美国 k-Space 公司产品

北京创元冠国际科技有限公司(原滨州创元设备机械制造有限公司)

2012/10/31 15:55

反射式高能电子衍射仪分析系统（kSA400 ）Analytical RHEED System

kSA400 RHEED分析系统是全球最专业的RHEED分析系统，适合各种RHEED系统和薄膜沉积系统，结合优质的硬件和功能强大的软件为客户提供最广泛的RHEED分析信息，并同时可扩展LEED的功能。

原位薄膜应力计（kSA MOS）

原位薄膜应力计时带有为了过程控制需要的高度集成实时反馈功能的薄膜应力和晶圆翘曲度的测量工具。采用非接触激光MOS技术；不但可以精确的对样品表面应力分布进行统计分析，而且还可以进行样品表面二维应力，曲率成像分析；客户可自行定义选择使用任何一个或者一组激光点进行测量；并且这种设计始终保证所有阵列的激光光点始终在同一频率运动或扫描，从而有效的避免了外界振动对测试结果的影响；同时大大提高了测试的分辨率；适合各种材质和厚度薄膜应力分析；该设备已广泛被全球著名高等学府，半导体和微电子制造商。

半导体薄膜基片温度实时监控装置（kSA BandiT）

半导体薄膜基片温度实时监控装置(kSA BandiT)是一种非接触，实时谱带吸收式半导体镜片温度传感器。它才有谱代随温度变化的半导体材料，可以监测高温计所不能测量的晶片温度。利用kSA BandiT能实时提供包膜生长过程中整个镜片的温度分布全图。目前没有一个原位光学温度监测器的可靠性能与
kSA BandiT匹敌。

沉积速率监测和过程控制系统（kSA RateRat Pro）Real-time Deposition Rate Monitoring

仪器简介：全球最专业的薄膜沉积速率监控系统，采用无损的激光技术实时原位检测薄膜沉积速率、薄膜厚度以及光学常量，广泛的应用于金属有机化学气象沉积MOCVD、分子束外延MBE、溅射系统Sputtering和蒸发系统等薄膜沉积过程的实时原位监控。

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