仪器信息网APP
选仪器、听讲座、看资讯

求幾篇文獻

文献检索-互助

  • 【序號】:1

    【作者】:U. Krause , M. List, H. Fuchs

    【篇名】:Requirements of power supply parameters for high-power pulsed magnetron sputtering

    【期刊】:Thin Solid Films Volume 392, Issue 2, 30 July 2001, Pages 196-200

    【全文連接】:http://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S0040609001010276

    【序號】:2

    【作者】:佟洪波 柳青 巴德純 TONG Hong-bo LIU Qing BA De-chun

    【篇名】:反应磁控溅射研究进展

    【期刊】:真空 2008, 45(3)

    【全文連接】:http://d.wanfangdata.com.cn/periodical_zk200803013.aspx

    【序號】:3

    【作者】:茅昕輝 陳國平 蔡炳初

    【篇名】:反应磁控溅射的进展

    【期刊】:真空 2001, (4)

    【全文連接】:http://d.wanfangdata.com.cn/Periodical_zk200104001.aspx

    【序號】:4

    【作者】:李芬; 朱穎; 李劉合; 盧求元; 朱劍豪;

    【篇名】:磁控溅射技术及其发展

    【期刊】:真空電子技術 , 2011年 03期

    【全文連接】:http://cnki50.csis.com.tw/kns50/detail.aspx?QueryID=3&CurRec=17

    【序號】:5

    【作者】:宋瑞良 張毅 劉瑋 蔡永安 于濤 孫云

    【篇名】:磁控溅射ZAO薄膜的磁场研究

    【期刊】:第十一屆中國光伏大會暨展覽會論文集

    【全文連接】:http://www.pv001.net/22/5/5452.html
0
  • 该帖子已被版主-灰米奇加3积分,加2经验;加分理由:参与应助
    +关注 私聊
  • dahua1981

    第2楼2011/11/08

    应助达人

    444444444444

0
  • 该帖子已被版主-灰米奇加4积分,加2经验;加分理由:参与应助
0
    +关注 私聊
  • dahua1981

    第4楼2011/11/08

    应助达人

    22222222222

0
    +关注 私聊
  • dahua1981

    第5楼2011/11/08

    应助达人

    333333333333

0
0
    +关注 私聊
  • dahua1981

    第7楼2011/11/08

    应助达人

    555555555555

0
    +关注 私聊
  • hanc1202

    第8楼2011/11/08

    感謝各位的熱情相應!!

0
猜你喜欢最新推荐热门推荐更多推荐
举报帖子

执行举报

点赞用户
好友列表
加载中...
正在为您切换请稍后...