锤子
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GL8 MLA Gen2是一种专门为晶圆级光学加工(WLO-Wafer Level Optics)开发的全幅紫外纳米压印设备,可在200mm基底面积上平行复制生产聚合物光学器件。 GL8 MLA Gen2是一种专门为晶圆级光学加工(WLO-Wafer Level Optics)开发的全幅紫外纳米压印设备,可在200mm基底面积上平行复制生产聚合物光学器件。 该设备支持从晶圆级母模具表面自动复制柔性复合工作模具,工作模具具有精度高,寿命长等特点,可以显著降低大面积纳米压印工艺中模具使用成本。内置的点胶系统、APC(主动模具基底平行控制)技术、以及自动脱模功能都保证了大面积晶圆级光学生产的精度、均匀性(TTV)与良率。同时,自动模具基底对位系统还可实现晶圆之间对位堆叠工艺(WLS-Wafer Level Stacking)。 GL8 MLA纳米压印设备适用于DOE、匀光片(Diffuser)、微透镜阵列、菲涅尔透镜等产品的研发和量产。 主要功能 ●经过量产验证的200mm晶圆级光学生产(WLO)设备 ●APC主动模具基底平行控制技术,确保大面积晶圆压印TTV均匀性 ●设备内自动复制柔性
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