| 型号： | Model 800E |
| 产地： | 美国 |
| 品牌： | OAI |
| 评分： |
|
OAI 超过35年的历史
按照您的具体规格设计和制造紫外线仪器和曝光系统在世界范围内亨有声誉
无论复杂还是简单，OAI都有最聪明的解决方案。
Model 800E 型正面和背面半自动掩模曝光系统提供了昂贵的自动化生产掩模对准器中最常见的先进功能和规格。随着这款掩模曝光系统的开发，OAI 通过专为研发和小批量生产而设计的新型掩模曝光系统来应对动态半导体和 MEMS 市场日益增长的挑战。
Model 800E 基于 OAI 经过验证的模块化平台构建，是一款增强型、高性能、高分辨率光刻系统，能够以极具吸引力的价格提供一定水平的性能。该对准器系统采用 OAI 的先进光束光学器件，可提供卓越的均匀性。800E 型可使用 OAI 的精密光刻模块进行升级，是实验室或小批量生产中的高度通用工具。800E 型采用 Windows 7 PC 控制平台，具有大量配方存储容量。该系统还配备了操纵杆控制的对准和光学平台，并且可以配置非接触式、3 点楔形效应校正和自动对准功能。这些组合功能通常出现在自动化生产掩模对准系统中，但现在可以在 Model 800E 上以更实惠的价格获得。
800E 型的独特之处在于它包含了 OAI 6000 型生产掩模对准器工具中的先进功能。通过利用经过验证的 OAI 模块化掩模对准器平台，我们能够采用更先进的工具中的技术，以更实惠的价格生产强大的系统。
标准正面功能：
双100万像素分辨率CCD相机
最大8英寸的基板，掩膜尺寸9' X 9''
Windows PC 控制，带配方储存功能
调整和定位的电动操纵杆
曝光模式：真空、硬软接触和接近模式
自动楔形效应补偿
标准背面功能：
包含正面所有功能
另外2个CCD相机
数码变焦
电动背面光学对焦
相关产品
工商信息
信息已认证
关注
拨打电话
留言咨询
