三靶射频磁控溅射镀膜仪

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三靶射频磁控溅射镀膜仪相关的厂商

  • 中山市枭射频科技有限公司
    公司坐落在美丽的、盛产“神湾菠萝”的中山市神湾镇，西临西江，东接珠三角环线高速，环境优美、交通便利；中山市枭射频科技有限公司是一家专业从事射频设备研发和销售的创新科技企业。公司重点专注于射频等离子清洗机(13.56MHz\27.12MHz\40.68MHz)、射频热封仪、射频美容仪、射频感应加热机、射频等离子源等研究发展方向，将秉持创新、专业、专注的企业精神，始终贯彻服务一流、稳定品质、超高性价比的发展战略和经营理念，立志做射频领域专业的设备供应商和服务商，期待您我的携手，谱写完美合作的篇章。
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  • 利方达集团深圳公司
    深圳市利方达科技有限公司由留德博士钱锋创建于2002年,是集真空产品设计生产及开发的技工贸一体企业。我们的业务包括标准产品的生产、新品开发和生产、生产方案解决、国外知名产品的代理销售等。 公司集中了一批多年从事研发的专业技术人员和经验丰富的市场销售人员。他们曾经在外资企业、国内知名企业或国家重点研究机构工作多年，具备过硬的技术本领及丰富的市场经验。主要业务有： 1、 专业代理美国Essential Macleod 薄膜设计及分析软件。2、 专业销售美国安斯超科学公司（Angstrom sciences, Inc）的圆形磁控溅射阴极、矩形磁控溅射阴极、各种靶材、溅射阴极翻新。3、 专业代理美国原瓦里安（VARIAN）现Agilent公司的氦质谱捡漏仪，分子泵，扩散泵，离子泵以及真空阀门、法兰等 。4、 专业销售代理美国英福康（INFICON）公司的卤素检漏仪、氦检漏仪、真空计、真空分析器。5、 专业销售美国AE公司直流、射频及质量流量计。6、 美国泰利玛科公司(Telemark)的电子枪和光学膜厚控制仪等 7、 美国Extorr公司的四极质谱等产品。我们的业务专长于真空及镀膜设备领域的代理销售业务，致力于把世界上最先进的技术和设备引进中国.凭借多年的真空专业技术积累, 雄厚的技术力量和真诚的服务, 我们得到了业界的众口称赞,拥有了大量的客户群体,产品广泛用于真空,光学、电子、半导体、平板显示等相关领域.
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  • 深圳纳恩科技有限公司
    纳恩科技总部位于深圳市南山区，在香港设有研发分公司，公司专注于等离子材料表面处理和真空镀膜技术研发，目前主要产品包括真空等离子磁控溅射镀膜设备，离子溅射仪，等离子刻蚀设备，等离子表面处理设备，辉光放电仪等。 公司核心研发团队来源于香港大学等离子实验室，香港理工大学材料工程学院和美国佐治亚理工学院的微电子学院。团队成员有5年在硅谷开发先进半导体设备的经验，我们意识到许多现有的半导体等离子处理系统仍在使用十几年前的技术，并且价格昂贵。因此，我们决定将针对半导体行业和核研究开发的最先进的等离子技术引入经济实惠的等离子设备中。 自成立以来，纳恩科技围绕等离子处理系统所需核心电源及底层算法进行技术布局，不断拓展自主设计能力。目前已完成以MCU，ARM为核心的射频芯片开发平台，实现了芯片的结构化和模块化开发。 具有高精度模拟、网络阻抗匹配、功率驱动、功率器件、射频和底层核心算法的设计能力，可针对不同细分领域等离子处理系统需求，快速做出底层硬件组合，提高等离子系统的稳定性和效率。 纳恩科技成立至今已为清华大学、香港大学、华为2012实验室、北京大学、中国科学院、南方科技大学、美国康奈尔大学、宾夕法尼亚大学、等中外众多知名企业、大学研究机构提供过等离子处理设备和解决方案，并专注于发展面向未来新材料市场的应用技术，助力客户开发出激动人心的新工艺!
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三靶射频磁控溅射镀膜仪相关的仪器

  • 三靶射频磁控溅射镀膜仪 400-860-5168转2205
    VTC-3RF是一款小型台式3靶等离子溅射仪(射频磁控型)，配有三个1英寸的磁控等离子溅射头和射频（RF）等离子电源，此款设备主要用于制作非导电薄膜，特别是一些氧化物薄膜。对于新型非导电薄膜的探索，它是一款廉价并且高效的实验帮手。技术参数输入电源220VAC 50/60Hz, 单相800W (包括真空泵）等离子源配有一13.5MHz,100W的射频电源（采用手动匹配）可选配300W射频电源（自动匹配）注意：100W手动调节的RF（射频）电源价格较低，但是每一次对于不同的靶材，都需要手动设置参数才能产生等离子体，比较耗费时间。300W自动匹配的RF（射频）电源，价格较昂贵，但比较节约时间（点击图片查看详细资料）磁控溅射头三个1英寸磁控溅射头（带有水冷夹层），采用快速接头与真空腔体相连接靶材尺寸: 直径为25.4mm,最大厚度3mm一个快速挡板安装在法兰上溅射头所需冷却水：流速10L/min（仪器中配有一台流速为16L/min的循环水冷机） 真空腔体真空腔体：256mm OD x 250mm ID x 276mm H，采用高纯石英制作密封法兰:直径为274mm . 采用金属铝制作，采用硅胶密封圈密封一个不锈钢网罩住整个石英腔体，以屏蔽等离子体（如下图）真空度：1.0×10-2 Torr （采用双极旋片真空泵）,5×10-5 torr （采涡旋分子泵） 载样台载样台可旋转（为了制膜更加均匀）并可加热载样台尺寸：直径50mm （最大可放置2英寸的基片）旋转速度：0 - 20 rpm样品台的最高加热温度为700℃(短期使用，恒温不超过1小时)，长期使用温度500℃控温精度+/- 10℃真空泵我公司有多种真空泵可选，请点击图片，或是致电我公司销售薄膜测厚仪（可选） 一个精密的石英振动薄膜测厚仪安装在仪器上，可实时监测薄膜的厚度，分辨率为0.10 ? LED显示屏显示，同时也输入所制作薄膜的相关数据 质保和质量认证一年质保期，终生维护CE认证外形尺寸 使用注意事项这款1英寸的射频溅射镀膜仪主要是用于在单晶基片上制备氧化物膜，所以并不需要太高的真空度为了较好地排出真空腔体中的氧气，建议用5%H2+95 %N2对真空腔体清洗2-3次，可有效减少真空腔体中的氧含量请用纯度大于5N的Ar来进行等离子溅射，甚至5N的Ar中也含有10- 100 ppm的氧和水，所以建议将钢瓶中的惰性气体通过净化系统过后，再导入到真空腔体内
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    厂商： 合肥科晶材料技术有限公司
    品牌： 合肥科晶
    型号： VTC-3RF
    价格： 5万 - 10万元
  • 300W射频等离子磁控溅射镀膜仪--VTC-2RF 400-860-5168转2205
    VTC-2RF是一款小型的射频（RF）等离子体磁控溅射镀膜仪系统，系统中包含了所有所需的配件，如300W（13.5MHz）的RF电源、2"的磁控溅射头、石英真空腔体、真空泵和温度控制器等。对于制作一些金属薄膜及非金属薄膜，它是一款物美价廉的实验帮手。我们用此设备得到择优取向的ZnO薄膜 技术参数输入电源220VAC 50/60Hz, 单相800W (包括真空泵）等离子源一个300W，13.5MHz的射频电源安装在移动柜内(点击图片查看详细资料）磁控溅射头一个 2英寸磁控溅射头（带有水冷夹层），采用快速接头与真空腔体相连接靶材尺寸: 直径为50mm,最大厚度6.35mm一个快速挡板安装在法兰上（手动操作，见图左3）溅射头所需冷却水：流速10L/min（仪器中配有一台流速为16L/min的循环水冷机）同时可选配1英寸溅射头真空腔体真空腔体：160 mm OD x 150 mm ID x 250mm H，采用高纯石英制作密封法兰:直径为165 mm . 采用金属铝制作，采用硅胶密封圈密封一个不锈钢网罩住整个石英腔体，以屏蔽等离子体真空度：10-3 Torr （采用双极旋片真空泵） 10-5 torr （采涡旋分子泵）载样台载样台可旋转（为了制膜更加均匀）并可加热载样台尺寸：直径50mm （最大可放置2英寸的基片）旋转速度：1 - 20 rpm样品的最高加热温度为700℃，(短期使用，恒温不超过1小时)，长期使用温度500℃控温精度+/- 10℃真空泵我公司有多种真空泵可选，请点击图片，或是致电我公司销售薄膜测厚仪一个精密的石英振动薄膜测厚仪安装在仪器上，可实时监控薄膜的厚度，分辨率为0.10 ? LED显示屏显示，同时也输入所制作薄膜的相关数据外形尺寸 质保和质量认证一年质保期，终生维护CE认证使用注意事项这款2英寸的射频溅射镀膜仪主要是用于在单晶基片上制备氧化物膜，所以并不需要太高的真空度为了较好地排出真空腔体中的氧气，建议用5%H2+95 %N2对真空腔体清洗2-3次，可有效减少真空腔体中的氧含量请用纯度大于5N的Ar来进行等离子溅射，甚至5N的Ar中也含有10- 100 ppm的氧和水，所以建议将钢瓶中的惰性气体通过净化系统过后，再导入到真空腔体内
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    厂商： 合肥科晶材料技术有限公司
    品牌： 合肥科晶
    型号： VTC-2RF
    价格： 5万 - 10万元
  • 5靶头等离子射频磁控溅射仪 400-860-5168转2205
    VTC-5RF是一款5靶头的等离子射频磁控溅射仪，针对于高通量MGI（材料基因组计划）薄膜的研究。特别适合用于探索固态电解质材料，通过5种元素，按16种不同配比组合。 技术参数概念5个溅射头安装5种不同材料通过不同的溅射时间，5种材料可以溅射出不同组分的产物，选择5个等离子射频电源，可在同一时间溅射5种材料真空腔体中安装有旋转样品台，可以制作16个样品电源单相220 VAC, 50 / 60 Hz射频电源一个13.5MHz,300W自动匹配的射频电源安装在仪器上，并与靶头相连接一个旋转开关可一次激活一个溅射头。溅射头可以在真空或等离子体环境中自动切换可选购多个射频电源，同一时间溅射多个靶材。所有的溅射参数，都可由电脑设置直流电源（可选）可选购直流电源，来溅射金属靶材可配置5个直流或射频电源，来同时溅射5中靶材磁控溅射头 5个1英寸的磁控溅射头，带有水冷夹层可在本公司额外购买射频线电动挡板安装在溅射腔体内设备中配有一循环水冷机，水流量为10L/min (1) (2) (3) (4)溅射靶材所要求靶材尺寸：直径为25.4mm,最大厚度3mm溅射距离: 50 – 80 mm（可调）溅射角度: 0 – 25°（可调）配有铜靶和 Al2O3 靶，用于样品测试用可在本公司购买各种靶材实验时，需要将靶材和铜片粘合，可通过导电银浆粘合（可在本公司购买导电银浆）真空腔体 真空腔体采用304不锈钢制作腔体内部尺寸: 470mm L×445mm D×522mm H (~ 105 L)铰链式腔门，直径为Φ380mm,上面安装有Φ150mm的玻璃窗口真空度: 4E-5 torr （采用分子泵）样品台直径为150mm的样品台，上面覆盖一旋转台，带有10mm的孔洞，每次露出一个样品接收溅射成膜。样品台尺寸：Φ150mm,可通过程序控制来旋转，可制作16种不同组分的薄膜样品台可以加热，最高温度可达600℃真空泵设备中配有一小型涡旋分子泵真空泵接口为KF40石英振荡测厚仪（可选）可选购精密石英振荡测厚仪，安装在真空腔体内，实时测量薄膜的厚度，精确度为0.1 ?（需水冷）净重60kg质量认证CE认证质保一年质保期，终生维护应用注意事项此款设备设置主要是在单晶基片上制作氧化物薄膜，所以不需要高真空的环境所用气瓶上必须安装减压阀（可在本公司购买），所用Ar气纯度为5N为了得到较好质量的薄膜，可以对基片进行清洗用超声波清洗机，用丙酮或乙醇作为清洗介质，清除基片表面的油脂，然后在N2气或真空环境下对基片干燥等离子清洗机，可使基片表面粗糙化，改变基片表面化学活性，清除表面污染物可在基片表面镀上缓冲层，如Cr, Ti, Mo, Ta,，可改善金属或合金膜的粘附性溅射一些非导电靶材，其靶材背后必须附上铜垫片本公司实验室成功地在Al2O3基片上成功生长出ZnO外延膜因为溅射头连接着高电压，所以用户在放入样品或更换靶材时，必须切断电源不可用自来水作为冷却水，以防水垢堵塞水管。应该用等离子水，或专用冷却介质
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    厂商： 合肥科晶材料技术有限公司
    品牌： 合肥科晶
    型号： VTC-5RF(针对于MGI薄膜研究)
    价格： 5万 - 10万元
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三靶射频磁控溅射镀膜仪相关的资讯

  • 260万！东南大学计划采购磁控溅射镀膜仪
    一、项目基本情况项目编号：0664-2260SUMEC787D项目名称：东南大学微纳系统国际创新中心磁控溅射镀膜仪采购预算金额：260.0000000 万元（人民币）最高限价（如有）：260.0000000 万元（人民币）采购需求：东南大学微纳系统国际创新中心采购磁控溅射镀膜仪 一套本项目接受进口产品。合同履行期限：合同签约后12个月到货安装调试合格。本项目( 不接受 )联合体投标。二、申请人的资格要求：1.满足《中华人民共和国政府采购法》第二十二条规定；2.落实政府采购政策需满足的资格要求：本项目若符合扶持福利企业、促进残疾人就业、支持中小微企业、支持监狱和戒毒企业等政策， 将落实相关政策。3.本项目的特定资格要求：（1）供应商必须是所投产品的制造商或代理商，若投标人不是投标产品制造商的，投标人必须具有下列授权文件之一（本条只适用于进口产品）：a.供应商必须提供制造商出具的授权函正本； b.制造商的国内全资子公司出具的授权函正本； c.制造商对授权的区域代理商出具的授权函复印件及该区域代理商出具的授权函正本； d.投标人取得的产品代理证书复印件(正本备查)。4.拒绝下述供应商参加本次采购活动：（1）供应商单位负责人为同一人或者存在直接控股、管理关系的不同供应商，不得参加同一合同项下的政府采购活动。（2）凡为采购项目提供整体设计、规范编制或者项目管理、监理、检测等服务的供应商，不得再参加本项目的采购活动。（3）供应商被“信用中国”网站（www.creditchina.gov.cn）、“中国政府采购网"(www.ccgp.gov.cn)列入失信被执行人、税收违法黑名单、政府采购严重违法失信行为记录名单。三、获取招标文件时间：2023年01月05日 至 2023年01月11日，每天上午9:00至11:00，下午14:00至17:00。（北京时间，法定节假日除外）地点：线上方式：在线获取售价：￥600.0 元，本公告包含的招标文件售价总和四、提交投标文件截止时间、开标时间和地点提交投标文件截止时间：2023年01月29日 09点30分（北京时间）开标时间：2023年01月29日 09点30分（北京时间）地点：南京市长江路198号苏美达大厦辅楼303会议室,五、公告期限自本公告发布之日起5个工作日。六、其他补充事宜申请人的资格要求：1、满足《中华人民共和国政府采购法》第二十二条规定：（1）具有独立承担民事责任的能力（提供法人或者其他组织的营业执照，自然人的身份证明）；（2）具有良好的商业信誉和健全的财务会计制度（提供参加本次政府采购活动前半年内（至少一个月）的会计报表或者上一年度的财务审计报告，成立不足一年的提供开标前六个月内的银行资信证明原件。）；（3）具有履行合同所必需的设备和专业技术能力（根据项目需求提供履行合同所必需的设备和专业技术能力的证明材料）； （4）有依法缴纳税收和社会保障资金的良好记录（提供参加本次政府采购活动前半年内（至少一个月）依法缴纳税收和社会保障资金的相关材料）；（5）参加政府采购活动前三年内，在经营活动中没有重大违法记录（提供参加本次政府采购活动前3年内在经营活动中没有重大违法记录的书面声明）（格式见后附件）。（6）法律、行政法规规定的其他条件。2、凭以下材料获取：（1）获取采购文件材料：1、营业执照【复印件加盖公章，扫描件】2、介绍信或者法定代表人授权书【原件加盖公章，扫描件，开具日期不得早于公告日期】3、委托代理人身份证【复印件加盖公章，扫描件】4、采购文件获取登记表word版【详见招标公告附件】（2）凡有意参加本次采购活动的供应商必须提供第（1）条规定证件登记并获取，不按规定获取的视为获取失败。3、我司提供了在线获取采购文件服务，操作流程如下：（1）、用微信关注我司公众号“苏美达达天下”。（2）、进入公众号-“在线服务”-“在线购标”。（3）、输入本项目的项目编号，举例：0664-2260SUMEC787D，点击查询。添加您所要获取的采购文件到购物车，输入投标单位名称、领购人信息以及发票信息，提交订单并确认微信支付，支付完成后将报名材料扫描件和登记表word版一并发至采购代理机构联系人：焦立阳，邮箱：jiaoly_work@163.com 即可，我们将会把采购文件电子版发送到领购人的邮箱。注意事项：（1）确保领购人邮箱真实准确无误，电子版采购文件将发送到此邮箱。（2）目前标书费发票支持开标现场领取或者顺丰到付。（3）“苏美达达天下”付款平台填写的投标单位名称必须与开票信息一致。如不一致投标人自行承担后果。请认真填写领购人信息及发票信息。（4）非采购代理机构或平台公司原因，发票一经开具不予退换。4、疫情防控期间注意事项（本项目采取在线流程）：在线流程：因疫情原因，本项目进行线上开标，请供应商尽量提前准备投标文件，以便及时送达代理机构指定的地点。供应商按照不见面开标通知（附件1）的要求参加开标会议。如因投标文件未及时送至代理机构造成的后果由供应商自负。七、对本次招标提出询问，请按以下方式联系。1.采购人信息名称：东南大学地址：南京市玄武区四牌楼2号联系方式：技术咨询：微纳系统国际创新中心：贺老师 电话：025-83792632 分机号8806； 实验室与设备管理处：刘加彬 电话：025-83792693。2.采购代理机构信息名称：苏美达国际技术贸易有限公司地址：南京市长江路198号苏美达大厦联系方式：项目联系人：杨 扬、焦立阳 电话：025-84532455、025-845324523.项目联系方式项目联系人：杨 扬、焦立阳电话：025-84532455、025-84532452
    时间： 2023-01-06
    作者： 情绪波动
  • 240万！成都大学附属医院红外光谱仪、磁控溅射镀膜机、X-射线衍射仪采购项目
    项目编号：N5101012023000011项目名称：红外光谱仪、磁控溅射镀膜机、X-射线衍射仪采购项目采购方式：公开招标预算金额：2,400,000.00元采购需求：详见采购需求附件合同履行期限：采购包1：自合同签订生效后起10日内采购包2：自合同签订生效后起10日内采购包3：自合同签订生效后起10日内本项目是否接受联合体投标：采购包1：不接受联合体投标采购包2：不接受联合体投标采购包3：不接受联合体投标8a69c98f85909e000185957d38207018.docx
    时间： 2023-01-09
    作者： dahua1981
  • 超亿采购中磁控溅射占主流——半导体仪器设备中标市场盘点系列之PVD篇
    p style="text-align: justify text-indent: 2em "span style="text-indent: 28px "薄膜沉积是集成电路制造过程中必不可少的环节，传统的薄膜沉积工艺主要有物理气相沉积（/spanspan style="text-indent: 28px "PVD/spanspan style="text-indent: 28px "）、化学气相沉积（/spanspan style="text-indent: 28px "CVD/spanspan style="text-indent: 28px "）等气相沉积工艺。物理气相沉积/spanspan style="text-indent: 28px "(Physical Vapour Deposition/spanspan style="text-indent: 28px "，/spanspan style="text-indent: 28px "PVD)/spanspan style="text-indent: 28px "技术是在真空条件下，采用物理方法，将材料源/spanspan style="text-indent: 28px "——/spanspan style="text-indent: 28px "固体或液体表面气化成气态原子、分子或部分电离成离子，并通过低压气体（或等离子体）过程，在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术。/span/pp style="text-indent: 28px text-align: justify "物理气相沉积技术工艺过程简单，对环境改善，无污染，耗材少，成膜均匀致密，与基体的结合力强。该技术广泛应用于航空航天、电子、光学、机械、建筑、轻工、冶金、材料等领域，可制备具有耐磨、耐腐蚀、装饰、导电、绝缘、光导、压电、磁性、润滑、超导等特性的膜层。/pp style="text-align: justify text-indent: 2em "仪器信息网近期特对一年内的spanPVD/span设备的中标讯息整理分析，供广大仪器用户参考。span style="color: rgb(127, 127, 127) font-size: 14px "（注：本文搜集信息全部来源于网络公开招投标平台，不完全统计分析仅供读者参考。）/span/pp style="text-align: center text-indent: 0em "span style="text-align: center "img style="max-width: 100% max-height: 100% width: 400px height: 240px " src="https://img1.17img.cn/17img/images/202012/uepic/a2ad4457-7ade-41a5-b0c8-6b0bfc0f3001.jpg" title="1.png" alt="1.png" width="400" height="240" border="0" vspace="0"/ /span/pp style="text-align: center "strongspan style="font-family:' 微软雅黑' ,sans-serif color:#444444"各月中标量占比/span/strong/pp style="text-indent: 28px text-align: justify "span2019/span年span10/span月至span2020/span年span9/span月，根据统计数据，spanPVD/span设备的总中标为span218/span台，涉及金额上亿元。span2019/span年span10/span月至span12/span月，平均中标量约span25/span台每月。span2020/span上半年，由于疫情影响，span1/span月至span4/span月中标市场持续低迷，平均中标量约span5/span台每月，其中二月份无成交量。随着国内疫情稳定以及企业复产复工和高校复学的逐步推进，spanPVD/span设备中标市场活力回升，从二月份到七月份中标量不断增长，其中span7/span月spanPVD/span中标量达span27/span台。第三季度的spanPVD/span设备采购基本恢复正常，平均中标量约span24/span台每月。/pp style="text-align:center"img style="max-width: 100% max-height: 100% width: 400px height: 252px " src="https://img1.17img.cn/17img/images/202012/uepic/98f0aae5-cd0b-4c37-a638-6e07e56be8b6.jpg" title="2.png" alt="2.png" width="400" height="252" border="0" vspace="0"//pp style="text-align: center "strongspan style="font-family:' 微软雅黑' ,sans-serif color:#444444"采购单位性质分布/span/strong/pp style="text-indent: 28px text-align: justify "从spanPVD/span设备的招标采购单位来看，高校是采购的主力军，采购量占比高达span68%/span，而企业和科研院所的采购量分别占比span12%/span和span19%/span。值得注意的是，企业和科研院所采购设备的单价较高，集中于高端设备，高校采购低端设备比例略高。企业方面的采购单位主要为电子产业，高校方面的采购单位以大学为主。/pp style="text-align:center"img style="max-width: 100% max-height: 100% width: 400px height: 265px " src="https://img1.17img.cn/17img/images/202012/uepic/16cf7cf8-1078-4811-92cb-06cb57740068.jpg" title="3.png" alt="3.png" width="400" height="265" border="0" vspace="0"//pp style="text-align: center "strongspan style="font-family:' 微软雅黑' ,sans-serif color:#444444"招标单位地区分布/span/strong/pp style="text-indent: 28px text-align: justify "本次盘点，招标单位地区分布共涉及span25/span个省份、自治区及直辖市。广东、北京、浙江、江苏和湖北为spanPVD/span设备采购排名前span5/span的地区，其中广东的采购量最大，达span32/span台。在这些地区中，上海、浙江和江苏的spanPVD/span设备采购以高校为主力，北京以科研院所和高校采购为主力，只有湖北以企业采购为主。这主要是因为湖北武汉聚集了国内一批半导体企业，如武汉天马微电子有限公司和湖北长江新型显示产业创新中心有限公司，致力于打造“中国光谷”。/pp style="text-align:center"img style="max-width: 100% max-height: 100% width: 400px height: 233px " src="https://img1.17img.cn/17img/images/202012/uepic/35dfbb36-d83c-4bcf-894d-3a587cdd8da8.jpg" title="4.png" alt="4.png" width="400" height="233" border="0" vspace="0"//pp style="text-align: center "strongspan style="font-family:' 微软雅黑' ,sans-serif color:#444444"不同类型spanPVD/span设备占比/span/strong/pp style="text-indent: 28px text-align: justify "spanPVD/span设备种类繁多，包含了磁控溅射、蒸发镀膜、真空镀膜等类型。根据搜集到的中标数据可知，磁控溅射占据了中标spanPVD/span设备的主流、高达span72%/span的spanPVD/span设备采购为磁控溅射。一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多种材料，且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点。上世纪span 70 /span年代发展起来的磁控溅射法更是实现了高速、低温、低损伤。因为是在低气压下进行高速溅射，必须有效地提高气体的离化率。磁控溅射通过在靶阴极表面引入磁场，利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率。/pp style="text-indent: 28px text-align: justify "本次spanPVD/span设备中标盘点，涉及品牌有泰科诺、spanKurt J. Lesker/span、创世威纳、spanMoorfield/span、spanLeica/span、合肥科晶、spanVEECO Instruments Inc./span、spanTeer Coatings Ltd./span、spanQUORUM/span、span style="font-size:15px"Syskey/spanspan style="font-size:15px"、spanApplied Materials ,lnc./span、spanULVACInc/span、株式会社昭和真空/span等。/pp style="text-indent: 29px text-align: justify "span style="font-size:15px"其中，各品牌比较受欢迎的产品型号有：/span/pp style="text-align: center text-indent: 0em "img style="max-width:100% max-height:100% " src="https://img1.17img.cn/17img/images/202012/uepic/08db5967-4529-4f60-88a7-518f97a384c8.jpg" title="5.jpg" alt="5.jpg"//pp style="text-align: center text-indent: 0em "strongspana href="https://www.instrument.com.cn/netshow/sh102205/C242800.htm"span style="font-size:15px"span三靶射频磁控溅射镀膜仪/span/span/a/span/strong/pp style="text-indent: 29px text-align: justify "span style="font-size:15px"这是一款小型台式span3/span靶等离子溅射仪span(/span射频磁控型span)/span，配有三个span1/span英寸的磁控等离子溅射头和射频（spanRF/span）等离子电源，此款设备主要用于制作非导电薄膜，特别是一些氧化物薄膜。对于新型非导电薄膜的探索，它是一款廉价并且高效的实验帮手。这款span1/span英寸的射频溅射镀膜仪主要是用于在单晶基片上制备氧化物膜，所以并不需要太高的真空度。/span/pp style="text-align: center text-indent: 0em "img style="max-width:100% max-height:100% " src="https://img1.17img.cn/17img/images/202012/uepic/c7c1521d-c5b9-4668-b178-66ac2ce7cd98.jpg" title="6.jpg" alt="6.jpg"//pp style="text-align: center text-indent: 0em "strongspana href="https://www.instrument.com.cn/netshow/sh101374/C191053.htm"span style="font-size:15px"span双靶磁控溅射仪/span/span/a/span/strong/pp style="text-indent: 29px text-align: justify "span style="font-size:15px" /spanspan style="font-size: 15px "双靶磁控溅射仪是沈阳科晶自主新研制开发的一款高真空镀膜设备，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。/spanspan style="font-size: 15px "VTC-600-2HD/spanspan style="font-size: 15px "双靶磁控溅射仪配备有两个靶枪，一个弱磁靶用于非导电材料的溅射镀膜，一个强磁靶用于铁磁性材料的溅射镀膜。与同类设备相比，且具有体积小便于操作的优点，且可使用的材料范围广，是一款实验室制备各类材料薄膜的理想设备。/span/pp style="text-indent: 0em text-align: center "img style="max-width:100% max-height:100% " src="https://img1.17img.cn/17img/images/202012/uepic/2ed2b9b6-bb58-4779-ab5e-aa97cdaaaa2b.jpg" title="7.jpg" alt="7.jpg"//pp style="text-align: center text-indent: 0em "strongspana href="https://www.instrument.com.cn/netshow/SH104149/C283599.htm"span style="font-size:15px"span科特莱思科热阻蒸发镀膜系统/span/span/a/span/strong/pp style="text-indent: 29px text-align: justify "span style="font-size:15px"这款仪器由预真空进样室（可选）前开门蒸发腔体、冷凝泵和干泵、多个热阻蒸发源或spanOLED/span低温蒸发源、span6”/span基片、基片旋转、基片偏压（可选）、离子源清洗基片（可选）、基片加热span1000/span度span(/span可选span)/span等部分构成。晶振沉积速率及膜厚控制可选择系统手动或自动控制等方式，能够沉积金属、半导体和绝缘材料，还可沉积多层膜及合金薄膜。/spanspan style="font-size: 15px " /span/pp style="text-indent: 29px text-align: justify "span style="font-size:15px"点击此处进入/spanspana href="https://www.instrument.com.cn/list/sort/241.shtml"span style="font-size:15px"span【span半导体行业专用仪器span】/span/span/span/span/a/spanspan style="font-size:15px"专场，获取更多产品信息。/span/pp style="text-indent: 29px text-align: center "span style="font-size:15px"更多资讯请扫描下方二维码，关注【材料说】/span/pp style="text-indent: 28px text-align: center "img style="max-width:100% max-height:100% " src="https://img1.17img.cn/17img/images/202012/uepic/2a630f7c-a2f9-4376-bd8c-911592840aa9.jpg" title="材料说.jpg" alt="材料说.jpg"//p
    时间： 2020-12-23
    作者： KPC
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