南京理工大学代表团结束在Ulvac-PHI公司一周高级培训

北京创元冠国际科技有限公司(原滨州创元设备机械制造有限公司)

2014/09/03 12:52

8月18日-25日王道元董事长全程陪同南京理工大学光电学院以钱教授为首的3人代表团访问日本Ulvac-PHI公司。此行受到木村取缔役等热情接待。在公司实验室里就ARXPS，表面逸出功测定，复杂数据处理等方面和日方专家进行了充分的讨论。双方都表示对培训效果十分满意。希望南京理工大学新近购买的第2台XPS(PHI5000 VersaProbe II)在今后科研中发挥更大作用。

钱教授一行还对该公司的样品处理室表示极大兴趣。该样品处理带有的如下功能。希望大家喜欢。

1. 该样品处理室内具有独立真空系统真空度可达到5x10-6Pa　

2. 多样品停放机构可放5个直径25mm的样品托

3. 加热冷却机构 -150℃到800℃

4. 气体反应室最大温度800℃（密封气体时）500℃（流动气体时）最大压力是2个大气压，反应气路由SUS316和石英，蓝宝石构成。该装置可以将气体密封在其中。所以反应气体可以在无泄漏条件下引入反应室。

5. 快速进样定位CCD

6. 真空传送机构为防止样品进入分析室前暴露大气，对分析二次电池等非常有用

7. 在ICF070扩展接口2个45℃方向上可以安装电子枪，离子枪，光电子倍增管以及反光电发射谱装置（IPES）

8. 扩展端口用于接冷却断裂，接红外加热炉等以满足各种客户需求。

该样品处理室也可以和原有快速进样系统和在一起。详细请见附属资料PHI5000VersaProbe II，VerssaPrep和VersaLock中文资料。

ULVAC-PHI,INC.公司是世界上规模最大的唯一一个能够同时提供4种纳米表面成分状态分析仪器的公司。这4种仪器分别是X射线微区聚焦扫描光电子能谱仪（XPS），双筒镜俄歇电子能谱仪（AES），飞行时间型二次离子质谱仪（TOF-SIMS）和动态二次离质谱仪（D-SIMS）。这些超高真空分析仪器广泛用于各种高技术领域，如纳米科技，微电子，记录媒体，光催化，生物医学以及基础材料研究领域，如金属，聚合物，各种涂层等。尤其对新材料的研发和故障分析具有十分重要的意义。XPS不仅在表面定量方面独具特色，化学状态方面信息的提供对研究十分有价值。而AES可获得纳米级微区成分和图像的能力对纳米科技发展具有十分重要价值。TOF-SIMS除了可以高灵敏度地检测出包括氢在内的所有元素外，还可以提供表面1纳米信息深度的有机物分子结构的信息。D-SIMS对材料中微量成分检测灵敏度最高，深受半导体界用户的青睐。

该公司于1982年成立，当初是日本ULVAC术株式会社和美国PHYSICAL ELECTRONICS的合资公司。2003年日方兼并美方。该公司本部设在日本神奈川县茅崎市，在美国设有子公司，在世界各地拥有广泛用户和维修点。自从80年代进入中国市场开始和清华大学合作以来，已经拥有40余家用户，2006年又和清华大学建立了国家级表面联合实验室。2007年和上海师范大学开始合作，为该校提供中国第一台多功能平台X射线微区聚焦扫描光电子能谱仪---PHI5000VersaProbe.2009年6月，7月分别在天津46所和南京大学分析中心招标中PHI5000VersaProbe以最高价中标。尤其以下2个方面深受用户欢迎，引领XPS发展方向。

1．聚焦X射线扫描成像功能→能够帮助客户找到

肉眼看不到的微区

２．微区sensitivity方面世界第一，高于竞争对手一个数量级。已然达到实用化阶段。

2010年7月Ulvac-PHI公司在北京理工大学独家招标采购中标，北京理工大学也是看中了我们的上述2个特点以及独一无二的C60有机物剥离粒子枪。

2011年和2013年南京理工大学分别连续2次独家采购PHI Quantera II 和PHI5000VersaProbeII也是对我司XPS独特功能的充分肯定。

希望大家关注PHIQuantera II,PHI5000VersaProbe,PHIX-Tool,PHI710,PHINanoTOF-SIMS,PHIAdept1010.详见本公司仪器展资料中心。

http://www.instrument.com.cn/netshow/sh101696/down_472159.htm

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