尼高力FTIR分析的四氯化硅杂质，请帮忙解释各峰的意思，谢了！

本人是红外新手，请大家帮忙啊！

样品是如何制备的？

应助达人

好像和正常的差异太大，是吧

10厘米不锈钢样品池，氟化钙镜片，平时用氮气吹扫，取样时先四氯化硅冲洗再取样密封。我们是做的高纯四氯所以看里面的杂质，大于2000波数的我大概明白了，问题是小于2000波数的峰很高到底是什么！

这些峰全部是其各种基频峰的倍频峰。
对四氯化硅来说，其最基本的振动是位于610波数处的振动基频，这个峰就是氯硅键的反对称伸缩振动，其相应的对称伸缩振动位于424波数处，别外还有相应的弯曲振动及变形振动等，都在中红外以外的范围了。
本图中波数最高的峰是反对称伸缩振动的三倍频峰在1830左右（由于本方法用的是氟化钙，所以其二倍频峰在1220左右是看不到的）。1644处也是一个组合频峰，这个峰在四氯化硅的红外光谱中一般是最强峰；1450左右也是一个组合频峰。
2000以上的你知道了，我也就不说了。

你应该使用这个液体池，锗片窗片全部防腐特氟龙

您好!我给您发消息了，可以再进一步与您交流吗?在红外分析四氯和四锗的过程中我们发现了一些问题，求指导。谢谢!

谢谢了！

杂质一般是什么来的？