商免费注册;(2)注册完成后,进入系统,点击“我的工作台”- “寻找招标项目”进行项目名称查询,找到项目点击“立即投标”。投标人选中需要参与的标包进行标书费用支付(网上支付)(3)支付完成后,投标人可以进行招标文件下载。 八、监督部门 本招标项目的监督部门为/。 九、联系方式 招标人:北京航玻新材料技术有限公司地址:北京市朝阳区管庄东里1号 联系人:刘永华 电话:010-51167051 电子邮件:liuyhua_qiu@126.com 招标代理机构:中招国际招标有限公司 地址:北京市海淀区学院南路62号中关村资本大厦 联系人:金月含 电话:010-62108016 电子邮件:jinyuehan@cntcitc.com.cn 招标人或其招标代理机构主要负责人(项目负责人):_______________(签名) 招标人或其招标代理机构:_______________(盖章) 202212201520009385130018649
  • 科众精密-全自动晶圆接触角测量仪,测量等离子处理镀膜后的接触角
    半导体晶圆表面的接触角测试是半导体制造中常见的一项表面质量评估方法,其重要性在以下几个方面:1、粗糙度评估:半导体晶圆表面的粗糙度会对接触角产生影响,接触角测试可以用来评估晶圆表面的粗糙度,从而评估其表面质量。表面清洁评估:半导体晶圆表面的杂质和污染物会影响接触角的测量结果,接触角测试可以用来评估晶圆表面的清洁程度。2、表面处理评估:半导体晶圆表面的各种表面处理,如刻蚀、沉积、退火等会影响接触角的测量结果,接触角测试可以用来评估这些表面处理对晶圆表面性质的影响。3、界面张力评估:在半导体制造中,各种材料的粘附和分离过程都涉及到界面张力的变化,接触角测试可以用来评估晶圆表面和各种材料之间的界面张力。综上所述,半导体晶圆表面的接触角测试可以用来评估晶圆表面的粗糙度、清洁程度、表面处理效果和界面张力等方面的性质,对半导体制造过程中的表面质量控制具有重要的意义。晶圆全自动接触角测量仪详细参数:技术参数KZS-50图片硬件外观接触角平台长12寸圆平台(6寸、8寸、12寸(通用)扩展升级整体扩展升级接触角设备尺寸670x690x730mm(长*宽*高)重量35KG样品台样品平台放置方式水平放置 样品平台工作方式三维移动样品平台样品承重0.1-10公斤仪器平台扩展可添加手动,自动倾斜平台,全自动旋转平台,温控平台,旋转平台,真空吸附平台调节范围Y轴手动行程400mm,精度0.1mmX轴手动,360°自动旋转,精度0.1mm测试范围0-180°测量精度高达0.01°测量面水平放置样品平台旋转全自动旋转平台仪器水平控制角位台可调,镜头可调,样品平台可调滴液滴液系统软件控制自动滴液,精度0.1微升,自动接液测试注射器高精密石英注射器,容量500ul针头直径0.51mm,1.6mm表面张力测试滴液移动范围X轴手动调节80mm,精度0.01mmZ轴自动调节100mm,精度0.01mm滴液系统软件控制自动滴液泵滴液模组金属丝杆滑台模组镜头/光源光源系统单波冷光源带聚光环保护罩,寿命60000小时以上光源调节软硬共控镜头可移动范围滑台可调100mm镜头远心变倍变焦定制镜头镜头倾斜度±10°,精度0.5°相机帧率/像素300fps(可选配更高帧率)/300万像索电源电源电压220V,功率60W,频率60HZ漏电装置带漏电装置保护软件部分软件算法分辨率拟合法、弧面法、θ/2、切线法、量角法、宽高法、L-Y法、圆法、椭圆法、斜椭圆法测量方式全自动、半自动、手动拟合方式 分辨率点位拟合,根据实际成像像素点完全贴合图像拍摄支持多种拍摄方式,可单张、可连续拍摄,支持视频拍摄,并一键测量。左右接触角区分支持分析方法座滴法、纤维法、动态润湿法、悬滴法、倒置悬滴法、附着滴法、插针法、3D形貌法、气泡捕获法分析方式 润湿性分析、静态分析、实时动态分析、拍照分析、视频分析、前进后退角分析保存模式Word、EXCEL、谱图、照片、视频总结1、晶圆接触角测量可以订制,适用于各种半导体制造中常用的6英寸、8英寸、12英寸等尺寸的晶圆。2、高精度测量:可以在非常小的范围内准确测量晶圆表面的接触角,具有高度的重复性和准确性。3、多功能性:晶圆接触角测量仪通常具有多种测试模式,可以测量不同类型的表面处理,如刻蚀、沉积、清洗等过程对接触角的影响,可以提供全面的表面质量评估。4、高效性:晶圆接触角测量仪可以在非常短的时间内完成多个晶圆的测量,提高了实验的效率。5、自动化程度高:晶圆接触角测量仪通常具有自动化控制和数据处理系统,可以自动完成晶圆的定位、测量和数据处理,减少了实验人员的工作量和误差。晶圆接触角测量仪是一种专门用于测量半导体晶圆表面接触角的仪器。相比传统的接触角测量仪,它具有以下优势:1、适用于大尺寸晶圆:晶圆接触角测量仪通常具有较大的测试平台,能够容纳大尺寸的晶圆,适用于半导体制造中常用的6英寸、8英寸、12英寸等尺寸的晶圆。2、高精度测量:晶圆接触角测量仪使用高精度的光学传感器和计算算法,可以在非常小的范围内准确测量晶圆表面的接触角,具有高度的重复性和准确性。多功能性:晶圆接触角测量仪通常具有多种测试模式,可以测量不同类型的表面处理,如刻蚀、沉积、清洗等过程对接触角的影响,可以提供更全面的表面质量评估。3、高效性:晶圆接触角测量仪可以在非常短的时间内完成多个晶圆的测量,提高了实验的效率。4、自动化程度高:晶圆接触角测量仪通常具有自动化控制和数据处理系统,可以自动完成晶圆的定位、测量和数据处理,减少了实验人员的工作量和误差。综上所述,晶圆接触角测量仪具有高效、高精度、多功能等优点,在半导体晶圆表面处理和质量控制中具有广泛的应用前景。

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    用真空镀膜防止光学仪器生雾:[font=&]镀聚全氟乙丙烯,这是一种惰性氟塑料:[/font][font=&]化学稳定性高;[/font][font=&]且具有耐热、耐寒、耐腐蚀性;[/font][font=&]与玻璃和金属都有较强的结合力,具有较好的防霉防雾性能。[/font][font=&]不仅能在一般玻璃表面化学镀膜,氟化膜层形成保护膜,而且可以在磷酸盐玻璃表面成膜。[/font]

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    真空镀膜陶瓷/氧化铝陶瓷/精密陶瓷垫片/带孔陶瓷垫19.5×10×5孔×5厚3.0氧化铝陶瓷Al203作为应用最广泛的先进陶瓷材料,氧化铝陶瓷具有优异的电绝缘性、耐腐蚀性、耐磨损性和良好的机械性能,被广泛应用于电子医疗行业及机械工业零件等。材料性能表:氧化铝(A-95)氧化铝(A-99)密度:≥3.63 g/cm3≥3.9 g/cm3颜色:白色象牙白导热率:18 W/m..K27 W/m..K抗弯强度:≥280 Mpa≥360 Mpa体电阻率:>10∧14 Ω.cm>10∧14 Ω.cm热膨胀系数:7.2 (10-6/℃)8(10-6/℃)最高使用温度:1200℃1200℃0.1:材料解决方案电绝缘,热膨胀,硬度,导热系数等。对于任何其他要求,我们建议将材料与加工各种材料的经验相匹配。0.2:支持产品开发从提供样品到批量生产,我们将为您提供服务,我们还可以提供有关设计,交货日期的建议,以使客户的产品更好。0.3:快速交货我们内部拥有各种各样的材料和工具,这使得我们能够快速加工并交付给您。0.4:质量保证XMCERA的技能是通过严格的质量保证来控制和建立的,基于ISO9001:2015,我们承诺提供满足客户需求的产品。
  • 钨丝、钨舟(真空镀膜靶材)
    金属钨具有高熔点和低蒸汽压的特点,在1650°C时仍具有很好的机械性能;耐腐蚀性也很强。所以,钨是真空镀膜领域使用最为普遍的金属材料之一。欢迎登陆海德公司网站或来电获取详细信息。 性能参数:Chemical symbol:WAtomic Radius:2.02?Atomic Volume, cm3/mol:9.53Covalent Radius:1.3 ?Crystal Structure: Body centered cubeNumber of Electron (with no charge): 74Atomic Number of Protons:74Number of Neutrons (most common/stable nuclide):110Ionic Radius: 0.62?Cross Section:18.5 barns ± 0.5 钨丝 我们提供的钨丝纯度在99.90%以上,3种直径可选。 订购信息:货号产品名称规格73800钨丝Tungsten Wire, 0.020" (0.51mm) Diameter 20 ft73801钨丝Tungsten Wire, 0.020" (0.51mm) Diameter 100 ft73802钨丝Tungsten Wire, 0.025" (0.64mm) Diameter 20ft73803钨丝Tungsten Wire, 0.025" (0.64mm) Diameter 100ft73804钨丝Tungsten Wire, 0.009" (0.25mm) Diameter 20ft73805钨丝Tungsten Wire, 0.009" (0.25mm) Diameter100ft此外我们还提供各种尺寸的钨舟。适用于光阑清洁。真空蒸镀等领域厚度: 0.05mm (0.002") ,总长: 75mm (3") 舟槽尺寸: 12mm(1.2") long x 5mm (3/16") wide x 1mm deep.具体规格参数请直接联系我们
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