产品介绍
特点:
• 用于集成电路加工、lift-off工艺、激光干涉曝光等
• 感光波段:i-line(365nm)、g-line(436nm)
• 化学放大胶,具有非常高的灵敏度
• 高分辨率、高对比度
• 可得到undercut结构,用于lift-off工艺
旋涂曲线:
应用实例:
欢迎致电咨询(电话:010-82867920/21/22),更多光刻胶信息请查看官网:http://www.germantech.com.cn/new/cplook.asp?id=514
供应商
铜牌会员 第24年