三靶高真空磁控镀膜溅射系统

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  • 贰零壹捌科技(天津)有限公司是一家专业从事纳米颗粒与纳米薄膜制备设备以及复杂真空系统设计、开发、制造、销售的高科技公司。创始人曾在德国和美国的高水平大学学习与工作,致力于团簇束流沉积技术和质谱、能谱等复杂真空系统的研究和设备开发。因此,公司以纳米团簇束流技术见长,拥有雄厚的复杂真空系统设计、制造及研发能力。开发完成的纳米团簇束流源及质量选择和沉积系统设备达到了国际先进水平,拥有研究型和生产型两个系列。擅长纳米团簇束流沉积技术在工业应用领域的方案设计、技术服务与产品代工,尤其适合于纳米光电与传感器件、微机电器件工业制程领域提供系统解决方案。公司采用国际上先进的“设备与工艺相结合”模式进行研发、生产与销售,引领世界先进技术。公司拥有良好的售前服务平台、完善的售后服务体系、广泛的技术支持能力,致力于向广大的国内外用户提供性能高、稳定性强、安全可靠的产品。公司配备了优秀的科研人员,为用户提供售前、售后工艺服务与工艺技术支持,包括:设备选型实验、设备考察实验、项目预研与立项、合作攻关、工艺指导、工艺培训等。 广泛应用在光学、半导体、离子束、真空设备、真空机械、科研仪器及相关控制软件。镀膜、沉积设备、超高真空设备、复杂系统联动控制、低维材料制备、石墨烯传感器及系统集成:v v沉积设备:化学(催化)、材料、新材料、电极材料(新能源)(磁控溅射(单靶或多靶)、热型、电子束轰击型) v复杂真空系统:超高真空环境下,材料制备、原位表征、材料转移、集成LEED,角分辨激光光电子能谱(磁瓶和动量谱仪型)、高分辨质谱、医用质谱、各类离子与团簇源(离子源包括高电荷态ECR、中等离子态强流ECR离子源、磁控溅射强流团簇源、整发型团簇源)、不同功能光谱、质谱、电子能谱的多功能系统集成。 v抛光:荷能纳米颗粒超光滑表面抛光 v超高真空系统设计、超高真空系统相关联动系统软件、超高真空腔体与部件的加工、离子光学系统的设计 v真空部件加工
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  • 400-860-5168转4180
    上海续波光电技术有限公司是一家专业从事高性能薄膜沉积及处理设备、光电材料及软件、金刚石合成及应用、激光等离子体仿真和诊断等产品及服务进口的技术贸易服务型公司。公司至今已与法国、德国、英国、瑞士、意大利、美国、加拿大、日本、俄罗斯等国家的多家企业建立了战略合作关系,并服务于国内从事微电子、半导体、光学、纳米技术等领域的研究所和大学。公司从事领域及产品主要包括:加速器质谱仪:第三代14C加速器质谱仪系统(AMS),包括全套可兼容第三代石墨化系统AGE3、气动压样装置PSP、铁制分配器FED、管密封装置TSE、气体电离探测器GID、气体接口系统GIS、碳酸盐处理系统CHS2、同位素比质谱仪IRMS。薄膜制备及处理:磁控溅射仪(magnetron sputtering system)、电子束蒸镀设备(E-beam Evaporation system)、离子束溅射沉积(IBS system)、化学束外延镀膜(CBE/GSMBE)、分子束外延设备(MBE)、离子减薄仪(Ion Milling)、超高真空多功能镀膜设备、高精密光学镀膜设备(Optical Coating system)、刻蚀机(RIE, RIEB)、超导约瑟夫森结制备(Josephson Junction, Qubits)、DLC类金刚石镀膜设备。金刚石制备及应用:纳米晶金刚石制备设备、热丝化学气相沉积(HFCVD)、CVD单晶金刚石合成设备、CVD光学级金刚石窗口合成、微波等离子化学气相沉积(MPCVD)、工具级金刚石涂层制备(tool coating)、金刚石单晶/多晶掺杂(single crystal diamond and doping)、CVD金刚石单晶及其应用、高温高压金刚石单晶(HPHT diamond)、金刚石抛光设备(diamond polishing)、激光切割设备(laser cutting)、钻石净度及切工评定仪器;高能密度物理:辐射流体力学模拟、原子光谱分析软件、多维碰撞辐射软件、三维热辐射CAD软件、状态方程和不透明度、原子物理数据库;微波干涉仪、金刚石靶丸、超高功率输出窗口;激光等离子体气体/固体靶、粒子加速器源、激光等离子体加速器及应用(无损测试)激光器与设计:固体激光器设计软件(Solid-state Laser)、光纤激光器设计软件(Fiber laser)、半导体激光器设计软件(Semiconductor laser)、激光镜面镀膜设备(Lasers coating system)、高功率激光输出窗口(High power output window)、高功率激光热沉片(Heat Sink)、高功率钻石激光器(Diamond Laser)、金刚石窗口镀增透膜(AR coating service);磁场分布测量:微霍尔阵列磁场相机(1D/3D)、大面积磁场分布测量解决方案、永磁转子表磁测量解决方案,多功能表磁测试平台
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  • 江西科泰新材料有限公司占地近30亩,总投资近5000万元,内设新材料研究中心一处,分析检测中心一处,生产线若干条,大型仓储中心一处。公司在职材料科学教授6名,博士10人,硕士若干名。成立以来为国内外客户不断研发、生产各种新型材料及制品。我们开发的太阳能电池薄膜材料,热电薄膜材料,半导体化合物材料,高纯金属,高纯稀土金属,功能合金,各种磁控溅射靶材,真空镀膜材料等得到客户的好评和肯定,广销世界各地。目前自有的生产设备主要有真空中频感应熔炼炉,冷坩埚悬浮熔炼炉,非自耗真空电弧炉,真空高温加热炉,真空烧结炉,真空蒸馏炉,区域熔炼熔炉,多温区加热炉,单晶炉,真空热压炉,高温烧结炉,冷压成型机,真空锻轧设备,车床,磨床,铣床,钻床,冲床,线切割等各种材料成型及机械加工设备。 主要产品有各种溅射靶材,蒸发镀膜料,半导体化合物,高纯金属,蒸馏稀土金属,还原稀土金属,稀土合金,中间合金,高纯化合物等。稀土靶材,氧化铌靶材,二硫化钼靶材,钪铝合金,硫化物靶材,碲化物靶材,氧化物靶材,TaSi2靶材
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三靶高真空磁控镀膜溅射系统相关的仪器

  • 产品简介:该设备为小型三靶磁控溅射镀膜设备,通过模块式化设计后,系统安装方便灵活易于维护,适合科研与教学实验使用。产品型号三靶高真空磁控镀膜溅射系统主要特点1、组成由单室超高真空双靶磁控溅射室,由溅射真空室与管路组成。2、配有旁抽系统,启动快不停机即可更换样品,重复性好。3、用于镀制各种单层膜、多层膜系,可实现单靶独立、双靶轮流、双靶共溅射等溅射模式。4、同时可以实现反应磁控溅射,制备氮化物,氧化物等,可镀金属及导磁金属、合金、化合物、半导体、介质复合膜和其它化学反应膜。5、作为试验设备来说达到了最佳的性能价格比。技术参数系统由真空腔室、旋转样品架、磁控溅射靶、铠装加热器、抽气系统、真空测量、工作气路、电控系统等各部分组成。极限真空优于:5.0x10-5Pa(经烘烤除气后)真空漏率小于2.0x10-8Pa.l/S系统短时间暴露大气并充干燥氮气后,再开始抽气,40分钟可达到6.0x10-4Pa;停泵关机12小时后真空度:≤5 Pa1、 真空室腔体尺寸Ф300x350mm,手动上开盖辅助液压结构,前有一个观察窗,样品台可旋转内部连接铠装加热器、真空规、放气阀等各种规格的法兰接口,选用优质不锈钢材料制造,氩弧焊接,表面采用电解抛光处理。采用金属或氟橡胶圈密封。配备一体机柜标准电箱。2、磁控溅射靶靶材尺寸:Φ50mm(其中一个可以溅射磁性材料);永磁靶一支、强磁靶一支:射频溅射与直流溅射兼容,靶内有水冷;配手动挡板。2个靶可共同向下面的样品中心溅射,靶与样品距离90~110mm可调。3、铠装加热样品:加热区域为Φ100mmX100mm(H),基片加热最高温度 室温-600°C±1°C,由热电偶闭环反馈控制。配有磁力转轴,电机驱动每分钟低于30转。标准配件1、真空部件进气角阀:2套;RF100观察窗:1套;观察窗法兰:RF100 2个;电阻规: KF16 1个;电极引线: CF25 1个;2、工作真空获得及测量:直联6L/s机械泵: 1台;F600分子泵:1台;电磁KF20阀:1台;5227真空计:1台角阀RF16、管路、接头、充气阀D6等: 1路;KF25电磁压差阀: 1台;CF100闸板阀:1台;3、相关规格的金属密封铜圈,氟橡胶密封圈4、不锈钢紧固螺栓、螺母、垫片等5、安装机台架组件:安装台架:整个设备安放在一个用承载式标准电箱上,箱体均进行喷塑处理。拆卸方便占地小780mmX580mmx1100mm。6、电源控制系统电源布置在标准电箱上,安装于系统机架上。7、自制电源控制电源:1台(为机械泵、电磁阀等提供电源及过程控制带逻辑监测); 样品加热电源:1台(日本产控温表可实现程序控温)室温-600°C±1°C,由热电偶闭环反馈控制。8、配套电源真空计电源:1套直流DC500W电源:2套流量显示、流量控制器:1套9、备品备件:1套
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  • 1.产品概述MS450多靶磁控溅射镀膜系统由沈阳科友仪器等制造商生产,是一款集高真空、多靶材、磁控溅射技术于一体的镀膜设备。该系统能够在所需基材上沉积多种类型的涂层,包括耐磨损涂层、自润滑涂层、抗腐蚀涂层、抗高温氧化涂层、透明导电涂层等,广泛应用于高校、科研院所的教学、科研实验及生产型企业期探索性实验及开发新产品等。2.产品组成MS450多靶磁控溅射镀膜系统主要由以下几个部分组成:真空室:提供高真空环境,确保镀膜过程中的气体分子干扰小化。溅射靶枪:内置多种靶材,如金属、陶瓷等,通过磁控溅射技术将靶材原子溅射到基材表面。溅射电源:提供稳定的电源供应,支持直流(DC)、中频(MF)、射频(RF)等多种溅射模式。加热样品台:用于加热基材,提高镀膜质量和附着力。流量控制系统:精确控制工艺气体的流量和压强,确保镀膜过程的稳定性和可控性。真空获得系统:包括真空泵等组件,用于将真空室抽至高真空状态。真空测量系统:实时监测真空室内的气体压力等参数。气路系统:用于向真空室内通入工艺气体,如氩气等。PLC+触摸屏自动控制系统:实现设备的自动化控制和操作,提高工作效率和镀膜质量。3.工作原理MS450多靶磁控溅射镀膜系统的工作原理基于磁控溅射技术。在镀膜过程中,电子在电场的作用下飞向基片,并与氩原子发生碰撞,使其电离产生出Ar正离子和新的电子。Ar正离子在电场的作用下加速飞向阴靶,并以高能量轰击靶表面,使靶材发生溅射。溅射出的靶原子或分子在基片表面沉积成膜。同时,二次电子在电场和磁场的作用下产生E×B漂移,被束缚在靠近靶表面的等离子体区域内,电离出更多的Ar正离子来轰击靶材,从而实现高的沉积速率。4.技术特点多靶材选择:支持多种靶材的溅射镀膜,满足不同材料的镀膜需求。高真空环境:提供高真空环境,确保镀膜过程的稳定性和镀膜质量。高精度控制:通过PLC+触摸屏自动控制系统实现设备的精确控制和操作。高沉积速率:利用磁控溅射技术实现高的沉积速率和均匀的膜层质量。广泛适用性:适用于金属、陶瓷、玻璃等多种基材的镀膜处理。5.应用域MS450多靶磁控溅射镀膜系统广泛应用于以下域:材料科学:用于开发纳米单层、多层及复合膜层等新型材料。电子工程:制备金属膜、合金膜、半导体膜等电子材料,应用于太阳能电池、OLED等域。工业生产:在汽车零部件、航空航天器件等域制备耐磨损、抗腐蚀等高性能涂层。综上所述,MS450多靶磁控溅射镀膜系统以其先进的技术特点和广泛的应用域,在材料科学和工业生产中发挥着重要作用。
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  • VTC-3RF是一款小型台式3靶等离子溅射仪(射频磁控型),配有三个1英寸的磁控等离子溅射头和射频(RF)等离子电源,此款设备主要用于制作非导电薄膜,特别是一些氧化物薄膜。对于新型非导电薄膜的探索,它是一款廉价并且高效的实验帮手。技术参数输入电源220VAC 50/60Hz, 单相800W (包括真空泵)等离子源配有一13.5MHz,100W的射频电源(采用手动匹配)可选配300W射频电源(自动匹配)注意:100W手动调节的RF(射频)电源价格较低,但是每一次对于不同的靶材,都需要手动设置参数才能产生等离子体,比较耗费时间。300W自动匹配的RF(射频)电源,价格较昂贵,但比较节约时间(点击图片查看详细资料)磁控溅射头三个1英寸磁控溅射头(带有水冷夹层),采用快速接头与真空腔体相连接靶材尺寸: 直径为25.4mm,最大厚度3mm一个快速挡板安装在法兰上溅射头所需冷却水:流速10L/min(仪器中配有一台流速为16L/min的循环水冷机) 真空腔体真空腔体:256mm OD x 250mm ID x 276mm H,采用高纯石英制作密封法兰:直径为274mm . 采用金属铝制作,采用硅胶密封圈密封一个不锈钢网罩住整个石英腔体,以屏蔽等离子体(如下图)真空度:1.0×10-2 Torr (采用双极旋片真空泵),5×10-5 torr (采涡旋分子泵) 载样台载样台可旋转(为了制膜更加均匀)并可加热载样台尺寸:直径50mm (最大可放置2英寸的基片)旋转速度:0 - 20 rpm样品台的最高加热温度为700℃(短期使用,恒温不超过1小时),长期使用温度500℃控温精度+/- 10℃真空泵我公司有多种真空泵可选,请点击图片,或是致电我公司销售薄膜测厚仪(可选) 一个精密的石英振动薄膜测厚仪安装在仪器上,可实时监测薄膜的厚度,分辨率为0.10 ? LED显示屏显示,同时也输入所制作薄膜的相关数据 质保和质量认证一年质保期,终生维护CE认证外形尺寸 使用注意事项这款1英寸的射频溅射镀膜仪主要是用于在单晶基片上制备氧化物膜,所以并不需要太高的真空度为了较好地排出真空腔体中的氧气,建议用5%H2+95 %N2对真空腔体清洗2-3次,可有效减少真空腔体中的氧含量请用纯度大于5N的Ar来进行等离子溅射,甚至5N的Ar中也含有10- 100 ppm的氧和水,所以建议将钢瓶中的惰性气体通过净化系统过后,再导入到真空腔体内
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三靶高真空磁控镀膜溅射系统相关的资讯

  • 260万!东南大学计划采购磁控溅射镀膜仪
    一、项目基本情况项目编号:0664-2260SUMEC787D项目名称:东南大学微纳系统国际创新中心磁控溅射镀膜仪采购预算金额:260.0000000 万元(人民币)最高限价(如有):260.0000000 万元(人民币)采购需求:东南大学微纳系统国际创新中心采购磁控溅射镀膜仪 一套本项目接受进口产品。合同履行期限:合同签约后12个月到货安装调试合格。本项目( 不接受 )联合体投标。二、申请人的资格要求:1.满足《中华人民共和国政府采购法》第二十二条规定;2.落实政府采购政策需满足的资格要求:本项目若符合扶持福利企业、促进残疾人就业、支持中小微企业、支持监狱和戒毒企业等政策, 将落实相关政策。3.本项目的特定资格要求:(1)供应商必须是所投产品的制造商或代理商,若投标人不是投标产品制造商的,投标人必须具有下列授权文件之一(本条只适用于进口产品):a.供应商必须提供制造商出具的授权函正本; b.制造商的国内全资子公司出具的授权函正本; c.制造商对授权的区域代理商出具的授权函复印件及该区域代理商出具的授权函正本; d.投标人取得的产品代理证书复印件(正本备查)。4.拒绝下述供应商参加本次采购活动:(1)供应商单位负责人为同一人或者存在直接控股、管理关系的不同供应商,不得参加同一合同项下的政府采购活动。(2)凡为采购项目提供整体设计、规范编制或者项目管理、监理、检测等服务的供应商,不得再参加本项目的采购活动。(3)供应商被“信用中国”网站(www.creditchina.gov.cn)、“中国政府采购网"(www.ccgp.gov.cn)列入失信被执行人、税收违法黑名单、政府采购严重违法失信行为记录名单。三、获取招标文件时间:2023年01月05日 至 2023年01月11日,每天上午9:00至11:00,下午14:00至17:00。(北京时间,法定节假日除外)地点:线上方式:在线获取售价:¥600.0 元,本公告包含的招标文件售价总和四、提交投标文件截止时间、开标时间和地点提交投标文件截止时间:2023年01月29日 09点30分(北京时间)开标时间:2023年01月29日 09点30分(北京时间)地点:南京市长江路198号苏美达大厦辅楼303会议室,五、公告期限自本公告发布之日起5个工作日。六、其他补充事宜申请人的资格要求:1、满足《中华人民共和国政府采购法》第二十二条规定:(1)具有独立承担民事责任的能力(提供法人或者其他组织的营业执照,自然人的身份证明);(2)具有良好的商业信誉和健全的财务会计制度(提供参加本次政府采购活动前半年内(至少一个月)的会计报表或者上一年度的财务审计报告,成立不足一年的提供开标前六个月内的银行资信证明原件。);(3)具有履行合同所必需的设备和专业技术能力(根据项目需求提供履行合同所必需的设备和专业技术能力的证明材料); (4)有依法缴纳税收和社会保障资金的良好记录(提供参加本次政府采购活动前半年内(至少一个月)依法缴纳税收和社会保障资金的相关材料);(5)参加政府采购活动前三年内,在经营活动中没有重大违法记录(提供参加本次政府采购活动前3年内在经营活动中没有重大违法记录的书面声明)(格式见后附件)。(6)法律、行政法规规定的其他条件。2、凭以下材料获取:(1)获取采购文件材料:1、营业执照【复印件加盖公章,扫描件】2、介绍信或者法定代表人授权书【原件加盖公章,扫描件,开具日期不得早于公告日期】3、委托代理人身份证【复印件加盖公章,扫描件】4、采购文件获取登记表word版【详见招标公告附件】(2)凡有意参加本次采购活动的供应商必须提供第(1)条规定证件登记并获取,不按规定获取的视为获取失败。3、我司提供了在线获取采购文件服务,操作流程如下:(1)、用微信关注我司公众号“苏美达达天下”。(2)、进入公众号-“在线服务”-“在线购标”。(3)、输入本项目的项目编号,举例:0664-2260SUMEC787D,点击查询。添加您所要获取的采购文件到购物车,输入投标单位名称、领购人信息以及发票信息,提交订单并确认微信支付,支付完成后将报名材料扫描件和登记表word版一并发至采购代理机构联系人:焦立阳,邮箱:jiaoly_work@163.com 即可,我们将会把采购文件电子版发送到领购人的邮箱。注意事项:(1)确保领购人邮箱真实准确无误,电子版采购文件将发送到此邮箱。(2)目前标书费发票支持开标现场领取或者顺丰到付。(3)“苏美达达天下”付款平台填写的投标单位名称必须与开票信息一致。如不一致投标人自行承担后果。请认真填写领购人信息及发票信息。(4)非采购代理机构或平台公司原因,发票一经开具不予退换。4、疫情防控期间注意事项(本项目采取在线流程):在线流程:因疫情原因,本项目进行线上开标,请供应商尽量提前准备投标文件,以便及时送达代理机构指定的地点。供应商按照不见面开标通知(附件1)的要求参加开标会议。如因投标文件未及时送至代理机构造成的后果由供应商自负。七、对本次招标提出询问,请按以下方式联系。1.采购人信息名称:东南大学地址:南京市玄武区四牌楼2号联系方式:技术咨询:微纳系统国际创新中心:贺老师 电话:025-83792632 分机号8806; 实验室与设备管理处:刘加彬 电话:025-83792693。2.采购代理机构信息名称:苏美达国际技术贸易有限公司地址:南京市长江路198号苏美达大厦联系方式:项目联系人:杨 扬、焦立阳 电话:025-84532455、025-845324523.项目联系方式项目联系人:杨 扬、焦立阳电话:025-84532455、025-84532452
  • 240万!成都大学附属医院红外光谱仪、磁控溅射镀膜机、X-射线衍射仪采购项目
    项目编号:N5101012023000011项目名称:红外光谱仪、磁控溅射镀膜机、X-射线衍射仪采购项目采购方式:公开招标预算金额:2,400,000.00元采购需求:详见采购需求附件合同履行期限:采购包1:自合同签订生效后起10日内采购包2:自合同签订生效后起10日内采购包3:自合同签订生效后起10日内本项目是否接受联合体投标:采购包1:不接受联合体投标采购包2:不接受联合体投标采购包3:不接受联合体投标8a69c98f85909e000185957d38207018.docx
  • WELCH实验室真空泵如何确保离子镀膜仪真空度的稳定性和工作效?
    WELCHLAB APPLICATION某客户致力于材料表面处理和真空薄膜仪器的研发,在竞争方面,直接对标国外知名产品。有别于其他同类产品的国产厂家,该客户产品定位高端,在国内市场有较好的口碑,其对配套的旋片真空泵(油泵)要求,无论是在真空度、噪音、外观、售后服务等,还是在品牌知名度方面,都有非常高的要求,为保证离子镀膜仪真空度的稳定性和工作效率,已标配选用了某原装进口品牌的旋片泵,且销售了数年时间,但此品牌的旋片泵价格高昂,货期不稳定,售后服务有着很大的提升空间。此时,我们针对性的向该客户介绍了Welch品牌CRVpro2旋片真空泵。CRVpro2外观设计美观,真空度高,泵体小巧,运行非常安静,泵体内部做PTFE防腐处理,能够明显提高其使用寿命,完全适合配套客户的离子镀膜仪设备。且因CRVpro2旋片真空泵性价比高,售后服务完善,能瞬间提升客户产品的受关注度和整体竞争力。当然,对于临阵换将,任何人都会有所犹豫,为打消客户疑虑,我们及时提供了一台全新的 CRVpro2旋片真空泵,进行现场测试。CRVpro2的安装非常简单,加注真空油、安装转接头、连接不锈钢波纹管,一气呵成。开机运行!在寂静的实验室里,CRVpro2安静的运行着。时间一秒一秒得飞逝,镀膜仪操作面板上的真空度数值飞速变化,结果仅仅用了不到3分钟,就达到了镀膜仪恒定工作压力以下,即1-2Pa。同时,由于Welch研发工程师对CRVpro2的排气端进行了优化设计,其排气口几乎无油雾排出,非常有利于实验室环境,该公司的测试人员对此结果非常满意。随即,设备配套顺理成章,双方打开双赢的合作局面̷̷CRVpro实验室旋片真空泵的优点:  1、泵体运行温度低,能有效减低泵被化学腐蚀风险。  2、油箱和泵体都有抗化学腐蚀涂层,能够保护泵不被化学物质侵蚀。  3、油箱容量大,能够稀释吸入真空油里的化学物质,降低了化学腐蚀的风险和油被污染的程度。  4、低噪音:运行特别安静,不干扰工作。  5、自润滑功能:确保所有运动部件浸润在新鲜的油里,平衡温度,减少油染,延长机械寿命。  6、防倒吸阀:防止在停机时油被倒吸进真空容器  7、气压载阀:减少化学蒸汽被夹带进入泵油;保护泵不被可凝性流体如水,乙酰腈等的影响。  8、cUL和CE认证:具有各国的安全认证,满足官方的3安全标准。  9、满足各种应用的外形尺寸:现代和紧凑的外形设计,满足各种应用场合的要求。  10、双电压电机:IP44 电机,可在115V 和240V之间切换,并可配置各种相应的电源插头,使CRVpro可使用。CRVpro实验室旋片真空泵的应用: 1、双排管 2、冷冻干燥 3、真空浓缩 4、采暖通风、空调 5、真空干燥箱 6、手套箱 7、质谱仪 8、工业应用关于威伊(Welch)威伊真空设备(上海)有限公司WELCH是提供优质耐用真空泵产品的专家。我们的丰富产品线涵盖了实验室和工业用真空泵,包括真空活塞泵,真空隔膜泵,真空旋片泵,螺旋泵,涡轮分子泵,液体输送泵等,还有各种真空测量仪,真空控制器,真空蒸馏装置,真空浓缩设备,真空抽吸设备等。关于英格索兰英格索兰(纽交所代码:IR),以企业家精神和主人翁意识为动力,致力于创造美好生活。我们通过旗下备受赞誉的40余个品牌,在工业、能源、医疗和特种多功能车领域提供关键和创新的产品与服务,涵盖空气压缩机、泵、鼓风机,以及流体管理、装载、动力工具和物料吊装系统以及知名的Club Car品牌多功能车。在极其复杂和严苛的工况下,亦能确保优越的性能。我们在世界各地的16,000多名员工将持之以恒地为客户提供可靠的专业知识,帮助客户提高生产力并提升效率,与客户建立终身连接。

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  • 扫描电镜不导电样品磁控溅射镀膜仪常见问题解决

    随着电镜技术和应用快速发展,越来越多电镜用户对样品前处理提出了更高的要求。其中磁控溅射镀膜仪就专用来给场发射扫描电镜不导电样品进行喷金镀膜。本作品主要从两大方面介绍磁控溅射镀膜仪。1.简易演示真空磁控

三靶高真空磁控镀膜溅射系统相关的耗材

  • 溅射镀膜仪专用靶材
    纯英国进口溅射镀膜仪专用靶材产地:英国品牌:Cressington类型:Au, Pt, Au/Pd, Pt/Pd, Cr, Ir, W, Ti, Ag, 高纯碳棒等现阶段由于国内用户辨别能力不足导致市场上非常多的厂家用国产靶材冒充进口靶材现象,而国产靶材由于杂质多(虽然宣称纯度优于4个9),质量次会导致镀膜效果不均匀,污染溅射头等问题,主要区别:1. 国产靶材包装为简单的塑料密封包装,而进口靶材为特制硬纸板保护加真空包装;2. 国产靶材没有产地信息或简单贴牌,而进口靶材有明显的产品信息和编号;
  • Eachwave 专业提供镀膜服务 磁控溅射镀膜 气相沉积镀膜 电子束蒸发镀膜 其他光谱配件
    上海屹持光电技术有限公司专业提供各种镀膜服务:典型实例 1,磁控溅射合金膜2,ICPPECVD 制备高厚低应力氧化硅薄膜3,沉积细胞定位电极4,磁控溅射的 制备的 Au/TiO2 连续 主要设备:1,磁控溅射镀膜系统2,磁控溅射镀膜机3,磁控溅射真空镀膜机4,电子束蒸发镀膜仪5,高密度等离子体增强化学气相沉积设备
  • 磁控溅射靶材
    高纯度的金属溅射靶材适用于多种品牌的离子溅射仪: 包括PELCO® , Cressington, Agar, Bal-Tec, Bio-Rad, Denton, Edwards, Emitech, Emscope, Gatan, ISI, JEOL, LEICA, Polaron, Quorum, and SPI.这些磁控溅射靶材的直径分为60,57,54,50和19mm。1、高纯60mm金属靶材:适用于Denton DESK II / DESK III / DESK IV/ DESK V, Edwards 150 B / SCANCOAT, Emitech K500/K550/K650和Emscope SC500离子溅射仪。货号产品描述单位91217铜靶, 99.99% Cu (?60mm x 0.076mm)块91210金靶, 99.99% Au (?60mm x 0.1mm)块91212金钯合金靶, 99.99% Au:Pd 60/40 (?60mm x 0.1mm)块91216镍靶, 99.98% Ni (?60mm x 0.1mm)块91214铂靶, 99.95% Pt (?60mm x 0.1mm)块91219钯靶, 99.95% Pd (?60mm x 0.1mm)块91229银靶, 99.99% Ag (?60mm x 0.1mm)块2、高纯57mm金属靶材:适合于 Agar, Cressington 108/208, Emitech SC7620/SC7610/K575X/K575XD, ISI 5400, JEOL JFC 1200/1300/1400/1600/2300HR, PELCO® Model 3, SC4/SC5/SC6/SC7, Polaron 5000/5400/SC7610/SC7620, Quorum Q150, 和 SPI Module/Super离子溅射仪货号产品描述单位8074铬靶, 99.95% Cr (?57mm x 3.2mm) (208HR only)块91117铜靶, 99.99% Cu (?57mm x 0.1mm) 块8077铜靶, 99.99% Cu (?57mm x 0.3mm)块91110金靶, 99.99% Au (?57mm x 0.1mm)块8071金靶, 99.99% Au (?57mm x 0.2mm)块91112金钯合金靶, 99.99% Au:Pd 60/40 (?57mm x 0.1mm)块91111金钯合金靶, 99.99% Au:Pd 60/40 (?57mm x 0.2mm)块91132-B铟锡氧化物靶 , 99.99% ITO, In2O3/SnO2 90/10 wt % 背面有1mm 铜片, (?57mm x 3mm 总厚)(208HR only)块91120铱靶, 99.95% Ir (?57mm x 0.3mm) (208HR only)块91124铁靶, 99.5% Fe (?57mm x 0.12mm) (208HR only)块8073钼靶, 99.95% Mo (?57mm x 0.25mm) (208HR only)块91116镍靶, 99.98% Ni (?57mm x 0.1mm) (208HR only)块8079铌靶, 99.95% Nb (?57mm x 0.25mm) (208HR only)块91119钯靶, 99.95% Pd (?57mm x 0.1mm)块91114铂靶, 99.95% Pt (?57mm x 0.1mm)块8076铂钯合金靶, 99.99% Pt:Pd 80/20 (?57mm x 0.1mm)块91115铂钯合金靶, 99.99% Pt:Pd 80/20 (?57mm x 0.2mm)块91118银靶, 99.99% Ag (?57mm x 0.1mm)块91129银靶, 99.99% Ag (?57mm x 0.3mm)块8075钽靶, 99.95% Ta (?57mm x 0.3mm) (208HR only)块91123钛靶, 99.6% Ti (?57mm x 0.2mm) (208HR only)块8078钨靶, 99.95% W (?57mm x 0.25mm) (208HR only)块3、高纯54mm金属靶材,适合于Bal-Tec SCD005/040/050/500, MED10/20 和LEICA EM SCD 005/050/500, MED 020 离子溅射仪。4、高纯50mm金属靶材,适合于Anatech/Technics Hummer I, II, III, Fullam EffaCoater 和 Fullam EMS-76离子溅射仪。 5、高纯38mm金属靶材,适合于Cressington 308HR离子溅射仪。6、高纯19mm金属靶材,适合于Gatan Model 681 and 682 PECS 离子束溅射仪镀非导电SEM样品时,如何选择相应靶材:Gold黄金优良的靶材,广泛应用于标准SEM镀膜。对于冷镀膜离子溅射仪(如Cressington 108auto),对于热敏性样品几乎不会产生任何热量. 在高倍SEM下可看到颗粒尺寸. Gold/Palladium金钯合金溅射率低于纯黄金. 与Au相比,Au/Pd 的颗粒更小,但由于其有两个峰,所以不是很适合EDS分析,也不是很适合热敏性物质镀膜。Palladium钯成本低,可用于中低放大倍数场合,具有更低的SE信号Platinum铂金具有比Au 或 Au/Pd更小的溅射颗粒。但溅射率更低。如果有氧气,则应力开裂的敏感性。有更高的SE产出。Platinum/Palladium铂钯合金颗粒大小与Pt差不多,但应力开立的敏感性较小。非常适合FESEM,但更适合高分辨率镀膜仪208HR.Silver银成本低,可用于中低放大倍数场合,颗粒比Au大. 适合于小型SEMs。与Au或Pt相比,SE产出更低。. 如果样品没有放在真空环境下,则镀膜表面易氧化. 可用于特殊的EDS工作.Chromium铬非常细的溅射颗粒,适合于 FESEM. 为避免氧化,需用于208HR一样的高真空镀膜仪。镀膜后的样品只能存放在高真空环境中. 溅射离子直线下落。适合生物样品的BE成像,溅射产率低。Iridium铱非常细的溅射颗粒,适合于 FESEM,需用于208HR一样的高真空镀膜仪,溅射产率低。Tungsten钨可替代Cr.颗粒非常细,但氧化非常快,溅射产率低。 Nickel镍可作为特殊的EDS应用, 不适合SE成像.适合BE成像,溅射产率低,镀膜易氧化。Copper铜适用于EDS. 适合中/低放大倍数场合,BE成像.Note 1:铝的溅射产率非常低,对于SEM离子溅射不适用,且氧化非常快。Note 2:碳最适合于EDS应用,但很难溅射。碳的蒸发产率非常好。 金靶种类选择厂家型号60mm57mm54mm50mm38mm19mmAGAR手动型离子溅射仪XAGAR自动型离子溅射仪XAnatech/TechnicsHummer IXAnatech/TechnicsHummer IIXAnatech/TechnicsHummer IIIXAnatech/TechnicsHummer Jr.XBal-TecSCD 005XBal-TecSCD 040XBal-TecSCD 050XBal-TecSCD 500XBal-TecMED 10XBal-TecMED 20XBio-RadSC 5200XBio-RadSC 502XCressington108 manualXCressington108 autoXCressington108/auto/SEXCressington208HRXCressington308HRXDentonDESK IIXDentonDESK IIIXDentonDESK IVXDentonDESK VXEdwards150 BXEdwardsScancoatXEmitechSC7620/SC7610XEmitechK500X/K550X/K650X XEmitechK575/K575XD/Q150 XEmscope/PolaronSC 502XFullamEMS-76XGatanISI 5400XJEOLJFC-1200XJEOLJFC-1300PELCO® SC6X
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