伯东 KRI霍尔型离子源eH 3000用于提高金属涂层附着力

伯东公司德国普发真空pfeiffer

2020/06/16 17:14

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附着力实质是界面间的作用力,是有机涂层与基体间通过物理和化学作用结合在一起的牢固程度,它主要包括两方面内容:有机涂层与金属基体间相互结合的能力及有机涂层分子间交联的程度.

涂层与基体间的结合力越大越好,涂层中有机溶剂挥发的越彻底,分子间的交联就越稳定,形成的涂层漆膜就越致密牢固,腐蚀介质就不容易侵蚀基体底部.

如果金属及金属镀层表面附着力较弱, 则复合上去的复合层比较容易剥落而分层, 这就容易导致质量问题, 从而引起客户的投诉, 最终影响公司的形象。

为了提高、保证金属涂层的质量, 伯东客户经过我司推荐采用KRI 考夫曼离子源 EH 3000 安装于生产设备中, 大大提高了金属涂层附着力和提高生产率.

霍尔离子源是阳极在一个强轴向磁场的协作下将工艺气体等离子化. 这个轴向磁场的强不平衡性将气体离子分离并形成离子束. 由于轴向磁场的作用太强, 霍尔离子源离子束需要补充电子以中和离子流. 常见的中和源就是钨丝（阴极）.

KRI 霍尔离子源 eH 3000 特性：
• 水冷 - 加速冷却
• 可拆卸阳极组件 - 易于维护; 维护时,最大限度地减少停机时间; 即插即用备用阳极
• 宽波束高放电电流 - 高电流密度; 均匀的蚀刻率; 刻蚀效率高; 高离子辅助镀膜 IAD 效率
• 多用途 - 适用于 Load lock / 超高真空系统; 安装方便
• 高效的等离子转换和稳定的功率控制

伯东 KRI霍尔型离子源eH 3000用于提高金属涂层附着力案例: 国内某知名金属涂层制造商
1. 离子源应用: 金属涂层
2. 离子源: 采用美国KRI 考夫曼离子源 KRi EH 3000. 离子源 EH 3000所产生超广角的离子束涵盖面积及高均匀度的离子浓度分布可以涵盖蒸镀机中大范围的载具 (substrate holder), 无论是生产良率或是均匀性都可达到最高生产效能.
4. 离子源功能: 通过 KRI EH 3000 霍尔源实现离子辅助镀膜 IBAD 及预清洁 Pre-clean 功能后, 所生产出的灯具无论是环境脱膜测试, 耐刮测试, 膜层应力测试等等… 都优于目前一般业界蒸镀机所搭配的离子源.

EH 3000 离子源本体
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EH 3000 离子源控制器

上海伯东是美国KRI 考夫曼离子源 Kaufman & Robinson, Inc 中国总代理. 美国KRI 考夫曼公司离子源已广泛应用于离子溅射镀膜 IBSD. KRI 考夫曼离子源可控制离子的强度及浓度, 使溅射时靶材被轰击出具有中和性材料分子而获得高致密, 高质量之薄膜. KRI 考夫曼离子源可依客户溅射工艺条件选择 RFICP 射频电源式KRI 考夫曼离子源或是 KDC 直流电原式KRI 考夫曼离子源.

若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请参考以下联络方式：

上海伯东: 罗先生                               台湾伯东: 王小姐
T: +86-21-5046-1322                 T: +886-3-567-9508 ext 161
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