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X射线光电子能谱（XPS）技术结合氩离子刻蚀技术可以有效对材料表面以及沿深度方向进行测试，以得到材料结构相关信息，不同的刻蚀模式的选择对结果有较大的影响。本文选用非贵金属Ni桥连NiS / g-C3N4复合材料，采用XPS技术对材料表面进行表征，结合团簇氩离子刻蚀技术对材料进行深度剖析，判断不同元素的化学状态信息。
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完成了NiS、C3N4、Ni-NiS/C3N4三种材料的XPS测试，且分别采用单氩离子与团簇氩离子刻蚀模式分别对Ni-NiS/C3N4复合材料进行刻蚀，由测试结果可知，采用团簇氩离子模式可以一定程度避免样品结构的破坏，得到样品沿深度的二维结构信息，结合其他表征证实该催化剂中低价态Ni物种及S物种的存在。岛津Axis Supra具备多模式离子刻蚀枪，通过一键操作便可实现不同模式的选择，提交程序后便可自动进行深度剖析，操作便捷。
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岛津企业管理（中国）有限公司为您提供《Ni-NiS/C3N4复合光催化剂中XPS测试及表征检测方案(X光电子能谱)》，该方案主要用于其他中其他检测，参考标准《暂无》，《Ni-NiS/C3N4复合光催化剂中XPS测试及表征检测方案(X光电子能谱)》用到的仪器有岛津/Kratos X射线光电子能谱仪AXIS SUPRA+。
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