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【求助】在基片上镀膜或生长的薄膜该如何制成TEM试样而不使其受到破坏?

透射电镜(TEM)

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  • hinicalon

    第1楼2007/05/15

    如果不关心镀层和基底的结合界面,而且膜镀完后可以取下来的话,制样相对简单,冲个3mm的片,然后减薄,减薄的成功率也较高,有薄区即可观察。
    否则的话,一般需要作横向的包埋,然后机械磨,手工磨,冲片,凹坑,减薄..相对麻烦一些,而且由于减薄位置要求相对严格,有失败率。

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  • outstanding

    第2楼2007/05/23

    普通的冲片-凹坑-减薄方法成功率是非常低的,基本上不可能。我是用磁控溅射做薄膜的。建议你可以采用NaCl做基底,可能耐到600度以上。在用水容调基板。用铜网捞起薄膜,也可以减薄。希望能解决你的困难

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  • sun-guo

    第3楼2007/09/08

    截面样品的制备只是需要高超的技巧和耐心而已,经过训练,成功率还是可以保障的,没有“基本上不可能”一说。另外,如果条件允许的话,也可以用FIB制备薄膜样品

    outstanding 发表:普通的冲片-凹坑-减薄方法成功率是非常低的,基本上不可能。我是用磁控溅射做薄膜的。建议你可以采用NaCl做基底,可能耐到600度以上。在用水容调基板。用铜网捞起薄膜,也可以减薄。希望能解决你的困难

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