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en 71-3:2019六价铬方法确认

  • feisufei11
    2019/11/05
  • 私聊

实验室认可/资质认定

  • 各位朋友,

    大家好!最近在做EN 71-3:2019六价铬的方法确认,用ic-ICPMS测试,买了一个万通的ic连PE的ICPMS 300x,由于只有一路气只能用了CH3气体做反应气,Cr52有CIO干扰无法去除,导致Cr6+前面有一个很大干扰峰无法去除。目前最麻烦的事是空白一直做出来比标液峰面积和峰高都大很多,已经重新配制依旧如此。按照标准配制标液,0.02,0.04,0.08,0.12,0.16ppb,线性倒是呈线性,但是每次做出来线性都只有98多。请问各位可能是什么原因导致空白和线性不好?
    +关注 私聊
  • 小卡

    第1楼2024/09/20

    空白比标液峰面积和峰高都大很多,有可能是实验过程中引入了污染,比如试剂、容器或者环境中的污染。可以检查一下所用的试剂是否纯净,容器是否清洗干净,实验环境是否干净整洁。线性不好可能是仪器的稳定性问题,或者标液配制不准确。可以多做几次标液配制和测试,确保标液的准确性。也可以检查一下仪器的参数设置是否合适,比如气体流量、温度等。另外,干扰峰无法去除可能需要进一步优化实验条件,比如调整反应气的种类或者流量,或者采用其他的去除干扰的方法。希望这些建议能对你有所帮助

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