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ICP测硅含量

  • 樱紫漠60
    2015/06/03
  • 私聊

ICP光谱

  • 请教大家一下,为什么每次我们测硅(256nm的波长)的时候,空白都相差很大呢,有时候几千,有时候几万,甚至有几十万的,还有我们测钙元素的时候,也有这种情况,这是由于水质的问题吗?之后,我打电话问过PE的应用工程师,说是因为自然界中硅含量较多的原因,这是说空气中硅含量的影响嘛,而且我发现确实是放置时间越久,硅强度越高,而且测样过程中还发现,样品的硅含量逐渐增加,大家有没有碰到过类似现象?
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  • tang566

    第1楼2015/06/03

    应助达人

    空白样品处理过程中有污染或仪器的进样系统有残留。

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  • tang566

    第2楼2015/06/03

    应助达人

    直接接纯水机的里的水来测硅,看响应有多少

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  • 樱紫漠60

    第3楼2015/06/03

    我说的就是校准空白,不是试剂空白啊,刚开始我也觉得是仪器中有残留,但是用2%HNO3清洗后,强度还是很高

    tang566(tang566) 发表:空白样品处理过程中有污染或仪器的进样系统有残留。

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  • 樱紫漠60

    第4楼2015/06/03

    tang566(tang566) 发表:直接接纯水机的里的水来测硅,看响应有多少
    我说的就是校准空白,纯水的硅含量,很高

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  • y461008341

    第5楼2015/06/03

    你说的几千,几万是什么。强度吗,还是什么?

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  • tang566

    第6楼2015/06/03

    应助达人

    可能没有冲洗干净,多冲洗一下,或者你用的试剂中含有硅

    樱紫漠60(v2650777) 发表: 我说的就是校准空白,不是试剂空白啊,刚开始我也觉得是仪器中有残留,但是用2%HNO3清洗后,强度还是很高

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  • Michael

    第7楼2015/06/04

    我猜这是由于操作习惯没养好,之前的样品做完之后没有用酸洗干净就关机了,导致的残留记忆效应。
    另外硅清洗至少要洗半个小时,我的经验是这样,那样浪费气,一般我是习惯作样之前把矩管和雾化室提前浸泡一晚。

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  • abcpgf

    第8楼2015/06/05

    应助达人

    是的,你的试剂或许有问题,我们测试就没有那么高的。

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  • 樱紫漠60

    第9楼2015/06/09

    我们也是觉得太浪费氩气,一般都是清洗两三分钟左右,你们一把用什么溶液清洗啊?

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  • 樱紫漠60

    第10楼2015/06/09

    是啊,指的就是硅的强度

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