无电解镍镀层膜中膜厚及磷成分分析检测方案

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HITACHIInspire the Next2015.2日立仪器(上海)有限公司Hitachi Instruments (Shanghai) Co.，Ltd.http：//www.hitachi-hightech.com/hig/C2015 Hitachi Instruments (Shanghai) Co.， Ltd. XRF No.85 荧光X射线分析 利用FT150进行无电解镍镀层膜厚和磷成分分析 无电解镍(镍-磷合金)镀层由于磷的含有率不同，镀层特性也不同。因此，不仅是镀层膜厚的分析，磷含有量的分析也是十分重要的。 为检测在大气气氛下微小量范围内磷的荧光X射线的高灵敏度，聚光型光学系和半导体检测器的组合是必要的。本公司的FT9500/FT9500X系列可应对诸如此类的测量需求。此次，发布配置了升级后聚光型光型系和Vortex@检测器的FT150系列，实现了更加高精准度的测量。 此份资料中，介绍了利用FT150同时测量铁上无电解镍和铜上无电解镍膜厚和磷含有量的案例。另外，也一同介绍了与FT9500X系列之间的比较。 FT150系列 铜上Ni-P镀层、铁上Ni-P镀层膜厚及磷成分分析案例 ■测量条件 表1FT150的测量条件 管电压 45kV 一次滤波器 无 测量时间 100秒 测量方法 薄膜FP法 分析线 PKa、 Ni Ka、Cu Ka ·测量样品和分析内容 ①Ni-P 11.29 pm (P 9.1 wt%)/Cu标准物质②Ni-P 10.96 um (P 9.8 wt%)/Fe标准物质 ※日立高新技术科学制 测量样品作为标准物质登记，进行10次反复测量 ■与以往机种的能谱比较 能量 图1无电解镍层中PKa线的荧光X射线能谱 (去除背景后的荧光X射线能谱重合描述) FT150以X射线检测系为中心，通过对各要素的重新确认，得知即便是FT9500X，也可得到高PKa线的强度，由此可知FT150有有出色的检测灵敏度，可实现磷的高测量精准度。 表2无电解镍镀层膜厚和磷含有量测量装置间的分析值比较 Ni-P/Cu Ni-P/Fe FT150 FT9500X FT150 FT9500X 元素 Ni-P(um) P (wt%) Ni-P(um) P(wt%) Ni-p (um) P (wt%) Ni-P (um) P (wt%) 平均值 11.28 9.3 11.14 9.0 10.91 9.9 10.92 9.7 SD 0.09 0.21 0.14 0.37 0.05 0.17 0.082 0.28 RSD 0.8% 2.3% 1.3% 4.1% 0.4% 1.8% 0.8% 2.9% FT150与FT9500X相比，检测的荧光X射线强度高，反复测量精度得到提升。 ※以上仅为测量案例，并不能保证两装置的性能。 ( 本社：上海市浦东新区张江高科技园区碧波路690号2号楼102室 TEL：+86-21-5027-3533 海币 东莞分公司：广东省东莞市长安镇长青南路306号金业大厦4楼 TEL：+86-769-8584-5872 )