ICP-MS
nphfm2009
第1楼2013/07/06
应该是氧化镥中的基体干扰造成的
狼牛牛
第2楼2013/07/06
呀 遇到了一个新品的了不过我们是Qa 我用铑做的内标 似乎也出现了类似问题 不过我的好像是进样系统堵塞导致的。 不知道楼主的进样系统有没有出现过堵塞啊?我仪器老堵塞呀
无机麦地
第3楼2013/07/06
老堵塞 那是你样品处理的问题内标应该是强度下降吧,基体太大会导致内标强度下降
简单的ZML
第4楼2013/07/06
不是赌赛,我们查看过 并且一测标准就是正常,一次样品就降低好多。我们标准和样品里都有镥集体的。
第5楼2013/07/07
哦 这个就不清楚啦 我也是刚开始接触MS 以后咱仪器应该还是有共同点 您多指导呀
timstoicpms
第6楼2013/07/07
准确地说应该是 基体抑制。基体干扰是指,基体形成的多原子团 叠加到待测核素质谱峰上。例如2% HCl基体,35Cl16O对51V、37Cl16O对53Cr这才叫基体干扰。
第7楼2013/07/07
基体抑制都有哪些影响原因,怎样解决呢?
第8楼2013/07/07
固体稀释2000-3000倍,基体效应就不显著。但此时杂质元素浓度很低,能否测准又是一个问题。鱼和熊掌不可兼得啊
第9楼2013/07/08
可否用离子树脂将其氧化镥基体给予去除呢
第10楼2013/07/08
这位大侠,可否用过分离基体的装置呀,我们也想装,不过不太懂呵呵
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