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三重四级杆中离子源与碰撞池

气质联用（GCMS）

  • 三重四级杆中离子源与碰撞池的作用一个是使样品离子化（电子撞击），一个是是离子碎片化（气体撞击），请问电子撞击和气体撞击的差别是什么呢？离子化是否也可以用气体来撞击，或者CID是否也可以用电子来撞击呢？谢谢。
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  • 该帖子已被版主-symmacros加2积分，加2经验;加分理由:发帖。
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    +关注 私聊

  • winterpeak

    第1楼2017/08/06

    应该是气体撞击的能量更大，母离子才能被打得更碎。

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  • qqqid

    第2楼2017/08/08

    电子撞击离子化就是EI源，气体撞击离子化就是CI源，离子化能不能用气体撞击就不用纠结了。

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  • yifan1117

    第3楼2017/08/08

    恩，离子化不能气体撞击的。

    qqqid(qqqid) 发表:电子撞击离子化就是EI源，气体撞击离子化就是CI源，离子化能不能用气体撞击就不用纠结了。

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  • 郑嘉

    第4楼2017/09/01

    CI源应该不是用气体撞击吧，只是用电子撞击反应气，然后反应气与样品反应。

    qqqid(qqqid) 发表:电子撞击离子化就是EI源，气体撞击离子化就是CI源，离子化能不能用气体撞击就不用纠结了。

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