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ICP-MS二次放电位置

  • kenterfeng
    2014/06/12
  • 私聊

ICP-MS

  • 悬赏金额:20积分状态:已解决
  • 请教各位老师,ICP-MS二次放电的位置是在等离子体与采样锥之间Or采样锥与截取锥之间的扩散区?

    另:二次放电的具体形成原理是什么?看了王小如、李冰、刘虎生等的书都没有很详细的说明,有的还前后矛盾。

    有的说是:由RF线圈与等离子体间存在电容耦合产生约几百伏的电势差如果不能有效消除的话将会导致等离子体与样品锥(是采样锥还是截取锥?间的放电现象称为二次放电)。

    有的说是:点炬之后等离子体会直接打到接口锥上,由于电子迁移的速度远远快于带正电荷的离子,导致采样锥、截取锥的电压会升高,与线圈之间会形成较高的电势差而产生二次放电。

    如果二次放电在两锥之间,那屏蔽圈又怎样可以降低电势。都说降低电势,但具体怎样降低。

孩孩才不是书痴呢 2014/06/15

据我所知道的,二次放电主要是因为等离子体中有大量的电子,而屏蔽矩是接地的,可以将电子导出等离子体,防止电子在金属的样品锥积蓄造成电压升高,而正离子到达电压高的样品锥时,必然导致正离子和电压高的样品锥突破击穿电压导致二次放电。至于第一个问题,我觉得两个区域都存在吧。

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  • 孩孩才不是书痴呢

    第1楼2014/06/15

    据我所知道的,二次放电主要是因为等离子体中有大量的电子,而屏蔽矩是接地的,可以将电子导出等离子体,防止电子在金属的样品锥积蓄造成电压升高,而正离子到达电压高的样品锥时,必然导致正离子和电压高的样品锥突破击穿电压导致二次放电。至于第一个问题,我觉得两个区域都存在吧。

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