质谱分析仪保护 CVD 工艺免受干泵故障的影响

2022/03/30   下载量: 0

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应用领域 机械设备
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参考标准 残余气体分析

Aston™ 质谱分析仪通过在故障前, 提前更换或使干泵离线, 可以减轻灾难性的真空损失, 从而提高生产线产量.数据驱动干泵故障预测. 通过测量进入 (进气) 和排出 (排气) 干泵的气体的分子类型和合格性 (分压), 可以模拟破坏性腐蚀或沉积物堆积. 仅气体压力和体积仅部分指示气流的腐蚀性或堵塞性. 至关重要的是流经干泵的气体成分. Aston™ 质谱分析仪通过对干泵暴露在气体浓度下的情况进行建模, 并将模型与实际泵故障相关联, 可以以高置信度预测干泵的预期运行寿命.

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Aston™ 质谱分析典型应用: 保护 CVD 工艺免受干泵故障的影响


  空泵是半导体加工厂中应用最广泛的设备之一. 它们对各种化学气相沉积工艺至关重要, 这些工艺在真空下运行, 以确保在较低的加工温度下获得均匀, 保形的沉积涂层. 干泵通常是惰性且可靠的, 但在苛刻的半导体制造工艺中进行泵送时, 干泵可能会出现意外故障.

灾难性故障
  电介质沉积冷凝液和苛刻的工艺气体 (如NF3) 可能会导致性能下降或突然失效模式, 包括沉积物突然吸入, 排气堵塞, 导致泵卡住的沉积以及泵部件的腐蚀性退化. 泵故障通常会对 10个甚至 100个在制品晶圆造成不可修复的损坏. 此外, 工具停机和清理可能会导致大量开支和收入损失.


CVD 工艺过程中, 已污染的干泵

上海伯东 Aston™ 质谱分析提供解决方案
  通过在故障前, 提前更换或使干泵离线, 可以减轻灾难性的真空损失, 从而提高生产线产量.


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