伯东 KRI 离子源辅助蒸发沉积镀铝膜, 改善铝膜结构及耐腐蚀性

伯东公司德国普发真空pfeiffer

2020/09/17 13:42

铝膜具有电位低, 在基体上附着性好、经济实惠, 同时铝膜与铝合金构建连接的紧固件表面, 防止发生电偶腐蚀破坏铝合金结构件. 除此之外, 铝做到耐腐蚀防护膜层时, 无氢脆现象, 不会影响基体的本身性能, 并解决了与钛合金连接件接触的电偶腐蚀等优点, 是优良的腐蚀防护材料. 因此, 铝膜在蒸发沉积镀膜中广泛使用。

蒸镀是在真空状态下, 将镀料加热蒸发或者升华, 使之在工件或基体表面沉积的工厂, 蒸镀具有简单便利、操作容易、沉积速率快等优点, 但存在膜基结合力不理想, 膜层不致密的缺点.

为了解决蒸镀的缺点, 某国内精密仪器镀膜制造商采用伯东 KRI 离子源进行辅助蒸镀.

该制造商采用伯东 KRI 射频离子源 RFICP 380, 同时为了为镀膜工业提供稳定的合适的真空环境, 伯东工程师为制造商搭配大抽速分子泵组 Hicube 700 Pro, 采用金属密封, 极限真空度可达1x10-7hpa, 抽速可达 685 L/s, 很好保证成膜质量.

美国 KRI 射频离子源 RFICP 380 特性:

1. 大面积射频离子源

2. 提供高密度离子束, 满足高工艺需求

3. 采用射频技术产生离子, 无需电离灯丝, 工艺时间更长, 更适合时间长的工艺要求

4. 离子束流: >1500 mA

5. 离子动能: 100-1200 V

6. 中和器: LFN 2000

7. 采用自动控制器, 一键自动匹配

8. RF Generator 可根据工艺自行选择离子浓度, EX: 1kW or 2kW

9. 离子源采用模块化设计, 方便清洁/ 保养/ 维修/ 安装

10. 栅极材质钼和石墨, 坚固耐用

11. 通入气体可选 Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, others

离子源辅助蒸镀运行原理:

在蒸镀时, 通过 KRI 离子源的作用, 使Ar原子离化成Ar+, 产生辉光放点现象, 离子在电场中将蒸发出来的Al原子离化成Ar+, 这些等离子体在电场的作用下对基体进行轰击和镀膜.

运行结果：

蒸镀中由于离子辅助技术的注入, 改善了蒸镀铝膜的组织, 基膜结合力高、耐腐蚀性更好、提高了合金的微动疲劳抗力

上海伯东是美国考夫曼公司 KRI离子源的国内总代理商, 其中KRI 离子源主要型号有:

KRI 射频离子源 RFICP 系列： RFICP 380、RFICP 220、RFICP 140 、RFICP 100、 RFICP 40

KRI 考夫曼离子源 Gridded KDC 系列： KDC 160、KDC 100、KDC 75、KDC 40、KDC 10

KRI 霍尔离子源 Gridless eH 系列:eH 3000、eH 2000、eH 1000、eH 400、eH Linear

若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请参考以下联络方式:

上海伯东: 罗先生                               台湾伯东: 王女士
T: +86-21-5046-1322                 T: +886-3-567-9508 ext 161
F: +86-21-5046-1490                        F: +886-3-567-0049
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