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紫外臭氧清洗机是一款用于无机基材表面有机污染物去除的表面清洗设备。
低压紫外汞灯能够同时发射波长254nm和185nm的紫外光，在这两种短波紫外光的照射下，活化有机物分子与活性氧原子发生氧化反应，生成挥发性气体逸出样品表面，从而彻底清除粘附在样品表面上的有机污染物。
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在印制电路板生产中进行光清洗后，可以提高导线焊接时熔焊的接触面积，增加连接强度， 进而提高印制电路板的质量； LCD、OLED生产中进行光清洗后，可以提高基体表面润湿性，进而增强基体表面的粘合力； 集成电路领域，光清洗可以实现表面的原子清洁度，而且对芯片表面不会造成损伤； 光清洗还可以应用于提高半导体粘合力、清洗彩色滤光片表面有机污染物、提高光学玻璃镀 膜质量等场景； 此外，对清除石蜡、松香、油脂、人体体油、残余光刻胶、环氧树脂、焊剂；以及带有氧化 膜的金属表面处理，去除导电聚酰亚胺粘合剂上的有机污染物，光清洗都是十分有效的方法。
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山东罗丹尼分析仪器有限公司为您提供《清除粘附在样品表面上的有机污染物》，该方案主要用于电子元器件产品中物理性质检测，参考标准《暂无》，《清除粘附在样品表面上的有机污染物》用到的仪器有紫外臭氧清洗机。
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