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质量轴更新后对已确定检测方法的影响

  • Insp_1f5fcc5
    2022/03/30
  • 私聊

液质联用(LCMS)

  • 请教一下各位老师,例如说我已经完成的对目标化合物的方法开发,使用液质连用,检测化合物的峰面积在10w左右。
    在质谱维护更新质量轴后,同样的方法再进样峰面积只有7w,这样正常吗?为什么更新后重新进样响应会下降很多?
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  • 歌名

    第1楼2022/03/30

    应助达人

    1.理论上校正后同一个化合物方法相同、流动相一样、浓度一样的情况下响应差异不会太大。
    2.引起响应差异大可能的原因--------质谱维护,很多情况下做LCMSMS的校正都是做了质谱前端甚至更深度的维护后才做校正,而做质谱前端维护和更深度的维护一般都是仪器脏了才会去做,脏了仪器就会影响化合物的响应强度。所以引起楼主的响应强度差异更大可能是做了维护而不是校正哈

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  • 第2楼2022/03/30

    应助达人

    质量轴校正前摸的离子对和校正后的离子对不一致了,比如校正前(质量轴偏)350.3,校正后再用350.3就不行了,可能需要摸到250.1,250.2才行

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  • Dxhuang

    第3楼2022/03/30

    重新扫一下离子,大概率能解决问题。。30%的响应偏差,可能是因为质量轴修正回去以后导致的。

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  • hujiangtao

    第4楼2022/03/30

    应助达人

    质量轴校正后加在四级杆射频电压会有变化,待测物原来的质谱条件也需要重新调谐,设置MRM方法时一般把质荷比±0.2能在最大范围内采集目标物

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  • Insp_1f5fcc5

    第5楼2022/03/30

    有什么办法可以修正这种变化

    歌名(Ins_eedcdc41) 发表:1.理论上校正后同一个化合物方法相同、流动相一样、浓度一样的情况下响应差异不会太大。2.引起响应差异大可能的原因--------质谱维护,很多情况下做LCMSMS的校正都是做了质谱前端甚至更深度的维护后才做校正,而做质谱前端维护和更深度的维护一般都是仪器脏了才会去做,脏了仪器就会影响化合物的响应强度。所以引起楼主的响应强度差异更大可能是做了维护而不是校正哈

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  • Insp_1f5fcc5

    第6楼2022/03/30

    那就相当于重新找离子对的过程?

    Dxhuang(Insm_7cc623c4) 发表:重新扫一下离子,大概率能解决问题。。30%的响应偏差,可能是因为质量轴修正回去以后导致的。

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  • Insp_1f5fcc5

    第7楼2024/04/09

    确实,这样有改善

    Dxhuang(Insm_7cc623c4) 发表:重新扫一下离子,大概率能解决问题。。30%的响应偏差,可能是因为质量轴修正回去以后导致的。

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