Au/Pd/Ni三层膜中膜厚测定检测方案

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HITACHIInspire the NextTechnical Report2015.2http：//www.hitachi-hightech.com/hig/C2015 Hitachi Instruments (Shanghai) Co.， Ltd. XRF No.84 荧光X射线分析 利用FT150测量Au/Pd/Ni三层膜 Au/Pd/Ni三层膜使用在导线架和印刷线路板等。Au和Pd中数十纳米的情况较多，广泛运用于对这些膜进行高精准度的测量和管理。 为了得到极薄镀层所发出的高灵敏度荧光X射线，聚光型光学系和半导体检测器的组合是必要的。本公司的FT9500/FT9500X系列，可应对诸如此类的测量需求。此次，发布了配备新型聚光型光学系和升级后VortexQ检测器的FT150系列，实现了更加高精度的测量。 本资料中，介绍了利用FT150对微小范围内Cu质地上薄的Au/Pd/Ni三层膜进行测量性能评价。另外，FT9500X也可测量并进行结果比较。 FT150系列 ■测量条件和标准物质 表1测量条件 测量条件① 测量条件② 装置 FT150 管电压 45 kV 45kV 光束直径(※) 30 umo 一次滤波器 无 AI500 测量时间 50秒 50少 测量方式 薄膜FP法 分析线 Pd La Ni Ka Cu Ka Au La (※)拥有相当于Mo Ka的能量在一次X射线中包涵了90% 强度的直径 作为标准物质，日立高新技术科学制薄膜标准物质 Au 0.049 um， Pd 0.038 um， Ni 1.07 um的这3个种类与Cu板上重合的东西1点登陆。 ■测量样品 日立高新技术科学制薄膜标准物质 相当于Au 0.013 um， Pd 0.012 pm， Ni 0.5 um(Ni0.496 um或0.469 um)重叠在Cu板上时，Technical Report No.43中使用的Au/Pd/Ni/Cu导线对接口样品的2点作为评价用样品测量。 FT150采用了新型聚光光学系和升级后的Vortex检测器， FT150比起以往机种FT9500X，可得到高强度的荧光X射线。 因此，如果比较FT150和FT9500X在同一测量时间内的重复性， FT150的测量偏差更小，更可实现高效高精准度的测量。 ■与以往机种的能谱比较 将同一种样品的大约同一个位置，用FT150测定的能谱与以往机种FT9500X测定的能谱相比。FT150测量出的Au及Pd形成一个大的波峰，实现了更高精准度的测量。 图1测量同一样品时的能谱比较 ■各测量样品的10次反复测量结果 对各测量样品进行反复测量，关于Au、Pd、Ni，与以往机种FT9500X作比较。 表2标准物质30次反复测量结果 FT9500X FT150 平均值 标准偏差 RSD% 平均值 标准偏差 RSD% Au(um) 0.0129 0.00040 3.1% 0.0131 0.00016 1.3% Pd(um) 0.0118 0.00031 2.6% 0.0111 0.00019 1.7% Ni(um) 0.4940 0.00116 0.2% 0.4676 0.00047 0.1% 表3导线对接口样品的10次重复性测量结果 FT9500X FT150 平均值 标准偏差 RSD% 平均值 标准偏差 RSD% Au(um) 0.0061 0.00018 2.9% 0.0062 0.00010 1.5% Pd(um) 0.0176 0.00058 3.3% 0.0180 0.00034 1.9% Ni(um) 0.9042 0.00164 0.2% 0.9045 0.00078 0.1% ※ 以上仅为测量案例，并不能保证两装置的性能。 日立仪器(上海)有限公司Hitachi Instruments (Shanghai) Co.，Ltd. ( 本社：上海市浦东新区张江高科技园区碧波路690号2号楼102室 TEL：+86-21-5027-3533 海币 东莞分公司：广东省东莞市长安镇长青南路306号金业大厦4楼 TEL：+86-769-8584-5872 )