KRI 离子源广泛用于镀膜, 半导体, 航天等各个领域, 推进关键领域科技与科学

伯东公司德国普发真空pfeiffer

2020/08/17 17:09

KRI 离子源作为一种新的材料加工技术, 用于真空环境中以沉积薄膜, 干法蚀刻纳米结构并改变表面性能. KRI 离子源的应用稳步增长. 随着人们对离子束工艺优点的认识不断提高, 工艺工程师和研究人员已经获得了理想的薄膜和表面特性, 而这些特性在不使用 KRI 离子源的情况下是无法实现的.

KRI 离子源已应用于许多已成为行业标准的过程中, 在各个行业中都发挥着重要作用:

1.镀膜行业. KRI 离子源精确的薄膜控制, 厚度为几个单层的薄膜.

2. 半导体. 金属涂层可重现的附着力, 可用于高产剥离工艺.

3.辅助刻蚀. KRI 离子源辅助蚀刻均匀性和临界尺寸, 蚀刻后的晶片具有均匀性和临界几何尺寸.

4. 显示器. KRI 离子源辅助显示器镀膜, 可以更好表面修饰和纹理化, 以放大表面功函数.

5. 运用 KRI 离子源辅助精密光学器件镀膜, 具有优化的折射率和低吸收率的致密且稳定的薄膜.

6. 磁性数据存储. 金属和电介质多层堆叠中的纳米特征的各向异性和均匀蚀刻.

7. KRI 离子源用于镜片镀膜. 高通量制造可粘附在塑料镜片上的耐用增透膜.

8. KRI 离子源用于医疗设备, 表现出可设计的生物活性的坚硬且耐腐蚀的有机涂层.

9. KRI 离子源用于光子学和激光, 可得到平滑, 低散射和光学纯净的膜, 具有较高的激光诱导损伤阈值.

除了以上领域, KRI 离子源还运用更广泛的领域.

KRI 离子源提供了超过25年商业离子, 等离子和电子源设备的许可协议, 与它的客户, 谁制造和销售的产品. 2002年, KRI 修改了业务模式, 并凭借自己的离子, 等离子体和电子源产品进入了市场. KRI 离子和电子源设计取得了巨大的商业成功, 通过授权客户运送了3500多个离子源.

KRI 离子源是领域公认的领导zhe, 我们已获得许多专利.

伯东公司为 KRI 离子源大中国区总代理.

伯东是德国 Pfeiffer 真空泵, 检漏仪, 质谱仪, 真空计, 美国 KRI 考夫曼离子源, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口知名品牌的指定代理商.

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