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全自动纳米压印光刻生产线GL300 Cluster
200/300 mm
GL300 Cluster是模块化的全自动纳米压印生产线，集成了从纳米压印基底清洗、涂胶、烘烤、冷却直至纳米压印全套工艺步骤。标配天仁微纳专利CLIV（Contact Litho in Vacuum）压印技术，可实现200/300mm基底面积上全自动高精度（优于10nm ）、高深宽比（优于10比1 ）纳米结构复制量产。设备采用模块化设计，用户可以根据工艺需求和生产节奏自由配置清洗、涂胶、烘烤、冷却、Plasma表面处理、AOI检测、Post Cure以及压印的模块数量，达到最优的生产效率。设备支持自动工作模具复制、工作模具自动更换、自动预处理和压印、自动脱模，整个工艺过程在密闭洁净环境中进行，以保证压印结果质量。
GL300 Cluster纳米压印设备适用于DOE、AR/VR衍射光波导（包括斜齿光栅）、线光栅偏振、超透镜、生物芯片、LED、微透镜阵列等应用领域的大规模量产。
主要功能
●全自动200/300mm大面积、高精度、高深宽比纳米压印生产线
●确保压印结构精度与结构填充完整性
●设备内自动复制柔性复合工作模具，降低大面积纳米压印模具使用成本
●全自动预处理步骤，包括基材兆声波清洗、旋涂匀胶、烘烤、冷却
●自动压印、自动曝光固化、自动脱模，工艺过程在局部洁净环境中自动进行，以保证压印质量
●标配高功率紫外LED面光源（365nm，光强>1000mW/cm2 ），水冷冷却，特殊功率以及特殊、混合波长光源可订制，完美支持各种商用纳米压印材料
●产能可大于100片每小时，适合DOE、AR/VR衍射光波导（包括斜齿光栅）、生物芯片、LED等应用领域的量产
●随机提供全套纳米压印工艺与材料，包括DOE、AR斜齿光栅、高密度、高深宽比结构等工艺流程，帮助客户零门槛达到高质量的纳米压印水平
设备照片
相关参数
| 兼容基底尺寸 | 200mm、300mm 特殊尺寸可定制 |
| 支持基底材料 | 硅片、玻璃、石英、塑料、金属等 |
| 上下片方式 | Cassette to cassette全自动上下片 |
| 晶圆预对位 | 光学巡边预对位 |
| 纳米压印技术 | CLIV技术，适合高精度、高深宽比纳米结构压 |
| 纳米压印预处理工艺步骤 | CLIV技术，适合高精度、高深宽比纳米结构压印、清洗（毛刷、二流体、兆声波）、旋涂匀胶、加热烘烤、冷却、plasma表面处理 |
| 压印精度 | 优于10纳米* |
| 结构深宽比 | 优于10比1* |
| 残余层控制 | 可小于10nm* |
| 紫外固化光源 | 紫外LED（365nm）面光源，光强>200mW/cm2，水冷冷却（2000mW/cm2类型光源可选配） |
| 设备内部环境控制 | 标配，外部环境Class 100，内部环境可达Class 10* |
| 自动压印 | 支持 |
| 自动脱模 | 支持 |
| 自动工作模具复制 | 支持 |
| 自动工作模具更换 | 支持 |
| 模具基底对位功能 | 自动对位（选配） |
| Post Cure | 选配 |
| AOI在线检测 | 选配 |
| 产能 | 可大于100片每小时* |
如想了解更多产品信息，可通过仪器信息网和我们取得联系 400-860-5168转6144
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全自动纳米压印光刻生产线GL300Cluster2024-04-15
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