【讨论】场发射的真空就这么牛？

是样品太干净了吧？

双喷样品，看起来的确比较干净，可朋友说他看样品也没啥特殊处理啊。难道是样品放置于空气中的时间太短？

先用电子束（最好是EDS模式）对一个点进行1分钟的大电流密度辐照，而后一般就会产生一个污染斑，而后倾转样品，使污染斑变成两个，测量二者间距和倾转角，可以得到样品的大致厚度。

这样真的可以测量出样品的厚度吗？我以前试过2100F在EDS模式下是可以打出污染斑的。

不太熟悉，好像某本书里面有用这个方法的，也有用迹线法，但首先也要造污染点。
我们也是2100F，普通碳膜不用EDS模式也能造污染斑，可他的样品不知道为什么一点迹象都没有，是不是聚焦不对劲？

量試片厚度不是這樣量的...

看到快昏倒...

量試片厚度可以用計算thickness fringes

或是 CBED , EELS等方式去計算~

絕對不是你朋友說的那樣~

此外~EDS mode是analysis mode

電子束本來就非常弱...

EDS模式下束流密度可不弱

这是估算样品厚度的方法是有的。

小弟才疏學淺...不曉得那一位天才想出來的...

(或是有那一本書中有提到此法)

就我所知~試片厚度似乎不是用這麼粗糙的方式

去量測

回到問題...

如果你硬要打出痕跡~很簡單~把所有的aperture拿掉~

直接轟試片~

回某樓...

EDS mode的電子束是聚焦束~通常beam大小只有1~5 nm

一定比image mode還弱~