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求助,高精度ICP MS机台求教!

ICP-MS

  • 各位大大:
    我们计划购买一台ICP MS测量硅片表面各种金属离子浓度,因为在这方面是完全小白,求助各位大神;
    测量对象:硅
    测量指标:5E10/cm2(最好精度能达到1E11);
    要求:操作简便,分析数据准确,易维护;
    请问业界那些ICP MS可以满足;
    小弟不胜感激!
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  • gz07apple

    第1楼2016/11/03

    VPD配安捷伦7900半导体型

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  • wolfly2007

    第3楼2016/11/04

    ICP-MS各家都有测多晶硅的模块,应该是都能满足,不过价格较普通的要高,无非就是那几大家在做ICP-MS,thermo,PE,耶拿等等

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  • gz07apple

    第4楼2016/11/04

    楼上在瞎扯,人家要测得是wafer表面杂质金属,跟多晶硅有个毛关系。。。

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  • siri

    第6楼2017/05/08

    冷等离子体测电子材料

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  • 光哥

    第7楼2017/05/08

    应助工程师

    多晶硅的表金属、体金属测试,与wafer表面金属测试方法上差得很远。这位仁兄应该是没接触过这个吧
    顺便放一篇文章供参考

    wolfly2007(wolfly2007)发表:ICP-MS各家都有测多晶硅的模块,应该是都能满足,不过价格较普通的要高,无非就是那几大家在做ICP-MS,thermo,PE,耶拿等等

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