牛津仪器PlasmaPro 100 Cobra刻蚀和沉积设备
牛津仪器PlasmaPro 100 Cobra刻蚀和沉积设备
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牛津仪器PlasmaPro 100 Cobra刻蚀和沉积设备

参考价：¥80万 - 100万
型号： PlasmaPro 100 Cobra
产地： 英国
品牌： 牛津仪器
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应用领域：
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核心参数
创新点
最新的单晶片刻蚀技术- PlasmaPro 100 Sapphire。牛津仪器致力于固态照明的技术革新，凭着在HBLED相关材料方面经验丰富，设备使用成本控制和符合产量要求的同时，我们的新技术还可以最大化地提高客户的产品良率。 ?针对HBLED苟刻的化学环境要求，PlasmaPro 100 Sapphire具有特殊的设计，可以在直径为200mm的晶片上进行快速和均匀的刻蚀。牛津仪器一直努力地为客户提供创新的、有效控制成本和可靠的工艺方案。这个最新设计的设备满足了所有的要求。 主要特点和优势包括：具有独家的静电吸盘技术，能固定蓝宝石，和生长蓝宝石或硅上的氮化镓；高功率的ICP能生产出高密度的等离子体；磁隔离区可提高离子控制和均匀性；高电导泵水系统可以在低压下最大化地运送气体。
牛津仪器科技（上海）有限公司
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产品详情

PlasmaPro 100系列刻蚀和沉积设备可安装多种衬底电极，能够在很宽的温度范围内进行工艺，具有200mm单晶圆和多晶圆批处理能力，该工艺模块可提供具有高度均匀，高产量和高精度的工艺。

  • 电极的适用温度范围宽，-150°C至400°C

  • 兼容200mm以下所有尺寸的晶圆

  • 快速更换到不同尺寸的晶圆工艺

  • 购置成本低且易于维护

  • 紧密的设计，布局灵活

  • 实时清洗和终点监测

我们的设备和工艺已通过充分验证，正常运转时间可达90%以上，一旦设备安装完毕，可立即投入使用。PlasmaPro 100系列市场应用广，包括但不限于： MEMS和传感器，光电子，分立元器件和纳米技术。它具有研究和开发需要的灵活性， 同时具备量产所需要的质量可靠性。

特征

牛津仪器的PlasmaPro 100系列具有200mm单晶圆和多晶圆批处理能力。该工艺模式可提供出色的均匀性，高产量和高精度的工艺。

  • 通过均匀的高导通路径连接的腔室，将反应粒子输送到衬底 - 在维持低气压的同时，允许使用较高的气体通量

  • 高度可变的下电极 - 充分利用等离子体的三维特性，在适合的高度条件下，衬底厚度最大可达10mm

  • 电极的温度范围宽（-150°C至+ 400°C），可通过液氮，液体循环制冷机或电阻丝加热 - 可选的吹排及液体更换单元可自动进行模式切换

  • 由再循环制冷机单元供给的液体控温的电极 - 出色的衬底温度控制

  • 射频功率加载在喷头上，同时优化气体输送 - 提供具有低频/射频切换功能的均匀的等离子体工艺，可精确控制薄膜应力

  • ICP源尺寸为65mm，180mm，300mm - 确保最大200mm晶圆的工艺均匀性

  • 高抽气能力 - 提供了更宽的工艺气压窗口

  • 晶圆压盘与背氦制冷 - 更适合的晶片温度控制

应用

  • III-V族材料的刻蚀工艺

  • 固体激光器InP刻蚀

  • VCSEL GaAs/AlGaAs刻蚀

  • 射频器件低损伤GaN刻蚀

  • 硅 Bosch和超低温刻蚀工艺

  • 类金刚石（DLC）沉积

  • 二氧化硅和石英刻蚀

  • 用特殊配置的PlasmaPro FA设备进行失效分析的干法刻蚀解剖工艺，可处理封装好的芯片、 裸晶片以及200mm晶圆

  • 沉积高质量的PECVD氮化硅和二氧化硅薄膜，用于光子学、电介质层、钝化等诸多其它用途

  • 用于高亮度LED生产的硬掩模沉积和刻蚀

牛津仪器科技（上海）有限公司为您提供牛津仪器PlasmaPro 100 Cobra刻蚀和沉积设备，牛津仪器PlasmaPro 100 Cobra产地为英国，属于进口镀膜机，除了牛津仪器PlasmaPro 100 Cobra刻蚀和沉积设备的参数、价格、型号、原理等信息外，还可为您提供牛津仪器PlasmaPro100 Estrelas刻蚀设备、牛津仪器Etch刻蚀工艺、牛津仪器PECVD等离子体处理系统,牛津仪器客服电话400-860-2711，售前、售后均可联系。

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