KRI 考夫曼射频离子源 RFCIP380 溅射镀制 TC4 表面 TiN 涂层

武汉某大学研究中心为了改善 TC4 表面性能采用KRI 考夫曼射频离子源 RFCIP380溅射镀制 TC4 表面 TiN 涂层,  提高钛合金表面耐磨耐腐蚀性能提高高温抗氧性能.

 

伯东 KRI 射频离子源 RFICP380 技术参数:

射频离子源型号

RFICP380

Discharge 阳极

射频 RFICP

离子束流

>1500 mA

离子动能

100-1200 V

栅极直径

30 cm Φ

离子束

聚焦平行散射

流量

15-50 sccm

通气

Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

典型压力

< 0.5m Torr

长度

39 cm

直径

59 cm

中和器

LFN 2000

 KRI 考夫曼离子源 RFICP 380

客户采用 KRI 考夫曼射频离子源 RFCIP380 产生离子束不断轰击源极靶材和工件工件在离子束轰击下迅速被加热至高温源极靶材在轰击作用下溅射出的合金元素不断奔向工件表面经沉积扩散过程形成一定厚度的涂层.

 

运行结果:

1. 具有沉积薄膜速度快厚度容易控制等特点

2. 涂层的SEM形貌观测显示涂层均匀致密无明显孔洞缺陷涂层厚度约为10um, 过度层厚度约为3um.

3. 涂层的力学性能及磨损性能分析显示涂层的临界载荷达到81.75N, 远远满足工程要求涂层与基体结合良好.

4. 在高温(500℃)下, TiN的摩擦系数更稳定.

 

伯东是德国 Pfeiffer 真空泵检漏仪质谱仪真空计美国 KRI 考夫曼离子源美国HVA 真空阀门美国 inTEST 高低温冲击测试机美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口知名品牌的指定代理商.


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