考夫曼上海伯东美国 KRi 射频离子源 RFICP 100_价格-伯东公司德国普发真空pfeiffer

上海伯东美国 KRi 射频离子源 RFICP 100

参考价：面议

型号：

RFICP 100

产地：

美国

品牌：

考夫曼

评分：

产品详情

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KRI 射频离子源 RFICP 100
上海伯东代理美国原装进口 KRI 考夫曼型离子源 RFICP 100 紧凑设计, 适用于离子溅镀和离子蚀刻. 小尺寸设计但是可以输出 >400 mA 离子流. 考夫曼型离子源 RFICP 100 源直径19cm 安装在10”CF 法兰, 在离子溅镀时, 离子源配有离子光学元件, 可以很好的控制离子束去溅射靶材, 实现完美的薄膜特性. 在离子刻蚀工艺中, 离子源与离子光学配合, 蚀刻更均匀. 标准配置下 RFICP 100 离子能量范围 100 至 1200ev, 离子电流可以超过 400 mA.

KRI 射频离子源 RFICP 100 技术参数

型号	RFICP 100
Discharge 阳极	RF 射频
离子束流	>350 mA
离子动能	100-1200 V
栅极直径	10 cm Φ
离子束	聚焦, 平行, 散射
流量	5-30 sccm
通气	Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他
典型压力	< 0.5m Torr
长度	23.5 cm
直径	19.1 cm
中和器	LFN 2000

KRI 射频离子源 RFICP 100 应用领域
预清洗
表面改性
辅助镀膜(光学镀膜) IBAD,
溅镀和蒸发镀膜 PC
离子溅射沉积和多层结构 IBSD
离子蚀刻 IBE

客户案例: 超高真空离子刻蚀机 IBE, 真空度 5E-10 torr, 系统配置如下
美国 KRI 射频离子源 RFICP 100
美国 HVA 真空闸阀
 德国 Pfeiffer 分子泵 HiPace 2300

1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源中国总代理.

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上海伯东: 叶女士
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