Hakuto 离子蚀刻机 10IBE 用于制作闪耀罗兰光栅

2024/08/16   下载量： 0 次

方案摘要

方案下载
应用领域 材料
检测样本 陶瓷
检测项目
参考标准 /

长春某研究所在制作闪耀罗兰光栅的研究中采用伯东 Hakuto 离子蚀刻机 10IBE,制造出的闪耀罗兰光栅比其他工艺制造的光栅产品整体衍射效率高25%, 实现高衍射效率闪耀罗兰光栅制作, 且工艺可控、稳定, 所制作的闪耀罗兰光栅衍射效率高于市场同类产品.

方案下载
配置单
方案详情

长春某研究所在制作闪耀罗兰光栅的研究中采用伯东 Hakuto 离子蚀刻机 10IBE,制造出的闪耀罗兰光栅比其他工艺制造的光栅产品整体衍射效率高25%, 实现高衍射效率闪耀罗兰光栅制作, 且工艺可控、稳定, 所制作的闪耀罗兰光栅衍射效率高于市场同类产品.


Hakuto 离子蚀刻机 10IBE 技术参数:

基板尺寸

< Ф8 X 1wfr

样品台

直接冷却（水冷）0-90 度旋转

离子源

16cm 考夫曼离子源

均匀性

±5% for 4”Ф

硅片刻蚀率

20 nm/min

温度

<100



 

Hakuto 离子刻蚀机 10IBE  离子源是配伯东公司代理美国考夫曼博士创立的 KRI考夫曼公司的考夫曼离子源 KDC 160


 

伯东美国 KRI 考夫曼离子源 KDC160 技术参数：

 离子源型号

 离子源 KDC 160 

Discharge

DC 热离子

离子束流

>650 mA

离子动能

100-1200 V

栅极直径

16 cm Φ

离子束

聚焦, 平行, 散射

流量

2-30 sccm

通气

Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

典型压力

< 0.5m Torr

中和器

灯丝

 


伯东离子蚀刻机应用领域



上海伯东是德国 Pfeiffer  真空设备, 美国  KRI 考夫曼离子源, 美国Gel-pak 芯片包装盒, 美国 inTEST 高低温冲击测试机， 日本 NS 离子蚀刻机, 比利时 Stratasys 3D 打印机, 比利时原装进口 Europlasma 等离子表面处理机 和美国 Ambrell 感应加热设备 等进口知名品牌的指定代理商 .我们真诚期待与您的合作!

若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请联络

上海伯东: 罗女士


上海伯东版权所有, 翻拷必究！



上一篇 上海伯东 Europlasma 等离子表面处理设备在医疗器械行业的应用
下一篇 Hakuto 离子蚀刻机20IBE-J 用于陶瓷基片银薄膜减薄

文献贡献者

伯东公司德国普发真空pfeiffer
金牌会员 丨 第17年
查看全部资料
相关仪器 更多
相关方案
更多

相关产品

当前位置： 上海伯东 方案 Hakuto 离子蚀刻机 10IBE 用于制作闪耀罗兰光栅

关注

拨打电话

留言咨询