《Small》氦离子辐照改善磁畴壁动力学和斯格明子稳定性，精确调控样品磁性！

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近年来，人们在不断探索新型低能耗，高存储密度的新型磁存储材料。特别是对于磁畴壁动力学、斯格明子等方面的研究吸引了大批科研人员的目光。随着研究的深入，制备出具有特定磁各项异性的材料并且进行精细的调控变的尤为重要。在对样品特性精细调控的技术中，利用氦离子辐照是对样品无损坏的一种高精度手段。氦离子辐照具有精度高、均匀性好、条件更加灵活、易于控制等优势，与其它改性方法相比，有利于器件或集成电路的大规模生产。基于此，法国Spin-Ion 公司经多年研发推出离子辐照磁性精细调控系统Helium-S®。该系统采用创新的离子束技术，可以通过超紧凑和快速的氦离子束设备精确控制原子间的位移，使其能够在原子尺度上加工材料，并通过离子束工艺来调控薄膜和异质结构。设备一经推出，便受到广大科学家的关注，截止目前全球已有20多家科研和工业用户以及合作伙伴使用该技术，国内也在北航和复旦等高校安装该系统，其独有的技术正受到来自相关科研圈和工业领域越来越多的认可。近期，来自于法国格勒诺布尔-阿尔卑斯大学CNRS-Institut Néel实验室的Stefania Pizzini团队联合法国Spin-Ion Technologies公司的两名工程师利用离子辐照磁性精细调控系统Helium-S®对Pt/Co/AlOx磁性薄膜进行了磁性调控研究。文章以“Improving Néel Domain Walls Dynamics and Skyrmion Stability Using He Ion Irradiation”为题发表在Small上。氦离子辐照量对样品的磁各向异性的影响文章讨论了使用离子辐照磁性精细调控系统Helium-S®对Pt/Co/AlOx三层膜的磁性能产生的影响。研究人员发现，氦离子辐照可以改善Néel磁畴壁的动力学和斯格明子的稳定性。辐照可以降低垂直磁各向异性（PMA），而不影响界面Dzyaloshinskii-Moriya相互作用（DMI）的强度。这使得磁畴壁可以在较低的磁场下达到更大的速度。该研究表明，将PMA与DMI分离对于基于磁畴壁动力学的低能耗设备的设计是有益的。同时，辐照还可以调节斯格明子的大小和稳定性，使其更加稳定并且可以在更高的磁场下存在。这些结果表明氦离子辐照可以对基于磁畴壁动力学和斯格明子的低能耗设备的设计产生积极影响。氦离子辐照量对样品的磁畴壁和斯格明子的影响 该项工作中使用的离子辐照磁性精细调控系统Helium-S®已经成为磁性薄膜研究与性能调控的重要手段。该系统可以对直径1英寸的晶圆进行扫描辐照，具有精度高，可控性好等特点。 应用领域：☛ 磁性随机存储器(MRAM)：自旋转移矩磁性随机存储(STT-MRAM)，自旋轨道矩磁性随机存储(SOT-MRAM)，磁畴壁磁性随机存储(DW-MRAM)等；☛ 自旋电子学：斯格明子，磁性隧道结，磁传感器等；☛ 磁学相关：磁性氧化物，多铁性材料；☛ 其他方向：薄膜改性，芯片加工，仿神经器件，逻辑器件等。 产品特点：☛ 可通过超紧凑和快速的氦离子束设备精确控制原子间的位移，通过氦离子辐照可精确调控磁性薄膜或晶圆的磁学性质。☛ 可提供能量范围：1-30 keV的He+离子束☛ 采用创新的电子回旋共振（ECR）离子源☛ 可对25 mm的试样进行快速的均匀辐照（几分钟）☛ 超紧凑的设计，节省实验空间☛ 可与现有的超高真空设备互联离子辐照磁性精细调控系统Helium-S® 参考文献：[1]. Cristina Balan, Johannes W. van de Jagt, et al. Improving Néel Domain Walls Dynamics and Skyrmion Stability Using He Ion Irradiation. Small, 2023. https://doi.org/10.1002/smll.202302039 >产品主要应用领域 磁性随 机存 储器 (M R A M )：自 旋 转 移矩 磁 性 随 机 存 储 (STT -MR AM )，自 旋轨 道 矩磁性随机 存 储 (SO T -M R A M )，磁 畴 壁 磁 性随 机 存 储(DW-M RAM )等 ； 自 自 旋电 子 学 ：斯 格 明子，磁性隧 道 结 ，磁传感器等 ； 磁 学 相关：磁性 氧 化物，多 铁 性 材料 等； 其 他：薄 膜改性 ，芯片加工 ，仿神 经器 件，逻辑 器件 等。 >产品特 点 可 通过紧凑和快速的 氦离子束设 备 准 确控制原 子 间的位 移 ，通 过离子辐照可准确调控 磁 性 薄 膜或晶 圆 的磁 学 性 质 。 可提供能 量范围为 1-30 keV 的 He + 离子 束； 采 用 创新的电 子回 旋共振 (E CR)离子源； 口 可 对 25毫米的 试样 进行 快速的均 匀 辐照(如几分钟)； 紧凑 的 设计，节省实 验 空 间； 七 也可与 现 有的 超高 真空设 备互 联 。 >基本参数 离子束种类 ·氦离子(Het) ·可能产生的离子：氢离子(H*) 能量范围 ·1-30keV ·分辨率<50eV 典型离子通量 在 10uA 时，1015离子数/平方厘米/分钟 电流范围 1-50pA(按能量不同) 离子束滤波器 Wien 滤波器 离子束扫描 · X-Y 双轴位移 ·扫描区域：25mmx25mm 均匀性 ·强度：<+/-1% ·角度：<+/-3° 离子束纯度 1/10000 真空度 最大10-7 mbar 尺寸 ·紧凑设计 ·长度<1.5m 软件 ·可实现离子束参数的全面控制 · PLC 控制 辐照腔 可对 25mm 晶圆进行辐照 高温转角选件 可控制不同的辐照角度，可加热温度至500℃ Load lock) 和辐照腔集成，可快速进样25mm 晶圆大小样品