陶瓷null检测 | 上海伯东 Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-J 用于陶瓷板 Pt、Au、Cr 薄膜刻蚀-伯东公司德国普发真空pfeiffer

方案摘要

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应用领域	材料
检测样本	陶瓷
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参考标准	/

深圳某电子公司采用Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-J 对陶瓷板的 Pt、Au、Cr 薄膜刻蚀, 高端印制电路板生产为主

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配置单

伯东离子蚀刻机 IBE
型号： IBE

¥150万 - 200万
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方案详情

深圳某电子公司采用Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-J 对陶瓷板的 Pt、Au、Cr 薄膜刻蚀, 高端印制电路板生产为主

Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-J 技术参数

Φ4 inch X 12片	基片尺寸	Φ4 inch X 12片 Φ5 inch X 10片 Φ6 inch X 8片
	均匀性	±5%
	硅片刻蚀率	20 nm/min
	样品台	直接冷却,水冷
	离子源	Φ20cm 考夫曼离子源

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Hakuto 离子刻蚀机 20IBE-J 的核心构件离子源采用的是伯东公司代理美国考夫曼博士创立的 KRI考夫曼公司的射频离子源 RFICP220

伯东 KRI 射频离子源 RFICP 220 技术参数:

离子源型号	RFICP 220
Discharge	RFICP 射频
离子束流	>800 mA
离子动能	100-1200 V
栅极直径	20 cm Φ
离子束	聚焦, 平行, 散射
流量	10-40 sccm
通气	Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他
典型压力	< 0.5m Torr
中和器	LFN 2000

推荐 Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-J 理由:

1. 客户要求规模化生产, Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-J 适合大规模量产使用

2. 刻蚀均匀性 ±5%, 满足客户要求

3. 工作台冷却方式: 直接水冷

4. 样品装载数: 18片/批（2″）或4片/批（4″）

伯东离子蚀刻机应用领域

上海伯东是德国 Pfeiffer 真空设备, 美国 KRI 考夫曼离子源, 美国Gel-pak 芯片包装盒, 美国 inTEST 高低温冲击测试机，日本 NS 离子蚀刻机, 比利时 Stratasys 3D 打印机, 比利时原装进口 Europlasma 等离子表面处理机和美国 Ambrell 感应加热设备等进口知名品牌的指定代理商 .我们真诚期待与您的合作!

若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请联络

上海伯东: 罗女士

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文献贡献者

伯东公司德国普发真空pfeiffer

金牌会员丨第17年

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