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【分享】MYCRO韩国产光刻机MDA-8000

常用设备综合讨论


  • 晶片工作台       
    基底尺寸    最大可达8英寸    最大可达25英寸
    转头    最大可达8英寸    最大可达25英寸
    活动范围       
    X     10mm   
    Y    10mm    
    Z    5mm   
    Theta    4 degree    
    对准精度    1um    
    晶片掩膜间隙    自动挤入补偿   
    振动保护    配备抗振平台   
    Z的西塔轴运动    Motorizing 马达驱动   
    真空系统    无油真空泵   
    Mask stage
    掩膜台       
    掩膜夹取类型    真空*剪辑
       
    相邻间隙    掩膜与晶片接触    间隙球
    紫外光源       
    紫外灯    1千瓦    可达8千瓦
    均匀光束大小    8.25x8.25英寸    可达25x25英寸
    曝光模式    压力/真空/相邻   
    曝光时间控制    可编程的   
    曝光定时器    1 ~ 999.9 秒    
    显微镜       
    型号    双变焦范围显微镜与CCD镜头   
    监视器    LCD监视器   
    视频模式    单一和剪辑型    
    放大倍数    80 ~ 500倍    1,000倍
    聚焦方式    手动的    自动的(可视化软件)
    目标间距    可调的   
    控制系统       
    控制器    电脑或单片机控制   
    掩膜(用户自定义)       
    图案形状    用户自定义   
    掩膜厚度(用户自定义)       
    尺寸    可达9英寸掩膜    用户自定义

    系统组件:
    紫外光源构造
    带托盘的晶片工作台
    配CCD镜头的显微镜
    监视器
    掩膜夹具
    紫外光源透镜
    紫外光源镜片
    紫外灯电源供应系统
    操作控制器
    防振平台
    1KW紫外灯
    +关注 私聊
  • atlas

    第1楼2008/11/05

    与SUSS的相比,价格要是有优惠还不错!

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    +关注 私聊
  • yuduoling

    第2楼2008/11/06

    不错,还没用过韩国的东西呢

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