上海伯东 KRI 考夫曼射频离子源 RFICP220 溅射沉积 ZrAlN 薄膜
检测样品 其它
检测项目 无
方案详情文
智能文字提取功能测试中
合金化是提高过渡族金属氮化物薄膜硬度及抗磨损、耐腐蚀性能的有效方法。Al是常用合金化元素，能提高薄膜的硬度和抗高温氧化性能。北京某大学实验室在对硬韧 ZrAlN 薄膜及薄膜力学性能研究中, 采用伯东 KRI 考夫曼射频离子源 RFCIP220 辅助磁控溅射沉积的方法在钛合金和单晶 Si 上沉积不同 Al 含量的ZrAlN 薄膜.伯东 KRI 射频离子源 RFICP220 技术参数:离子源型号RFICP220DischargeRFICP 射频离子束流>800 mA离子动能100-1200 V栅极直径20 cm Φ离子束聚焦, 平行, 散射流量10-40 sccm通气Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他典型压力< 0.5m Torr长度30 cm直径41 cm中和器LFN 2000* 可选: 灯丝中和器; 可变长度的增量试验中, 采用伯东 KRI 考夫曼射频离子源 RFCIP220 辅助磁控溅射沉积的方法获得均匀致密、大面积的 ZrAlN 薄膜, 更好的对 ZrAlN 薄膜进行研究.KRI 离子源的独特功能实现了更好的性能, 增强的可靠性和新颖的材料工艺. KRI 离子源已经获得了理想的薄膜和表面特性, 而这些特性在不使用 KRI 离子源技术的情况下是无法实现的.因此, 该研究项目才采用 KRI 考夫曼射频离子源 RFCIP220 辅助溅射沉积工艺.上海伯东是德国 Pfeiffer 真空设备, 美国 KRI 考夫曼离子源, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口知名品牌的指定代理商 .我们真诚期待与您的合作！若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请联络上海伯东上海伯东版权所有, 翻拷必究！
关闭-
1/2
-
2/2
产品配置单
伯东公司德国普发真空pfeiffer为您提供《上海伯东 KRI 考夫曼射频离子源 RFICP220 溅射沉积 ZrAlN 薄膜》，该方案主要用于其它中无检测，参考标准《暂无》，《上海伯东 KRI 考夫曼射频离子源 RFICP220 溅射沉积 ZrAlN 薄膜》用到的仪器有上海伯东美国 KRi 射频离子源 RFICP 220。
我要纠错
相关方案
咨询