日本真空理工公司推出最新红外线加热炉Mila-5000
随着半导体制造工艺朝着高密度,高集成方向的迅速发展,科技研发人员将对RTP(Rapid Thermal Processing)的加热技术更加关注。继MILA-3000系列之后最近日本真空理工公司推出新型MILA-5000红外线加热炉.该加热炉具有快速加热和快速冷却的功能,无环境污染等特长,并同高精的温度控制器组合为一体。具有价格低,体积小,性能高等特点。对于记忆材料和强导电体相关的RTP研究工作,MILA-5000红外线加热炉将提供更广泛的测量领域。
主要用途
强诱导体薄膜的结晶化退火
注入离子后的扩散退火
半导体材料的烧成与退火条件研究
玻璃基板的均热退火
热循环试验与热冲击试验
升温脱离试验与触媒试验
特点
50/sec的快速加热
试样在保护管内加热,所以气氛可选择真空,各种气体,流动气体
试样温度与程序设定温度同时显示,可完成精密的温度控制
技术指标
见附属文件
http://www.instrument.com.cn/netshow/sh101696/down_472160.htm
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