PECVD沉积
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参考价:¥80万 - 100万
型号: Minilock-Orion III PECVD
产地: 美国
品牌: Trion
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PECVD沉积

Minilock-Orion III是一套最先进的等离子增强型化学汽相沉积(PECVD)系统。 系统的下电极尺寸可为200mm或300mm,且根据电极配置,可以处理单个基片或带承片盘的基片(3”- 300mm尺寸),或者多尺寸批处理基片(4x3”; 3x4”; 7x2”)。
Minilock-Orion III用于有毒/发火PECVD工艺。沉积薄膜:氧化物、氮氧化物、氮化物、无定形硅和碳化硅。工艺气体:100%硅烷、氨、TEOS、二乙基硅烷、氧化亚氮、氧、氮、三甲基硅烷和甲烷。
该系统可选配一个三极管(Triode)或电感耦合等离子(ICP)源。三极管源使得用户可以创建高密度等离子,从而控制薄膜应力。
基片通过预真空室装入工艺室,其避免了与工艺室以及任意残余沉积副产品接触,从而提高了用户的安全性。预真空室还使得工艺室始终保持在真空下,从而保持反应室与大气隔绝。

德国韦氏纳米系统有限公司为您提供TrionPECVD沉积Minilock-Orion III PECVD,TrionMinilock-Orion III PECVD产地为美国,属于其他,除了PECVD沉积的参数、价格、型号、原理等信息外,还可为您提供更多其他,德国韦氏纳米系统客服电话400-860-5168转3855,售前、售后均可联系。

典型用户
用户单位 采购时间
西安交通大学 2012/08/17

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