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【转帖】不同仪器在待机状态时，到底需不需要N2

瓢虫

2007/04/29

液质联用（LCMS）

不同公司的仪器要求不一样：
AB的仪器的N2不能停，主要是怕外面气体进去污染，如果停气，系统会停真空保护;
TSQ有个东东能堵上锥孔，可以停气。

AB的仪器设计了更严密的保护措施，因为它的那个孔好象不能堵，只能用氮气保护。偶做的LCQ（离子源跟TSQ应差不多），虽然待机时不用氮气也不会停真空，但还是要把锥孔堵起来的（这个不是仪器自动，而你自己要在样品做完后堵），如果不堵，离子源也是会被污染的。工程师一般都会用电晕针来堵锥孔，其实用AGILENT气相用的进样口隔垫更好（用过的就行了，不要用新的），不过要用比较锋利的刀切薄薄的一小片下来，光滑的那一面朝锥孔贴上去就会被吸住。用针堵源区的真空只能上升到0.05-0.06T左右，而用隔垫堵源区真空可达到0.01-0.02T，至少0.02T。

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妮可

第1楼2007/04/30

我们的是堵上，
然后可以不通N2

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妮可

第2楼2007/04/30

楼主，您用的是Finnigan的LCQ Advantage Max吗？？
我们的也是这个型号，呵呵。
liang_sp 发表:不同公司的仪器要求不一样：
AB的仪器的N2不能停，主要是怕外面气体进去污染，如果停气，系统会停真空保护;
TSQ有个东东能堵上锥孔，可以停气。

AB的仪器设计了更严密的保护措施，因为它的那个孔好象不能堵，只能用氮气保护。偶做的LCQ（离子源跟TSQ应差不多），虽然待机时不用氮气也不会停真空，但还是要把锥孔堵起来的（这个不是仪器自动，而你自己要在样品做完后堵），如果不堵，离子源也是会被污染的。工程师一般都会用电晕针来堵锥孔，其实用AGILENT气相用的进样口隔垫更好（用过的就行了，不要用新的），不过要用比较锋利的刀切薄薄的一小片下来，光滑的那一面朝锥孔贴上去就会被吸住。用针堵源区的真空只能上升到0.05-0.06T左右，而用隔垫堵源区真空可达到0.01-0.02T，至少0.02T。

0

luck_sheep

第3楼2007/11/27

大家有没有QQ呀，好方便交流，这样太累了，想知道，又要等很久。怎么堵？要把进样口的那一大佗拆下来？

0

gentlehorse

第4楼2007/11/28

Agilent的待机时也不能停N2，只是流量开的小了些，还是蛮浪费的

0

amberjack

第5楼2007/11/29

我们的也是Agilent的，但不用时用气相隔垫堵上后就可以停N2了。
gentlehorse 发表:Agilent的待机时也不能停N2，只是流量开的小了些，还是蛮浪费的

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dickwang2008

第6楼2007/11/29

Waters的仪器在待机状态下可以关掉氮气，省钱啊

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