关于TG支架的污染问题

大家在提供这样一个名单得同时，不妨同时探讨一下防止发生或者减少得方法，我知道可以通过增加气氛流量得方法～～

测金属或合金时要查该金属元素在测试最高温度下的蒸气压，如果蒸气压较高，说明升温到该温度时样品已经相当部分挥发出来了，就不能测。

金属Mg在熔融前的蒸气压较高，镁污染似乎发生的较多...

谢谢！

我也需要这方面的知识，请各位高手多传授一些，污染之后再处理就麻烦了

我们实验室主要就是搞镁合金的，查了别人的文献，做到700c，可是最近做了几个试样之后发现STA449F3支架上面有一些黑色的沉积物，坩埚用的是氧化铝的， 改用石墨坩埚是不是要好些？？

这应该与坩埚材质关系不大。

如果样品分解的易凝结产物很多，那应该加大扫气流量，将分解物尽快带出仪器；如果样品加热后容易飞溅，或者灰分容易飘散，那应该在坩埚上加盖，防止固体分解物散落到支架上；如果样品加热后会发泡、膨胀，溢出坩埚，那应该减少样品量。