溅射台

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溅射台相关的厂商

  • 丹东辽东射线仪器有限公司(原丹东射线仪器集团股份有限公司分析仪器厂)是设计生产射线仪器的专业公司,是射线仪器行业的骨干企业,是国内外行业中享有盛名的企业之一。公司拥有技术力量雄厚的科技队伍,及一批丰富经验的生产骨干,具有国家标准试验设备和先进生产程序。产品通过ISO9001国际质量体系认证。 辽东射线仪器有限公司设计生产的X射线探伤机、X射线分析仪器等射线产品具有较高的科学性和独特性。现已生产的便携式X射线探伤机 、移动式X射线探伤机具有国内先进水平。是国内最早生产X射线晶体定向仪、X射线晶体分析仪的集科研、生产为一体的专业公司。我公司生产的移动式探伤机为国内的烟花爆竹生产新添了一项检验方式,具有性能可靠、使用方便、清晰度高等特点。本公司与北京有色金属研究院、有研硅谷、北京京联发数控科技有限公司合作设计生产的单晶滚磨定向装置,填补了国际产品的空白,并以角度的精确性、定向的准确性,提高了产品生产效率和科学效果;公司独立开发的线切割专用定向粘接系统填补了国内空白,解决了各种晶体在加工精度上的难点,受到了中外用户的好评。 长期以来,丹东辽东射线仪器有限公司精心致力于射线仪器的开发研究,从管理的高质量、技术的高标准、产品的高精度、企业的高信誉入手,使公司产品不但在国内享有盛名和较高的知名度,并已出口日本、德国、美国、韩国、朝鲜、台湾等国家和地区 。目前我公司生产的定向仪和滚磨定向装置在国内半导体行业的市场占有率已达到90%以上,深得国内外合作科研单位、高等院校、生产企业得赞扬和首肯。同时,我公司真诚希望与各科研单位、各射线行业成员企业及广大用户互通信息、团结协作,致力于射线仪器地技术开发,使产品精益求精,以高效创新、诚信务实地管理为宗旨,将丹东射线基地建设的更加强大、繁荣。
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  • 400-860-5168转4536
    北京科瑞泰德科贸有限公司,是中国一家专注于研发、生产、销售X射线衍射仪、X射线应力仪,溅射仪及扫描电镜的高新技术企业。公司集X射线衍射仪、X射线应力仪,溅射仪,镀膜仪,扫描电镜,维护改造四位一体,拥有一支专业的工程师团队,并将溅射仪、镀膜仪系列产品的质量和性能提高到国际一流的水准。秉着为客户创造价值为核心理念,把客户的需求作为我们研发的起点。在过去的10多年间,在中国区已销售、服务超过1000位商业客户,累积销售近千台溅射仪、镀膜仪和扫描电镜等配套服务。 自主开发或合作开发的产品有: 1.X射线衍射仪、X射线应力仪 2.小型金离子溅射仪 3.热蒸发镀膜机 4.ELEGRE X射线能谱仪(EDS) 5.扫描电子显微镜图像系统改造 6.扫描电声显微镜 7.蒸碳仪 主要提供以下服务: 生产研发溅射仪,蒸碳仪。 维修或改造所有类型任何品牌的扫描电子显微镜(SEM)、数字图像和Si(Li)探测器。提供国产化能谱仪及改造X射线能谱仪等。
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  • 迈射科技集团是基于多学科的科技创新型公司,我们通过将交叉科学、工程与专业应用知识的深入结合,为全球能源、电力及相关重工业设计、制造和供应一系列创新产品。 凭借在工业领域二十多年的的持续创新以及全球销售和技术支持体系,迈射科技与世界各地的客户共同协作共创价值。从销售、培训、技术支持和产品开发,客户的需求是我们一切工作的核心。 未来几年全球电力与能源行业将面临前所未有的挑战与变革。结合我们创新的交叉学科研发与应用解决能力,迈射科技将持续提供优质产品和解决方案,帮助用户迎接当今挑战,并为明天创造更多商机。 作为迈射科技集团旗下子公司,迈射智能科技(上海)有限公司(简称迈射智能科技)提供用于电力设备状态评估与故障诊断的各类创新产品与工程技术服务,并长期服务于国内各大电力公司、电力设备生产商及大型工业用户,是从事电力设备综合检测与评估的综合型科技服务商。 迈射智能科技旗下拥有绝缘系统材料检测、工程技术服务、设备现场无损检测与检测、监测类仪器仪表四大业务板块,并结合有限元建模(FEM)分析能力,大大拓展了处理复杂性绝缘系统工程问题的能力,并可针对各类大型企业在电力设备选型、监造、安装调试及运维过程中遇到的问题,提供绝缘系统分析、产品检测、设计优化及运维检测/监测类的综合解决方案。
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溅射台相关的仪器

  • 台式磁控溅射仪 400-860-5168转3281
    该系统可以作为以下功能装置:1,研发级R&D镀膜设备,性能优异2,具备所有研发级别的镀膜要求3,高效的沉积速率,镀膜时间快4, 实验室中培训的最佳工具主要的特点和先进的功能:1, 台式,小型,快速2,全自动化程序控制3,单靶或多靶联合溅射镀膜,多路气体管路4,共聚焦设计,靶枪尺寸:2英寸,3英寸,4英寸,衬底可做到200mm,旋转1-20RPM,以及Load-lock配置5,配置干泵+分子泵,可达高真空,适用高品质薄膜沉积。6, 可做直流溅射,射频溅射,100W射频偏压(用于衬底表面清洗)性能价格比高!!
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  • DISCOVERY 635/785 多耙直流/射频磁控溅射台 丹顿真空的Discovery系列在世界许多著名的研究机构得到广泛的应用,是业内公认的灵活、可靠的磁控溅射系统。从15年前开发以来,该系统已经销售超过100台,在国内销售12台。Discovery系列适合于研发及小批量生产。系统采用独特的共焦溅射结构,能够使用较小的磁控溅射靶枪在较大的面积的工件上得到较好的均匀性(例如:采用传统的垂直溅射方式,为了在6英寸工件上得到±5%的均匀性,需要使用8英寸直径靶枪,而采用共焦溅射方式,则可以采用3英寸磁控溅射靶枪,即可达到同样的均匀性指标)。因此在同样的要求下,采用的靶枪及电源相对较小,所以能够降低设备成本及运行成本,同时,丹顿真空也提供传统的垂直溅射方式系统。Discovery 系列都可以安装多个磁控溅射靶枪,可以实现多种溅射模式,包括直流/射频/脉冲溅射,共溅射,射频偏压溅射;可以实现三级加热,最高加热温度可以达到900 °C;可以配置进样室(单片或多片),最大可以处理的工件直径可以达到 250mm ;系统真空室规格从18英寸(457mm)到 35英寸(890mm)可选;高真空采用分子泵或低温泵获得;可以采用PLC触摸屏控制系统或计算机控制系统。 系统主要配置:※ 多耙直流/射频磁控溅射※ 旋转工作台(可以升级为射频偏压工件台)※ 上溅射或下溅射可选※ 不锈钢真空室,带观察窗
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  • PRO Line PVD 75多功能溅射、电子束和热蒸发沉积平台Kurt J. Lesker Company PRO Line PVD 75 是基于主力 PVD 75 平台的下一代薄膜沉积系统。PVD 75 在全球拥有 400 多台设备,是一款久经考验、坚固耐用且用途广泛的设计。PRO Line PVD 75 建立在原始设计的成功基础上,改进了系统基础压力和抽空时间。技术的腔室设计、具有高级编程功能的行业最佳软件控制系统、自动基板加载以及用于优化薄膜性能的众多功能是这种创新的设计提供的一些关键优势。® 规格室箱形304L不锈钢腔体内部尺寸:15.25“ 宽 x 16.50” 深 x 24“ 高(387.4mm x 419.1mm x 609.6mm)铝,O 形圈密封,铰链,前检修门沉积技术热蒸发最多四艘 4 英寸的单艘船,或六艘 2 英寸的船组件TORUS 磁控溅射源多达 6 个 2 英寸或 3 英寸光源多达 4 个 4 英寸信号源电子束蒸发源4 口袋 8cc8 口袋 12cc6 口袋 20ccLTE10 有机沉积源最多两个 10cc 源沉积方向热蒸发向上TORUS 磁控溅射源向上、向下或侧溅射电子束蒸发向上LTE有机沉积向上底物操作旋转、加热、冷却、偏置、负载锁定兼容电源DC、PDC、RF、MF 和 HIPIMS 电源
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溅射台相关的资讯

  • 灵活多变的溅射、蒸发一体化台式设备——nanoPVD ST15A
    近年来,随着量子材料研究的兴起对薄膜制备方法的需求更加的多样化,而传统的薄膜制备设备往往只有一种薄膜制备功能,制备一个样品就需要先后在不同的设备中进行操作,并且容易对样品的性质造成破坏,也需要更多的科研经费投入。英国Moorfield Nanotechnology公司立足于多种成熟的薄膜制备设备,并长期收集用户的需求并对产品线进行不断的优化丰富,以满足各种个性化的实验需求。针对目前日趋多样化的需求,Moorfield Nanotechnology公司全新推出了台式高精度溅射与热蒸发系统——nanoPVD ST15A。该系统可以集成金属/绝缘体溅射、金属热蒸发、有机物蒸发功能,在同一台设备中可以实现多种制备手段的组合,将薄膜制备带入了新的高度。有别于传统台式系统仅用于制备电极等简单用途,nanoPVD ST15A系统是真正的学术研究级设备,可以制备多种高质量的薄膜样品。体统通过7英寸触摸屏控制,自动化程度高,各种制备方式可以自由切换。用户可以通过灵活的制备手段在在同一台设备中制备不同的薄膜或者是复合薄膜。nanoPVD ST15A外观图设备技术特点☛ 台式设备配置灵活☛ 磁控溅射、热蒸发、有机物蒸发☛ 三种制备手段可灵活组合☛ 可制备金属、有机物、电介质薄膜☛ 多达3个流量计控制过程气体☛ 高精度自动气压控制选件☛ 全自动触屏操作系统☛ 基片大至4英寸☛ 可选基片加热☛ 本底真空5 × 10-7 mbar☛ 可选共溅射(蒸发)功能☛ 可选晶振膜厚标定功能☛ 定义保存多个制备程序☛ 全面的安全性设计☛ 超净间兼容☛ 稳定的性能左:nanoPVD ST15A 双蒸发源与磁控溅射组合,右:系统的样品台与挡板 背景介绍Moorfield Nanotechnology是英国材料科学领域高性能仪器研发公司,成立25年来专注于高质量的薄膜生长与加工技术,拥有雄厚的技术实力,推出的多种高性能设备受到科研与工业领域的广泛好评。Moorfield公司近十年来与曼彻斯特大学诺奖技术团队紧密合作,推出的台式高精度薄膜制备与加工系列产品由于其体积小巧、性能优异、易于操作更是受到很多科研单位的赞誉。这些设备已经进入了欧洲多所科研院所的实验室,诸如曼彻斯特大学、剑桥大学、帝国理工学院、诺森比亚大学、巴斯大学、埃克塞特大学、伦敦玛丽女王大学、哈德斯菲尔德大学、莱顿大学、亚森工业大学、西班牙光子科学研究所、英国国家物理实验室等单位都是Moorfield Nanotechnology的用户和长期合作者。诸多的用户与合作者让产品的性能和设计理念得到了高速发展,并迈入全球化的进程。Quantum Design中国子公司与Moorfield Nanotechnology正式合作,作为中国的代理和战略合作伙伴,为中国用户提供高性能的设备与优质的服务。除了台式设备之外我们还提供多种大型设备和定制服务。目前国内已有包括清华大学、西湖大学、大连理工大学、广东工业大学、中科院等多个单位采购了不同型号的Moorfield高性能薄膜制备与加工设备。
  • 既能蒸发又能溅射,nanoPVD磁控溅射系统,各种制备方式自由切换!
    自从2020年Quantum Design中国子公司将英国Moorfield nanotechnology公司生产的台式高精度薄膜制备与加工系统引进国内市场以来受到了国内科研工作者的广泛关注。Moorfield Nanotechnology推出的台式设备体积小巧但性能可以和大型设备相媲美,并且自动化程度高、操作简单、性能可靠、配置灵活。设备所具有的这些优点正是现代实验所需要的。Moorfield Nanotechnology长期收集用户的需求并对产品线进行不断的优化丰富,以满足各种个性化的实验需求。近年来,越来越多的前沿研究中需要用到多种薄膜制备手段,而传统的设备往往只有一种薄膜制备功能,制备一个样品就需要先后在不同的设备中进行操作,并且容易对样品的性质造成破坏。针对这样的需求,Moorfield Nanotechnology公司全新推出了台式高精度溅射与热蒸发系统——nanoPVD ST15A。该系统可以集成金属/绝缘体溅射、金属热蒸发、有机物蒸发功能,在同一台设备中可以实现多种制备手段的组合,将薄膜制备带入了新的高度。系统通过7英寸触摸屏控制,自动化程度高,各种制备方式可以自由切换,甚至可以同时进行。用户可以通过灵活的制备手段在在同一台设备中制备不同的薄膜或者是复合薄膜。nanoPVD ST15A外观图设备技术特点☛ 台式设备配置灵活☛ 磁控溅射、热蒸发、有机物蒸发☛ 三种制备手段可灵活组合☛ 可制备金属、有机物、电介质薄膜☛ 多达3个流量计控制过程气体☛ 高精度自动气压控制选件☛ 全自动触屏操作系统☛ 基片大至4英寸☛ 可选基片加热☛ 本底真空5 × 10-7 mbar☛ 可选共溅射(蒸发)功能☛ 可选晶振膜厚标定功能☛ 定义保存多个制备程序☛ 全面的安全性设计☛ 超净间兼容☛ 稳定的性能左:nanoPVD ST15A 双蒸发源与磁控溅射组合,右:系统的样品台与挡板背景介绍Moorfield Nanotechnology是英国材料科学领域高性能仪器研发公司,成立25年来专注于高质量的薄膜生长与加工技术,拥有雄厚的技术实力,推出的多种高性能设备受到科研与工业领域的广泛好评。Moorfield公司近十年来与曼彻斯特大学诺奖技术团队紧密合作,推出的台式高精度薄膜制备与加工系列产品由于其体积小巧、性能优异、易于操作更是受到很多科研单位的赞誉。这些设备已经进入了欧洲多所科研院所的实验室,诸如曼彻斯特大学、剑桥大学、帝国理工学院、诺森比亚大学、巴斯大学、埃克塞特大学、哈德斯菲尔德大学、莱顿大学、亚森工业大学、西班牙光子科学研究所、英国国家物理实验室等单位都是Moorfield Nanotechnology的用户和长期合作者。诸多的用户与合作者让产品的性能和设计理念得到了高速发展,并迈入全球化的进程。Quantum Design中国子公司与Moorfield Nanotechnology正式合作,作为中国的代理和战略合作伙伴,为中国用户提供高性能的设备与优质的服务。除了台式设备之外我们还提供多种大型设备和定制服务。目前国内已有包括清华大学、西湖大学、大连理工大学、广东工业大学、中科院等多个单位采购了不同型号的Moorfield高性能薄膜制备与加工设备。产品链接1、台式高性能多功能PVD薄膜制备系列—nanoPVD
  • 300万!上海期智研究院计划采购磁控溅射仪
    一、项目基本情况项目编号:0705-2240 02012003项目名称:上海期智研究院磁控溅射仪采购预算金额:300.0000000 万元(人民币)最高限价(如有):300.0000000 万元(人民币)采购需求:包件号项目数量简要技术规格备注1磁控溅射仪1套配置304L不锈钢超高真空不锈钢反应腔体,预留RHEED、RGA等接口,后续可按需升级。沉积腔室可升级集成9个2英寸超高真空溅射靶枪。预算:人民币300万元。 合同履行期限:交货期:收到预付款后8到10个月内。本项目( 不接受 )联合体投标。二、申请人的资格要求:1.满足《中华人民共和国政府采购法》第二十二条规定;2.落实政府采购政策需满足的资格要求:(1) 投标人应为符合《中华人民共和国招标投标法》规定的独立法人或其他组织;(2) 投标人应为投标产品的制造商或其合法代理商,代理商投标应提供投标产品的制造商针对本项目的唯一授权;(3) 投标人须在投标截止期之前在国家商务部认可的机电产品招标投标电子交易平台(以下简称机电产品交易平台,网址为:http://www.chinabidding.com)上完成有效注册;(4) 本项目不允许联合体投标;(5) 本项目不允许分包和转包(代理商中标后提供由其投标文件中承诺的投标产品制造商生产的产品不视为转包)。 3.本项目的特定资格要求:(1) 投标人应为符合《中华人民共和国招标投标法》规定的独立法人或其他组织;(2) 投标人应为投标产品的制造商或其合法代理商,代理商投标应提供投标产品的制造商针对本项目的唯一授权;(3) 投标人须在投标截止期之前在国家商务部认可的机电产品招标投标电子交易平台(以下简称机电产品交易平台,网址为:http://www.chinabidding.com)上完成有效注册;(4) 本项目不允许联合体投标;(5) 本项目不允许分包和转包(代理商中标后提供由其投标文件中承诺的投标产品制造商生产的产品不视为转包)。三、获取招标文件时间:2022年08月02日 至 2022年08月09日,每天上午8:30至11:00,下午13:00至17:00。(北京时间,法定节假日除外)地点:上海国际招标有限公司电子采购平台方式:电子发售售价:¥500.0 元,本公告包含的招标文件售价总和四、提交投标文件截止时间、开标时间和地点提交投标文件截止时间:2022年08月31日 09点30分(北京时间)开标时间:2022年08月31日 09点30分(北京时间)地点:上海国际招标有限公司电子采购平台五、公告期限自本公告发布之日起5个工作日。六、其他补充事宜供应商首次注册应按要求提供《供应商注册专用授权函和承诺书》(可从供应商注册页面下载)和营业执照等扫描件,供应商应当提前准备,尽早办理,以免影响领购招标文件。已注册的潜在投标人可从网站采购公告栏的相应公告或者网站上方“SITC电子采购平台”中进入在线领购招标文件流程。若公告要求提供其他领购资料的,潜在投标人应当上传相关资料的原件扫描件,否则招标代理有权拒绝向其出售招标文件。无需提供领购资料的项目,潜在投标人提交领购申请并支付费用到账后即可下载电子招标文件。项目经理会将纸质招标文件快递给潜在投标人,电子发票将发至投标人登记的邮箱。七、对本次招标提出询问,请按以下方式联系。1.采购人信息名 称:上海期智研究院     地址:上海市徐汇区云锦路701号40-41层        联系方式:徐瑞;021-54652653      2.采购代理机构信息名 称:上海国际招标有限公司            地 址:中国上海延安西路358号美丽园大厦14楼            联系方式:胡羡聪、刘洲烨;86-21-32173682            3.项目联系方式项目联系人:胡羡聪、刘洲烨电 话:  86-21-32173682

溅射台相关的方案

溅射台相关的资料

溅射台相关的论坛

  • 【原创大赛】磁控溅射原理及TEM样品的制备

    当前,制备非晶的方法主要有淬火法和气相沉积法。快冷法又分为铸膜法和甩带法,适合于制备大块非晶。气相沉积法分为真空蒸发法、化学气相沉积法、脉冲激光沉积法和磁控溅射法。~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~磁控溅射法制备非晶样品有其独特的有点,下面主要介绍下磁控溅射制备非晶样品的原理。电子在电场E的作用下,在飞向基板的过程中与氩气原子发生碰撞,使其电离出氩离子和一个新的电子,电子飞向基片,氩离子在电场作用下飞向阴极靶,并以高能量轰击靶的表面,使靶材发生溅射。在溅射的过程中,溅射离子,中性的靶原子或分子即可在基片上沉积形成膜。综上所述,磁控溅射的基本原理就是以磁场来改变原子的运动状态,并束缚和延长原子的运动轨迹,从而提高电子对工作气体的电离几率和有效地运用了电子的能量。这也体现了磁控溅射低温、高效的原理。常用的TEM样品以TEM载网为基片。TEM载网是直径为3nm,厚为20μm,网格间距为80μm,最底下一层铜或者钼,上面覆盖一层约为5nm厚的无定形碳作为支撑膜。利用磁控溅射法制备沉积的薄膜就沉积在这种TEM载网的无定形碳的支撑膜上,为了减少非弹性散射对衍射数据的影响,在实验过程中尽可能制备厚度比较小的薄膜厚度,约为15nm-20nm,这样制得的样品就可以直接在透射电子显微镜中进行直接的表征。

溅射台相关的耗材

  • 铬靶靶溅射靶材Cr
    【技术参数】 产品名称规格适用离子溅射仪品牌铬靶直径57mm x 3.2mm 厚度 Agar Scientific所有型号Cressington 所有型号(308系列除外) 【产品详情】 离子溅射仪专用高纯高密度溅射靶材:铬靶 产品详细价格及资料,请登录电镜耗材在线商城网站查看。
  • Quorum 溅射靶材-金属靶材-电镜用靶材
    Quorum 耗材,靶材,载物台等附件Quorum提供了一系列消耗品和备件。溅射靶材Quorum为我们当前的Q系列(S和ES版本)和SC7620溅射镀膜机以及以前使用Emscope,Emitech,Polaron,Bio-Rad,Fisons Instruments和Thermo VG品牌制造的型号提供金属溅射靶材。包括E7400-314A TargetGold 0.2 mm, E7400-31C Target Platinum 0.2 mm, E7400-314IR Target Iridium 0.3 mm, SC500-314A Target Gold 60 mm x 0.1 mm thick, SC500-314E Target Silver 60 mm x 0.1 mm thick, SC502-314A Target Gold 57 mm x 0.1 mm, 更多溅射靶点请咨询大连力迪流体控制技术有限公司碳耗材:碳棒和碳纤维供应品有多种尺寸和纯度可供选择,通常用于将碳蒸发到样品上,用于 X 射线微量分析或透射电子显微镜 (TEM)分析。
  • 钯靶Pd靶溅射靶材
    【技术参数】产品名称规格适用离子溅射仪品牌钯靶直径57mm x 0.1mm 厚度 Agar Scientific所有型号Cressington 所有型号(308系列除外)Polaron/Quorum/Bio-Rad/VG-E5000,E5200,E5400,SC502,SC7610,SC7620 【产品详情】 离子溅射仪专用高纯高密度溅射靶材:钯靶 产品详细价格及资料,请登录电镜耗材在线商城网站查看。
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