锤子
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GL8 CLIV Gen2是天仁微纳新型全幅高精度紫外纳米压印设备,标配天仁微纳CLIV(Contact Litho in Vacuum)压印技术,可实现200mm基底面积上高精度(优于10nm )、高深宽比(优于10比1 )纳米结构复制量产。 GL8 CLIV Gen2 & GL12 CLIV Gen2 2inch/100/150/200mm & 2inch/100/150/200/300mm是天仁微纳新型全幅高精度紫外纳米压印设备,可实现200/300mm基底面积上高精度(优于10nm )、高深宽比(优于10比1 )纳米结构复制量产。 该设备支持自动复制柔性复合工作模具,工作模具具有精度高,寿命长等特点,可以显著降低大面积纳米压印工艺中模具使用成本。保证了大面积纳米压印过程中结构精度与高深宽比结构的完整填充,同时保证了大面积结构压印均匀性。 GL8/12 CLIV纳米压印设备适用于DOE、AR/VR衍射光波导(包括斜齿光栅)、生物芯片、LED、微透镜阵列等应用领域的量产。 主要功能 ● 经过量产验证的200mm大面积、高精度、高深宽比纳米压印 ● CLIV技术,确保压印
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